移動体装置及び移動体駆動方法、露光装置、並びにデバイス製造方法
【課題】移動体が自重支持部材相互間で受け渡される際に、その自重に起因する歪みを抑制すること。
【解決手段】
第１自重キャンセラ装置７０は、定盤５１上でプレートテーブルＴＢａの自重を支持するとともに、定盤５１上を２次元移動可能に設けられている。また、第２自重キャンセラ装置３０は、定盤５１とは床面Ｆ上でプレートテーブルＴＢａの自重を支持する。第１及び第２自重キャンセラ装置相互間でプレートテーブルＴＢａを受け渡す際には、第１及び第２自重キャンセラ装置３０，７０相互間の間隔を一時的にプレートテーブルＴＢａの寸法より小さくした状態でプレートテーブルＴＢａを駆動する。
【解決手段】
第１自重キャンセラ装置７０は、定盤５１上でプレートテーブルＴＢａの自重を支持するとともに、定盤５１上を２次元移動可能に設けられている。また、第２自重キャンセラ装置３０は、定盤５１とは床面Ｆ上でプレートテーブルＴＢａの自重を支持する。第１及び第２自重キャンセラ装置相互間でプレートテーブルＴＢａを受け渡す際には、第１及び第２自重キャンセラ装置３０，７０相互間の間隔を一時的にプレートテーブルＴＢａの寸法より小さくした状態でプレートテーブルＴＢａを駆動する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、移動体装置及び移動体駆動方法、露光装置、並びにデバイス製造方法に係り、更に詳しくは、所定平面に沿って移動可能な移動体を含む移動体装置及び前記移動体を駆動する移動体駆動方法、前記移動体装置を備える露光装置、並びに前記露光装置を用いるデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示素子等の電子デバイス（マイクロデバイス）や、半導体素子（集積回路等）を製造するリソグラフィ工程では、主として、ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（いわゆるステッパ）、あるいはステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））などが用いられている。
【０００３】
この種の露光装置において高いスループットを実現するために、ガラスプレート又はウエハ等の被露光物体を保持する可動テーブルを複数、例えば２つ設け、その２つの可動テーブルを用いて異なる２つの動作を並行して処理する、いわゆるツインステージ（デュアルステージ）方式の露光装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
この特許文献１に開示される露光装置では、第１の処理、例えば被露光物体に露光処理を行う領域に配置された第１ステージ装置と、第２の処理、例えば被露光物体のアライメント計測を行う領域に配置された第２ステージ装置との間で、被露光物体を保持する２つの可動テーブルが、ステーションと称される搬送装置を介して巡回的に移動される。
【０００５】
しかるに、近年、被露光物体、特にガラスプレートは、液晶表示素子の大型化に伴って大型化される傾向にあり、ガラスプレートやガラスプレートを保持する可動テーブルの自重による撓みが無視できないものとなっている。一方、このように大型化したガラスプレートに対し、特許文献１に開示されるようなツインステージ方式の露光装置を用いて露光処理を行う場合、可動テーブルが各ステージ装置から分離して移動するため、可動テーブル及びこの可動テーブルが保持するガラスプレートに撓みが発生しやすい。
【特許文献１】特開２００４−２６０１１５号公報
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の事情の下でなされたもので、第１の観点からすると、定盤上を移動する移動体を備えた移動体装置であって、前記移動体の自重を前記定盤上で支持するとともに、前記定盤上を２次元移動可能な第１の自重支持部材と；前記定盤とは別の土台上で前記移動体の自重を支持するとともに、前記第１の自重支持部材とは独立して１次元又は２次元に移動可能な第２の自重支持部材と；前記移動体の２次元移動時には、該移動に連動して前記第１の自重支持部材を移動させるともに、前記移動体を前記第１及び第２の自重支持部材相互間で受け渡す際には、前記第１及び第２の自重支持部材相互間の間隔が一時的に前記移動体の寸法より小さくなるように、前記第１及び第２の自重支持部材の少なくとも一方を駆動する駆動系と；を備える移動体装置である。
【０００７】
これによれば、移動体は、定盤上では、第１の自重支持部材によって自重が支持され、定盤とは別の土台上では、第２の自重支持部材によって自重が支持される。また、駆動系は、移動体が定盤上を移動する場合には、この移動に連動して第１の自重支持部材を移動させ、移動体を第１及び第２の自重支持部材相互間で受け渡す際には、第１及び第２の自重支持部材相互間の間隔が一時的に移動体の寸法より小さくなるように、各自重支持部材の少なくとも一方を駆動する。従って、移動体は、第１及び第２の自重支持部材相互間で受け渡たされる場合であっても、第１及び第２の自重支持部材の少なくとも一方にその自重が支持された状態が維持される。
【０００８】
本発明は、第２の観点からすると、２つの移動体を備えた移動体装置であって、定盤と；第１移動体と第２移動体の一方の自重を前記定盤上で支持するとともに、前記定盤上を２次元移動可能な第１の自重支持部材と；少なくとも前記一方の移動体が所定の処理作業に従事している間、他方の移動体の自重を前記定盤又は別の土台上で支持するとともに、前記第１の自重支持部材とは独立して１次元又は２次元に移動可能な第２の自重支持部材と；前記一方の移動体の２次元移動と連動して前記第１の自重支持部材を移動させるとともに、前記第１又は第２移動体を前記第１及び第２の自重支持部材相互間で受け渡す際には、前記第１及び第２の自重支持部材相互間の間隔が、一時的に受け渡し対象の移動体の寸法より小さくなるように、前記第１及び第２の自重支持部材の少なくとも一方を駆動する駆動系と；を備える移動体装置である。
【０００９】
これによれば、第１移動体と第２移動体の一方の自重が第１の自重支持部材によって定盤上で支持され、この一方の移動体が所定の処理作業に従事している間、定盤又は別の土台上では、他方の移動体の自重が、第２の自重支持部材によって支持される。また、駆動系は、移動体（第１移動体又は第２移動体）が定盤上を移動する場合には、この移動体に連動するように第１の自重支持部材を移動させ、この移動体を第１及び第２の自重支持部材相互間で受け渡す際には、第１及び第２の自重支持部材相互間の間隔が一時的に受け渡し対象の移動体の寸法より小さくなるように、第１及び第２の自重支持部材の少なくとも一方を駆動する。従って、移動体は、第１及び第２の自重支持部材相互間で受け渡たされる場合であっても、第１及び第２の自重支持部材の少なくとも一方にその自重が支持された状態が維持される。
【００１０】
本発明は、第３の観点からすると、エネルギビームの照射によって物体にパターンを形成する露光装置であって、前記物体が前記移動体上に載置される、本発明の移動体装置と；前記移動体上に載置された前記物体に前記エネルギビームを照射するパターニング装置と；を備える露光装置である。
【００１１】
本発明は、第４の観点からすると、本発明の露光装置を用いて物体を露光することと、前記露光された物体を現像することと；を含むデバイス製造方法である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の一実施形態を図１〜図７（Ｅ）に基づいて説明する。
【００１３】
図１には、本発明の一実施形態に係る液晶露光装置１００の概略構成が示されている。この液晶露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置、いわゆるスキャナである。
【００１４】
液晶露光装置１００は、図１に示されるように、照明系１０、マスクＭを保持するマスクステージＭＳＴ、投影光学系モジュールＰＬＭ、２つのプレートテーブルＴＢａ，ＴＢｂを含むツインテーブル（デュアルテーブル）構造のステージ装置５０、第１アライメント系群ＡＬａ、及び第２アライメント系群ＡＬｂ、並びにこれらの制御系等を備えている。図１において、２つのプレートテーブルＴＢａ，ＴＢｂそれぞれには、ＸＹ平面（水平面）に沿ってガラス基板Ｐａ、Ｐｂ（以下、それぞれプレートＰａ，Ｐｂと呼ぶ）が載置されている。以下においては、マスクＭとプレートＰａ、Ｐｂとが相対走査される方向をＹ軸方向とし、ＸＹ平面内でこれに直交する方向をＸ軸方向、Ｘ軸及びＹ軸に直交する方向をＺ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転（傾斜）方向をそれぞれθｘ、θｙ、及びθｚ方向として説明を行う。なお、図２に示されるように、ステージ装置５０は、プレートテーブル駆動装置６０及び第１自重キャンセラ装置駆動装置８０を備えているが、図示の簡略化のため、図１では、プレートテーブル駆動装置６０及び第１自重キャンセラ装置駆動装置８０が省略されている。
【００１５】
照明系１０は、後述する投影光学モジュールＰＬＭのＸＹ断面の全てを包含する矩形領域を照明光ＩＬ（以下、適宜、露光光ともいう）で照明する。照明光ＩＬとしては、例えば、超高圧水銀ランプからの紫外域の輝線（例えばｇ線、ｉ線など）、又は波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ光あるいは波長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザ光などが用いられる。
【００１６】
マスクステージＭＳＴ上には、一方の面（図１における−Ｚ側の面）にパターン領域が形成された矩形状のマスクＭが載置されている。マスクステージＭＳＴは、リニアモータ等を含む不図示のマスクステージ駆動系を介して、所定の走査方向（Ｙ軸方向（図１における紙面内の左右方向））に所定ストロークで往復駆動されるとともに、走査方向に直交するＸ軸方向、及びθｚ方向に微小駆動される。マスクステージＭＳＴのＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転情報を含む）は、レーザ干渉計１３を含むマスク干渉計システム１７（図６参照）を介して常時計測される。マスク干渉計システム１７では、レーザ干渉計１３は、マスクステージＭＳＴに固定された移動鏡１５を用いてマスクステージＭＳＴの位置情報を計測する。なお、図１では省略されているが、移動鏡１５は、実際には、Ｙ軸方向に直交する反射面を有するＹ移動鏡（あるいは、レトロリフレクタ）とＸ軸方向に直交する反射面を有するＸ移動鏡とが設けられており、レーザ干渉計１３も、Ｙ移動鏡、Ｘ移動鏡に対応するＹ干渉計、Ｘ干渉計が設けられている。マスク干渉計システム１７の計測値は、主制御装置２０（図６参照）に送られる。
【００１７】
投影光学系モジュールＰＬＭは、マスクステージＭＳＴの図１における下方に配置されている。本実施形態の投影光学系モジュールＰＬＭは、例えば特開２００１−２１５７１８号公報（対応する米国特許第６，５５２，７７５号明細書）に開示された投影光学系モジュールと同様の構成を有している。すなわち、投影光学系モジュールＰＬＭは、千鳥状に配置された複数の投影光学系（図１では、紙面手前側の２つの投影光学系１１ａ、１１ｂのみが示され、他の投影光学系は、紙面奥側に隠れている）を含み、Ｘ軸方向を長手方向とする長方形状の単一のイメージフィールドを持つ投影光学系と同等に機能する。本実施形態では、複数の投影光学それぞれとしては、例えば両側テレセントリックでな等倍系で正立正像を形成するものが用いられている。
【００１８】
このため、本実施形態の露光装置１００では、照明系１０によってマスクＭが照明されると、投影光学系モジュールＰＬＭの物体面とパターン面がほぼ一致して配置されるマスクＭを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系モジュールＰＬＭを介してマスクＭのパターンの一部の像が、投影光学系モジュールＰＬＭの像面側に配置される、表面にレジスト（感応剤）が塗布されたプレートＰｂ（又はＰａ）上に形成される。そして、マスクステージＭＳＴと、プレートテーブルＴＢｂ（又はＴＢａ）との同期駆動によって、照明光ＩＬに対してマスクＭを走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動させるとともに、照明光ＩＬに対してプレートＰｂ（又はＰａ）を走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動させることで、プレートＰｂ（又はＰａ）上の１つのショット領域（区画領域）に対する走査露光が行われ、そのショット領域にマスクＭのパターンが転写される。すなわち、本実施形態では照明系１０、マスクＭ及び投影光学モジュールＰＬＭによってプレートＰａ、Ｐｂ上にパターンが生成され、照明光ＩＬによるプレート上の感応層（レジスト層）の露光によってプレートＰａ、Ｐｂ上にそのパターンが形成される。
【００１９】
本実施形態の露光装置１００では、図１に示されるように、投影光学系モジュールＰＬＭの−Ｙ側には、７つのオフアクシス方式のアライメント系から成る第１アライメント系群ＡＬａが、投影光学系モジュールＰＬＭの＋Ｙ側には、７つのオフアクシス方式のアライメント系から成る第２アライメント系群ＡＬｂが、それぞれ配置されている。第１アライメント系群ＡＬａ及び第２アライメント系群ＡＬｂを構成する複数のアライメント系それぞれは、図２に示されるように、定盤５１の中心を通るＹ軸に平行な直線（センターラインＣＬ）上に、所定の間隔で配置され、図示しないフレーム部材を介して床面Ｆ（図１参照）上に支持されている。第１アライメント系群ＡＬａ及び第２アライメント系群ＡＬｂを構成するアライメント系それぞれとしては、例えばプレート上のレジストを感光させないブロードバンドな検出光束を対象マークに照射し、その対象マークからの反射光により受光面に結像された対象マークの像と不図示の指標の像とを撮像素子（ＣＣＤ）等を用いて撮像し、それらの撮像信号を出力する画像処理方式のＦＩＡ（Field Image Alignment）系のセンサがそれぞれ用いられる。アライメント系ＡＬａ、ＡＬｂそれぞれからの撮像信号は、不図示の信号処理系を介して主制御装置２０（図６参照）に供給される。
【００２０】
ステージ装置５０は、図１に示されるように、定盤５１、２つのプレートテーブルＴＢａ，ＴＢｂ、プレートテーブルＴＢａ，ＴＢｂのうちの一方（図１ではプレートテーブルＴＢｂ）の自重を定盤５１上で支持する第１自重キャンセラ装置７０、第１アライメント系群ＡＬａの下方に配置された第２自重キャンセラ装置３０、第２アライメント系群ＡＬｂの下方に配置された第３自重キャンセラ装置４０、２つのプレートテーブルＴＢａ、ＴＢｂそれぞれを独立してＸ軸及びＹ軸方向に２次元駆動するプレートテーブル駆動装置６０（図１では不図示。図２参照）、及び定盤５１上で第１自重キャンセラ装置７０をＸ軸方向及びＹ軸方向に２次元駆動する自重キャンセラ装置駆動装置８０（図１では不図示。図２参照）などを含む。
【００２１】
定盤５１は、図１〜図３からわかるように、例えば石材によって形成された平面視（＋Ｚ方向から見て）矩形状の板状部材であり、床面Ｆに形成された凹部内に複数の防振機構５２を介してほぼ水平に支持されている。
【００２２】
２つのプレートテーブルＴＢａ，ＴＢｂそれぞれは、不図示のプレートホルダを介してプレートＰａ，Ｐｂを保持する部材である。プレートテーブルＴＢａ，ＴＢｂは、特に説明する場合を除き、実質的に同じ機能及び構造を有していることから、以下、これらを代表してプレートテーブルＴＢａについて説明する。プレートテーブルＴＢａは、図1及び図３に示されるように、後述するプレートテーブル駆動装置６０を介してＸＹ平面内を２次元移動する粗動テーブルＣＴＢａと、この粗動テーブルＣＴＢａ上に搭載された微動テーブルＦＴＢａとを有する。なお、図３において、プレートテーブルＴＢｂは、プレートテーブルＴＢａに対して紙面奥側に隠れている。
【００２３】
粗動テーブルＣＴＢａは、図１及び図３からわかるように、Ｘ軸及びＹ軸方向の寸法が定盤５１よりも短い直方体状の部材であり、Ｙ軸方向の中央部よりも＋Ｙ側の部分（プレートテーブルＴＢｂでは−Ｙ側（図１参照））にＸ軸方向に貫通する開口部２２ａ（プレートテーブルＴＢｂでは開口部２２ｂ）が形成されている。この開口部２２ａには、図３に示されるように、後述するプレートテーブル駆動装置６０のガイド部６３が挿入されている。なお、図３に示されるように、粗動テーブルＣＴＢａには、複数箇所に軽量化のための肉抜きが施されているが、後述する第１自重キャンセラ装置７０、第２自重キャンセラ装置３０、及び第３自重キャンセラ装置４０に支持される下面は、平坦面となっている。
【００２４】
微動テーブルＦＴＢａは、図１〜図３からわかるように、Ｘ軸及びＹ軸方向の寸法が粗動テーブルＣＴＢａよりも幾分長い（ただし、定盤５１よりは短い）平面視矩形の板状部材であり、その上面にプレートＰａが載置される。微動テーブルＦＴＢａは、例えば国際公開第２００６／５２８５５号パンフレットに開示されているものと同様の構成の駆動機構、すなわちＸ軸方向に駆動力を発生する一組のＸ軸リニアモータ、Ｙ軸方向に駆動力を発生する一組のＹ軸リニアモータ、及び同一直線上に無い３点でＺ軸方向に駆動力を発生するＺ軸リニアモータ（Ｘ，Ｙ，Ｚ軸リニアモータはそれぞれ図示省略）を介して、粗動テーブルＣＴＢに対して６自由度方向（Ｘ，Ｙ，Ｚ，θｘ，θｙ，θｚ）に移動可能になっている。
【００２５】
プレートテーブルＴＢａの内部には、レンズ系と撮像素子（ＣＣＤ等）とをそれぞれ含む複数のマーク像検出系ＭＤａ（図６参照）が配置されている。マーク検出系ＭＤａは、プレートＰａが投影光学モジュールＰＬＭの直下に配置された状態で、露光光ＩＬで照明されたマスクＭ上のアライメントマーク（不図示）の投影光学モジュールＰＬＭ及びレンズ系による像と、プレートテーブルＴＢａに配置された図示しない基準マークのレンズ系による像とを同時に検出し、基準マーク（の像）を基準とするマスクＭ上のアライメントマーク（の像）の位置情報を、主制御装置２０に供給する。プレートテーブルＴＢｂの内部にも、同様な構成のマーク検出系ＭＤｂ（図６参照）が設けられている。
【００２６】
プレートテーブル駆動装置６０は、図２に示されるように、Ｙ軸方向を長手方向とし、定盤５１を挟んで設置された一対の固定子部６１、６２と、一対の固定子部６１、６２に渡して設けられたＸ軸方向を長手方向とする梁状部材である２つのガイド部（リニアガイド）６３，６４とを備えている。固定子部６１、６２それぞれは、図３に示されるように、図示しない防振機構を備えた脚部６５ａ、６５ｂを介して床面Ｆ上に設置されている。また、ガイド部６３は、プレートテーブルＴＢａの開口部２２ａに挿入され、ガイド部６４は、プレートテーブルＴＢｂの開口部２２ｂに挿入されている。なお、図３においては、ガイド部６４は、ガイド部６３に対して紙面奥側に隠れている。
【００２７】
ここで、一対の固定子部６１、６２それぞれは、Ｙ軸方向に沿って所定間隔で配列された複数のコイル（図示省略）を備えているが、これらのコイルを収容する筐体は、図２に示されるように、Ｙ軸方向に沿って３つの部分に機械的に分離されている。すなわち、固定子部６１は、プレートテーブルＴＢａ、ＴＢｂを定盤５１上でＸＹ２次元方向に駆動する部分６１ａと、プレートテーブルＴＢａを第１アライメント系群ＡＬａの下方でＸ軸方向に１次元駆動する部分６１ｂと、プレートテーブルＴＢｂを第２アライメント系群ＡＬｂの下方でＸ軸方向に１次元駆動する部分６１ｃとが分離されており、これらの部分６１ａ〜６１ｃ相互間における振動の伝達が防止されている。固定子部６２も同様に構成されている。
【００２８】
ガイド部６３，６４それぞれのＸ軸方向の両端部には、永久磁石（図示省略）が設けられており、これらのコイル及び永久磁石によって、ムービングマグネット型のリニアモータ（以下、Ｙリニアモータ６６と呼ぶ。図６参照）が構成されている。このＹリニアモータ６６は、後述する主制御装置２０により駆動制御され、一対のガイド部６３，６４それぞれは、主制御装置２０を介してそれぞれ独立してＹ軸方向に移動可能になっている。なお、定盤５１と一対の固定子部６１、６２それぞれとは、機械的に分離された状態で床面Ｆに設置されており、プレートテーブル駆動装置６０がプレートテーブルＴＢａ、ＴＢｂを駆動する際に固定子部６１，６２に作用する反力に起因する振動が定盤５１に伝達することが防止されている。また、本実施形態では、２つのガイド部６３，６４それぞれは、図示しない転がり軸受けを介して固定子部６１、６２に接触支持されているが、これに限らず、例えばエアベアリングを介して浮上支持させても良いし、磁気浮上させても良い。
【００２９】
前述のように、ガイド部６３、６４それぞれは、プレートテーブルＴＢａ、ＴＢｂの開口部２２ａ、２２ｂに挿入されている。プレートテーブルＴＢａ、ＴＢｂそれぞれは、図示しない転がり軸受けを介してガイド部６３，６４それぞれに支持されている。従って、プレートテーブルＴＢａは、ガイド部６３のＹ軸方向の移動に連動してＹ軸方向に移動し、プレートテーブルＴＢｂは、ガイド部６４のＹ軸方向の移動に連動してＹ軸方向に移動する。なお、主制御装置２０は、プレートテーブルＴＢａ、ＴＢｂ同士が接触しないように、ガイド部６３，６４のＹ軸方向の位置を制御するものとする。
【００３０】
また、ガイド部６３は、Ｘ軸方向に沿って所定間隔で配列された不図示の複数のコイルを備えている。また、このガイド部６３が貫通しているプレートテーブルＴＢａの粗動テーブルＣＴＢａには、これらコイルに対向して配置された不図示の永久磁石が設けられており、これらのコイル及び永久磁石によって、プレートテーブルＴＢａをＸ軸方向に駆動するムービングマグネット型のリニアモータ（以下、第１Ｘリニアモータ６７と呼ぶ。図６参照）が構成されている。第１Ｘリニアモータ６７は、後述する主制御装置により駆動制御される。なお、本実施形態では、プレートテーブルＴＢａは、転がり軸受けを介してガイド部６３に接触支持されているが、これに限らず、例えばエアベアリングを介して浮上支持させても良いし、磁気浮上させても良い。また、ガイド部６４も同様に、Ｘ軸方向に沿って配列された複数のコイル（不図示）を備えており、これらのコイルと、プレートテーブルＴＢｂが備える永久磁石とによって、プレートテーブルＴＢｂをＸ軸方向に駆動する第２Ｘリニアモータ６８（図６参照）が構成されている。
【００３１】
ここで、本実施形態では、プレートテーブルＴＢａは、第１アライメント系群ＡＬａの下方と定盤５１上との間を移動範囲とし、プレートテーブルＴＢｂは、第２アライメント系群ＡＬｂの下方と定盤５１上との間を移動範囲とする。そして、ガイド部６３は、粗動テーブルＣＴＢａの中心よりも＋Ｙ側に形成された開口部２２ａに、ガイド部６４は、粗動テーブルＣＴＢｂの中心よりも−Ｙ側に形成された開口部２２ｂに挿入されている。これによって、本実施形態では、仮にガイド部６３、６４それぞれを粗動テーブルＣＴＢａ、ＣＴＢｂのＹ軸方向の中心を貫通させる場合に比べ、固定子部６１，６２のＹ軸方向の長さを短縮化することができる。
【００３２】
プレートテーブルＴＢａ、ＴＢｂ（プレートＰａ、Ｐｂ）の位置情報は、プレート干渉計システム２１（図６参照）を介して計測される。プレート干渉計システム２１は、国際公開第２００５／０８１２９５号パンフレットに開示されている干渉計システムと同様の構成のものが用いられている。すなわち、プレート干渉計システム２１は、図１及に示されるように、レーザ干渉計２５，２６を備えている。なお、プレート干渉計システム２１は、実際には、微動テーブルＦＴＢａ、ＦＴＢｂそれぞれに固定されたＹ軸方向に直交する反射面を有するＹ移動鏡２７ｙ、２８ｙ（図１及び図２参照）を用いてセンターラインＣＬ上でプレートテーブルＴＢａ、ＴＢｂそれぞれのＹ軸方向の位置情報を計測するレーザ干渉計２５，２６（図１参照）と、微動テーブルＦＴＢａ、ＦＴＢｂそれぞれに固定されたＸ軸方向に直交する反射面を有するＸ移動鏡２７ｘ、２８ｘ（図２参照）を用いてプレートテーブルＴＢａ、ＴＢｂのＸ軸方向の位置情報を計測する図示しない複数のレーザ干渉計とを含んでいる。プレート干渉計システム２１の計測値は、主制御装置２０（図６参照）に送られる。プレート干渉計システム２１を構成する複数のレーザ干渉計には、測定方向に平行な複数の測長軸を有する多軸干渉計が用いられており、プレートテーブルＴＢａ，ＴＢｂそれぞれのＸ位置、Ｙ位置、及びθｘ、θｙ、θｚ回転量（回転情報）を計測可能である。プレートテーブルＴＢａ，ＴＢｂそれぞれのＺ軸方向の位置情報は、プレート表面の面位置情報を計測する不図示の計測系によって計測される。なお、前述したマスクステージＭＳＴ、及びプレートテーブルＴＢａ、ＴＢｂの位置情報を計測するシステムとしては、上述したレーザ干渉計システム１７、２１に限らず、例えばリニアエンコーダシステムを用いても良い。
【００３３】
第１自重キャンセラ装置７０は、心柱とも呼ばれ、図１に示されるように、定盤５１の上面に直交する１本の柱状部材から成る。図４には、第１自重キャンセラ装置７０が一部破断して示されている。第１自重キャンセラ装置７０は、国際公開第２００６／９２５４号パンフレットに開示されるものと同様の機能及び構成を有している。すなわち、第１自重キャンセラ装置７０は、Ｚ軸方向を長手方向とする円柱状（又は断面が多角形の柱状）に形成され、上面部に凹部７１ａを有する本体部７１、凹部７１ａに収容され、本体部７１に対してＺ軸方向に移動可能なスライド部７２、凹部７１ａの底面とスライダ部７２の下面との間に配置されたエアアクチュエータである空気バネ７３、本体部７１を定盤５１に対して浮上支持するベースパッド７４、及び自重支持の対象となるプレートテーブルＴＢａ（又はＴＢｂ）を非接触支持する支持パッド７５などを含む。
【００３４】
空気バネ７３には、不図示の気体供給装置から気体が供給されており、その内部は外気に比べて気圧の高い陽圧空間となっている。プレートテーブルＴＢａ（又はＴＢｂ）の自重は、スライド部７２を介して空気バネ７３により支持される。ベースパッド７４は、不図示の気体供給装置から供給される気体を定盤５１の上面に対して噴出することにより、本体部７１を定盤５１上面から所定のクリアランスで浮上させる気体静圧軸受（例えば、エアベアリング）を含んでいる。支持パッド７５は、プレートテーブルＴＢ（又はＴＢｂ）の下面に対して不図示の気体供給装置から供給される気体を噴出することにより、プレートテーブルＴＢ（又はＴＢｂ）を所定のクリアランスを介して非接触支持する気体静圧軸受を含んでいる。
【００３５】
また、図１及び図３に示されるように、自重キャンセラ装置７０の本体部７１には、Ｘ軸方向に貫通する開口部７１ｂが形成されている。この開口部７１ｂには、後述する自重キャンセラ装置駆動装置８０のガイド部８３が挿入されている。本体部７１は、図示しない転がり軸受けを介してガイド部８３に支持されている。従って、第１自重キャンセラ装置７０は、ガイド部８３のＹ軸方向の移動に連動してＹ軸方向に移動する。
【００３６】
自重キャンセラ装置駆動装置８０は、図２及び図３に示されるように、Ｙ軸方向を長手方向とし、床面Ｆ上に図示しない防振機構を含む脚部８４ａ、８４ｂを介して設置された一対の固定子部８１，８２と、一対の固定子部８１，８２に渡して設けられたＸ軸方向を長手方向とする梁状部材であるガイド部（リニアガイド）８３とを備えている。
【００３７】
一対の固定子部８１，８２それぞれには、Ｙ軸方向に沿って所定間隔で配列された複数のコイル（図示省略）が設けられている。また、ガイド部８３のＸ軸方向の両端部には、永久磁石（図示省略）が設けられており、これらのコイル及び永久磁石によって、ムービングマグネット型のリニアモータ（以下、Ｙリニアモータ８６と呼ぶ。図６参照）が構成されている。このＹリニアモータ８６は、後述する主制御装置２０により駆動制御される。なお、本実施形態では、ガイド部８３は、図示しない転がり軸受けを介して固定子部８１、８２に接触支持されているが、これに限らず、例えばエアベアリングを介して浮上支持させても良いし、磁気浮上させても良い。
【００３８】
なお、定盤５１と一対の固定子部８１，８２それぞれとは、機械的に分離された状態で床面Ｆに設置されており、自重キャンセラ装置駆動装置８０が自重キャンセラ装置７０を駆動する際に固定子部８１，８２に作用する反力に起因する振動が定盤５１に伝達することが防止されている。また、自重キャンセラ装置駆動装置８０の固定子部８１，８２と、プレートテーブル駆動装置６０の固定子部６１，６２も、同様に機械的に分離された状態で床面Ｆに設置されており、相互間の振動の伝達が防止されている。
【００３９】
ガイド部８３は、Ｘ軸方向に沿って所定間隔で配列された不図示の複数のコイルを備えている。一方、第１自重キャンセラ装置７０は、ガイド部８３のコイルに対向して配置された不図示の永久磁石を備えており、これらのコイル及び永久磁石によって、ムービングマグネット型のリニアモータ（以下、Ｘリニアモータ８７と呼ぶ。図６参照）が構成されている。Ｘリニアモータ８７は、後述する主制御装置２０により駆動制御される。従って、本実施形態の露光装置１００では、２つのプレートテーブルＴＢａ、ＴＢｂと、第１自重キャンセラ装置７０とは、それぞれが独立制御されるリニアモータによって個別に２次元駆動される。ただし、主制御装置２０は、プレートテーブルＴＢａ（又はＴＢｂ）に保持されたプレートＰａ（又はＰｂ）に対して露光を行う際には、プレートテーブルＴＢａ（又はＴＢｂ）の重心位置の直下に自重キャンセラ装置７０が配置された状態が維持されるように、第１自重キャンセラ装置７０と、プレートテーブルＴＢａ（又はＴＢｂ）とを同期制御する。例えば、プレートテーブルＴＢａ（又はＴＢｂ）と第１次自重キャンセラ装置７０との間隔を測定するセンサを設け、その間隔が一定となるように、第１自重キャンセラ装置７０をプレートテーブルＴＢａ（又はＴＢｂ）に追従させるように制御しても良い。
【００４０】
図１に戻って、第２自重キャンセラ装置３０は、第１アライメント系群ＡＬａを用いてプレートＰａに形成された不図示のアライメントマークを検出する際に、プレートテーブルＴＢａの自重を支持する。また、第３自重キャンセラ装置４０は、第２アライメント系群ＡＬｂを用いてプレートＰｂに形成された不図示のアライメントマークを検出する際に、プレートテーブルＴＢｂの自重を支持する。第２及び第３自重キャンセラ装置３０，４０それぞれは、特に説明する場合を除き、実質的に同じ機能及び構造を有していることから、以下、これらを代表して、第２自重キャンセラ装置３０の構成について説明する。
【００４１】
第２自重キャンセラ装置３０は、図５に示されるように、床面Ｆ上に設置されたＸ軸方向を長手方向とする固定子部３１、下面にＸ軸に沿って形成された凹部を有する断面逆Ｕ字状の部材である移動子部３２、及び移動子部３２上に搭載された自重支持部３３を含んでいる。
【００４２】
固定子部３１は、移動子部３２の凹部内に収容されている。固定子部３１は、Ｘ軸方向に所定間隔で配列された不図示の複数のコイルを備えている。複数のコイルは、移動子部３２に設けられた不図示の複数の永久磁石と共に、移動子部３２をＸ軸方向に駆動するリニアモータ（以下、Ｘリニアモータ３４と呼ぶ。図６参照）を構成する。
【００４３】
移動子部３２は、その下面に設けられた転がり軸受け３５を介して床面Ｆに支持されている。なお、転がり軸受け３５は、図５には１つのみ示されているが、実際には、移動子部３２と床面Ｆとのクリアランスを一定に保てるように少なくとも３つが設けられている。移動子部３２は、その下面に断面三角形状の溝部３２ａがＸ軸に沿って形成され、この溝部３２ａには、床面Ｆに固定されたＸ軸方向を長手方向とする断面三角形状のガイドレール３６が、これらの摺動を許容する程度の微少な隙間を介して嵌合している。従って、移動子部３２の移動方向は、Ｘ軸方向に拘束されている。
【００４４】
自重支持部３３は、その内部に図示しない空気バネを備えており、プレートテーブルＴＢａの自重を、その上面に設けられたエアベアリングパッド３７を介して、移動子部３２上で非接触支持する。自重支持部３３は、全体的な形状がＹ軸方向を長手方向とする平面視（Ｚ軸方向から見て）長方形の板状とされ、移動子部３２の上面に、不図示の転がり軸受けを介して支持されている。自重支持部３３は、その内部に不図示の永久磁石を備え、この永久磁石は、移動子部３２の上面側に配置されたコイル３８と共に、自重支持部３３をＹ軸方向に駆動するリニアモータ（以下、Ｙリニアモータ３９と呼ぶ。図６参照）を構成している。前述のＸリニアモータ３４及びＹリニアモータ３９それぞれは、後述する主制御装置２０によって制御される。
【００４５】
主制御装置２０は、プレートテーブルＴＢａに保持されたプレートＰａのアライメント計測を行う際、プレートテーブル駆動装置６０の第１Ｘリニアモータ６７を介して、プレートＰａの＋Ｘ側の端部が第１アライメント系群ＡＬａの直下に配置されるポジションと、プレートＰａの−Ｘ側の端部が第１アライメント系群ＡＬａの直下に配置されるポジションとの間で、プレートテーブルＴＢａをＸ軸方向に駆動する。また、主制御装置２０は、自重キャンセラ装置３０のＸリニアモータ３４を介して、移動子部３３をプレートテーブルＴＢａに連動（追従）するようにＸ軸方向に駆動し、アライメント計測中、プレートテーブルＴＢａの重心位置が、常に自重キャンセラ装置３０の移動子部３３によって支持されるように制御する。自重キャンセラ装置４０も、自重キャンセラ装置３０と同様の構成を備え、自重キャンセラ装置３０と同様に主制御装置２０によって制御される。
【００４６】
以上説明したように、本実施形態の露光装置１００では、独立して２次元移動可能な２つのプレートテーブルＴＢａ，ＴＢｂを有し、且つこれら２つのプレートテーブルＴＢａ，ＴＢｂに対応して第１アライメント系群ＡＬａ、及び第２アライメント系群ＡＬｂが、定盤５１を挟んで設けられている。従って、プレートテーブルＴＢａに保持されたプレートＰａのアライメント計測を行っている間、プレートテーブルＴＢｂに保持されたプレートＰｂに対して定盤５１上で露光処理を行うことができ、同様に、プレートテーブルＴＢｂに保持されたプレートＰｂのアライメント計測を行っている間、プレートテーブルＴＢａに保持されたプレートＰａに対して定盤５１上で露光処理を行うことができる。すなわち、本実施形態の露光装置１００では、プレートＰａ，Ｐｂの一方に対する露光を行う際、これと並行してプレートＰａ，Ｐｂの他方に対するアライメント計測を行うことができる。従って、待ち時間無く、順次プレート（Ｐａ又はＰｂ）の露光処理を行うことができるのでスループットが向上する。
【００４７】
図６には、露光装置１００の制御系の主要な構成が示されている。制御系は、主制御装置２０を中心として構成されている。主制御装置２０は、ワークステーション（又はマイクロコンピュータ）等を含み、上述したプレートテーブル駆動装置６０、第１自重キャンセラ装置駆動装置８０など、露光装置１００の構成各部を統括制御する。
【００４８】
ここで、本実施形態の露光装置１００では、プレートテーブルＴＢａに保持されたプレートＰａは、第１アライメント系群ＡＬａを用いたアライメント計測を経て定盤５１上で露光処理が施される。また、本実施形態では、主制御装置２０は、プレートＰａの露光処理が終了した後、他のプレート（プレートＰｂ）の露光処理に備えて、プレートＰａを保持するプレートテーブルＴＢａを第２自重キャンセラ装置３０上に退避させる（戻す）。そして、本実施形態の露光装置１００では、プレートテーブルＴＢａの自重は、第１アライメント系群ＡＬａの下方では、第２自重キャンセラ装置３０に支持され、定盤５１上では、第１自重キャンセラ装置３０に支持される。従って、露光装置１００では、プレートテーブルＴＢａがプレートテーブル駆動装置６０を介して第１アライメント系群ＡＬ１の下方と定盤５１上との間を相互間移動する際、これに伴って、第１自重キャンセラ装置７０と、第２自重キャンセラ装置３０との間でプレートテーブルＴＢａの受け渡しが行われる。
【００４９】
以下、第１自重キャンセラ装置７０と、第２自重キャンセラ装置３０との間におけるプレートテーブルＴＢａの受け渡し動作を、プレートテーブルＴＢａが第１自重キャンセラ装置７０から、第２自重キャンセラ装置３０に受け渡される場合を例に挙げて説明する。図７（Ａ）〜図７（Ｅ）には、プレートテーブルＴＢａが自重キャンセラ装置７０から、第２自重キャンセラ装置３０に受け渡される際の動作が示されている。プレートテーブルＴＢａの受け渡しに際し、主制御装置２０は、まず、図７（Ａ）に示されるように、プレートテーブルＴＢａを支持する第１自重キャンセラ装置７０を、定盤５１上におけるＹ軸方向の移動可能範囲における最も−Ｙ側の位置に配置する。
【００５０】
また、主制御装置２０は、図７（Ｂ）に示されるように、第２自重キャンセラ装置３０の自重支持部３３をＹリニアモータ３９を介して＋Ｙ方向、すなわち第１自重キャンセラ装置７０に接近する方向に駆動する。主制御装置２０は、このときの第１自重キャンセラ装置７０と第２自重キャンセラ装置３０との間隔（より詳細には、第１自重キャンセラ装置７０の支持パッド７５と、第２自重キャンセラ装置３０のエアベアリングパッド３７との間隔）を、一時的にプレートテーブルＴＢａの寸法（より詳細には、粗動ステージＣＴＢａ（図１参照）のＹ軸方向の寸法）よりも小さくなるようにＹリニアモータ３９を制御する。なお、以上の説明では、図７（Ａ）に示されるように第１自重キャンセラ装置７０を移動させた後に図７（Ｂ）で示されるように第２自重キャンセラ装置３０の自重支持部３３を移動させることとしたが、これに限らず図７（Ａ）及び図７（Ｂ）に示される動作を並行して行っても良いし、図７（Ａ）及び図７（Ｂ）に示される動作の順番を逆にしても、すなわち第１自重キャンセラ装置７０が図７（Ａ）に示されるポジションに配置される以前に、第２自重キャンセラ装置３０の自重支持部３３を、予め図７（Ｂ）に示されるポジションに移動させておいても良い。
【００５１】
次いで、図７（Ｂ）に示される状態から、主制御装置２０は、図７（Ｃ）に示されるようにプレートテーブル駆動装置６０のＹリニアモータ６６を用いてプレートテーブルＴＢａを−Ｙ方向に駆動する。このとき、主制御装置２０は、第１自重キャンセラ装置駆動装置８０を介して第１自重キャンセラ装置７０を、図７（Ａ）に示される位置で停止させておく。従って、プレートテーブルＴＢａのみが単独で−Ｙ方向に移動する。
【００５２】
図７（Ｃ）には、プレートテーブルＴＢａが第１自重キャンセラ装置７０及び第３自重キャンセラ装置３０の両方によって支持された状態が示されている。この図７（Ｃ）に示されるように、プレートテーブルＴＢａは、−Ｙ方向へ単独で移動することによって、第１自重キャンセラ装置７０から、第３自重キャンセラ装置３０に乗り移る。この際、第３自重キャンセラ装置３０の自重支持部３３は、図７（Ｂ）に示す位置で停止している。
【００５３】
そして、図７（Ｄ）に示されるようにプレートテーブルＴＢａの重心位置が自重支持部３３の中心にほぼ一致すると、主制御装置７０は、Ｙリニアモータ３９を用いて自重支持部３３をプレートテーブルＴＢａに連動（追従）させて、−Ｙ方向に駆動し、プレートテーブルＴＢａを、図７（Ｅ）に示される所定のアライメント計測位置に移動させる。なお、プレートテーブルＴＢａの受け渡しを行う際は、受け渡し完了後にプレートＰａの＋Ｘ側（又は−Ｘ側）の端部が第１アライメント系群ＡＬａの直下に配置されるように、第１自重キャンセラ装置７０と、第２自重キャンセラ装置３０の自重支持部３３それぞれを、予めセンターラインＣＬよりも＋Ｘ側（又は−Ｘ側）に寄せておくと、受け渡し完了後に直ちにアライメント計測時を行うことができるので効率がよい。なお、図７（Ｅ）では、第１自重キャンセラ装置７０は、図７（Ａ）と同じ位置で停止して示されているが、これに限らず図７（Ｄ）に示される、プレートテーブルＴＢａを非支持状態となった時点で、＋Ｙ方向に移動してプレートテーブルＴＢｂを第３自重キャンセラ装置４０から受け取りに行くように制御してもよい。
【００５４】
主制御装置２０は、プレートテーブルＴＢａを自重キャンセラ装置３０の自重支持部３３から、第１自重キャンセラ装置７０に受け渡す際も同様の制御を行う。すなわち、主制御装置２０は、プレートテーブルＴＢａと、このプレートテーブルＴＢａの自重を支持した状態の自重支持部３３を、連動させて第１自重キャンセラ装置７０に一時的に接近させ、この後に自重キャンセラ装置３０の自重支持部３７のＹ軸方向の移動を停止し、プレートテーブルＴＢａのみを+Ｙ方向に駆動する。また、プレートテーブルＴＢｂを第１自重キャンセラ装置７０と、第３自重キャンセラ装置４０との間で受け渡す際の動作も、上述したプレートテーブルＴＢａの受け渡し動作と同様であるので、ここでは説明を省略する。
【００５５】
以上説明したように、本実施形態では、自重キャンセラ装置相互間でプレートテーブルＴＢａ（又はＴＢｂ）の受け渡しを行う際、これらの間隔が受け渡し対象のプレートテーブルの寸法よりも一時的に小さくされるので、図７（Ａ）〜図７（Ｅ）に示されるように、受け渡し動作が行われている最中、プレートテーブルＴＢａ（又はＴＢｂ）の自重は、必ず２つの自重キャンセラ装置７０、３０（又は自重キャンセラ装置７０、４０）のうちの少なくとも一方によって支持される。ここで、仮に自重キャンセラ装置相互間の間隔が、受け渡し対象のプレートテーブルの寸法よりも大きい状態でプレートテーブルのみをＹ軸方向に駆動した場合、プレートテーブルの自重が、２つの自重キャンセラ装置のいずれにも支持されない事態が生ずるが、本実施形態では、常時いずれかの自重キャンセラ装置によってプレートテーブルの自重が支持されているので、プレートテーブルの受け渡し最中にプレートテーブル（及びそのプレートテーブルに保持されているプレート）に撓みが発生することを抑制することができる。
【００５６】
以上説明した本実施形態の露光装置１００では、ローディングポジションＬＰ（図２参照）に配置されたプレートテーブルＴＢａ、ＴＢｂ上に、不図示の搬送系を介して露光対象のプレートＰａ、Ｐｂそれぞれが載置される。なお、プレートＰａ、Ｐｂに対して露光を行う際の前提として、前述したマーク像検出系ＭＤａ、ＭＤｂ、及び第１及び第２アライメント系ＡＬａ、ＡＬｂ、並びにプレートテーブル上の基準マークを用いたマスクアライメント及び第１及び第２アライメント系群ＡＬａ、ＡＬｂのベースライン計測などが行われているものとする。
【００５７】
主制御装置２０は、第１アライメント系群ＡＬａを用いて露光対象のプレートＰａに形成されたアライメントマークと、このプレートＰａを保持するプレートテーブルＴＢａ上の基準マークを用いてアライメント計測を行い、その計測結果をメモリに保存する。次いで、主制御装置は２０、プレートテーブルＴＢａを定盤５１上に移動させる。この際、主制御装置２０は、前述したように、一時的に自重キャンセラ装置相互間の間隔がプレートテーブルＴＢａの寸法より小さくなるように制御した状態で、プレートテーブルＴＢａを第１自重キャンセラ装置３０から自重キャンセラ装置７０に受け渡させる。
【００５８】
主制御装置２０は、プレート干渉計システム２１、マスク干渉計システム１７の計測値をモニタしつつ、事前に行われたアライメントマーク計測の結果、及びベースラインの計測結果に基づいて、プレートテーブルＴＢａ、及びマスクステージＭＳＴをそれぞれ駆動し、通常のスキャニング・ステッパと同様にステップ・アンド・スキャン方式の露光動作を行い、プレート上Ｐａの複数のショット領域にマスクＭのパターンをそれぞれ転写する。この露光動作は、前述したマスクステージＭＳＴとプレートテーブルＴＢａとの同期移動を行う走査露光動作と、プレートテーブルＴＢａをショット領域の露光のための加速開始位置に移動するショット間移動（ステッピング）動作とを交互に繰り返すことで行われる。なお、主制御装置２０は、第２自重キャンセラ装置３０（又は第３自重キャンセラ装置４０）から第１自重キャンセラ装置７０への受け渡しの途中で、走査露光に備えてプレートＰａ（又はＰｂ）の加速を開始しても良く、また、受け渡しの最中に、所定の目標速度に達した場合には、プレートＰａ（又はＰｂ）に対する走査露光を開始しても良い。
【００５９】
主制御装置２０は、プレートＰａに対する露光処理が終了した場合には、プレートＰａを保持するプレートテーブルＴＢａを第１自重キャンセラ装置７０上から、第２自重キャンセラ装置３０上に移動させる。この際も前述した場合と同様に、主制御装置２０は、自重キャンセラ装置３０，７０相互間の間隔を、一時的にプレートテーブルＴＢａの寸法より小さくなるように制御した状態で、第１自重キャンセラ装置７０から第２自重キャンセラ装置３０にプレートテーブルＴＢａを受け渡させる。
【００６０】
また、主制御装置２０は、プレートＰａに対する露光処理と並行して、第２アライメント系群ＡＬｂを用いたプレートＰｂのアライメント計測を行い、露光処理が終了したプレートＰａ（プレートテーブルＴＢａ）を定盤５１上から第１アライメント系群ＡＬａの下方に移動させた後、このプレートテーブルＴＢａと入れ替わるように、プレートＰｂを保持するプレートテーブルＴＢｂを第２アライメント系群ＡＬｂの下方から定盤５１上に移動させ、同様の手順でステップ・アンド・スキャン方式の露光動作を行う。このプレートテーブルＴＢｂの移動時にも、主制御装置２０は、同様に自重キャンセラ装置４０，７０相互間の間隔を一時的にプレートテーブルＴＢｂの寸法よりも小さくする制御を行う。
【００６１】
以上説明したように、本実施形態の露光装置１００は、２つのプレートテーブルＴＢａ、ＴＢｂを備え、一方のプレートテーブルに保持されたプレートのアライメント計測を行っている間、他方のプレートテーブルに保持されたプレートに対して露光処理を行うことができるので、スループットが向上する。また、プレートテーブルの自重を支持する自重キャンセラ装置相互間で、プレートテーブルの受け渡しを行う際（プレートテーブルの自重を支持する役目の自重キャンセラ装置が入れ替わる際）、自重キャンセラ装置相互間の間隔が、一時的にプレートテーブルの寸法よりも小さくなるように自重キャンセラ装置をプレートテーブルとは独立して駆動するので、プレートテーブルの受け渡し中であっても、確実にプレートテーブルの自重を支持することができる。従って、プレートテーブル及びこれに保持されるプレートの撓みを抑制することができる。
【００６２】
なお、上記実施形態では、定盤５１上でプレートテーブルＰＴａ、ＰＴｂの自重を支持する第１自重キャンセラ装置７０のみが、心柱とも呼ばれる柱状の装置であったが、これに限らず、第１及び第２アライメント系群ＡＬａ、ＡＬｂそれぞれの下方に配置された第２及び第３自重キャンセラ装置も、心柱と呼ばれる柱状の装置としてもよい。
【００６３】
また、上記実施形態の液晶露光装置１００は、２つのプレートテーブルを備える、いわゆるツインテーブル構造であったが、これに限らず、プレートテーブルを一つしか備えず、この一つのプレートテーブルを２つの自重キャンセラ装置相互間で受け渡すような露光装置にも、本発明を適用することができる。また、上記実施形態では、２つのプレートテーブルに対して、３つの自重キャンセラ装置が設けられが、これに限らず、自重キャンセラ装置は、２つでも良い。この場合、２つの自重キャンセラ装置間で一方のプレートテーブルの受け渡しを行う際、他方のプレートテーブルを、自重キャンセラ装置を備えない他の支持装置で支持すれば良い。
【００６４】
また、上記実施形態の露光装置１００では、第１自重キャンセラ装置７０は定盤５１上に設けられ、第２及び第３自重キャンセラ装置３０，４０それぞれは、床面上、すなわち定盤５１とは異なる土台上に配置されたが、これに限らず、すべて同一の土台上、例えば床面上（又は共通の定盤上）に配置しても良い。
【００６５】
また、上記実施形態の露光装置１００では、第２及び第３自重キャンセラ装置３０，４０は、Ｘ軸及びＹ軸方向に２次元移動可能とされたが、これに限らず、少なくとも自重支持部３３，４３がプレートテーブルの受け渡しのために、Ｙ軸方向（１次元方向）に移動できれば良い。
【００６６】
また、上記実施形態では、各自重キャンセラ装置は、プレートテーブルをエアベアリングを介して非接触支持したが、これに限らず、プレートテーブルを接触支持しても良い。また、第１自重キャンセラ装置７０は、定盤５１上にエアベアリングを介して非接触支持されたが、これに限らず定盤に摺動可能に設けても良い。
【００６７】
また、上記実施形態では、プレートテーブル駆動装置６０及び第１自重キャンセラ装置駆動装置８０は、ムービングマグネット型のリニアモータを介してプレートテーブルＰＴａ、ＰＴｂ、第1自重キャンセラ装置７０を駆動したが、これに限らずムービングコイル型のリニアモータで駆動しても良く、また、ロータリモータとボールねじ（又は送りねじ）とを組み合わせた駆動装置で駆動しても良い。
【００６８】
また、上記実施形態のプレートテーブルは、粗動テーブルと微動テーブルとを備える粗微動構造であったが、これに限らず単一構造のテーブル装置であっても良い。なお、単一構造のテーブル装置を６自由度方向に移動可能に構成した場合、このテーブル装置の自重を支持する自重キャンセラ装置の支持パッドも、テーブル装置に追従できるように、６自由度方向に移動可能に構成すると良い。
【００６９】
また、上記実施形態では、プレートテーブルを駆動するプレートテーブル駆動装置は、２つのプレートテーブルそれぞれに対してガイド部（リニアガイド）が設けられていたが、これに限らず一つ（一本）のガイド部を２つのテーブルが共用する構成であっても良い。この場合、上記実施形態と異なり、ガイド部と各プレートテーブルとは、分離可能に構成される。なお、各プレートテーブルのＹ軸方向の駆動に関しては、例えばガイド部にボイスコイルモータなどを配置し、ガイド部とプレートテーブルとの間に電磁気的な力を発生させて、各プレートテーブルをガイド部に追従させるようにすると良い。また、この場合、第２及び第３自重キャンセラ装置を、プレートテーブルの重心位置をエアベアリングを介さずに接触支持するように構成し、アライメント計測時には、第２及び第３自重キャンセラ装置それぞれのＸリニアモータ、及びＹリニアモータを用いてプレートテーブルを駆動させると良い。これにより、アライメント計測時には、ガイド部とプレートテーブルとを分離させることができ、ガイド部は、一方のプレートテーブルを一方の（例えば第２）自重キャンセラ装置に受け渡した後、直ちに他方の（例えば第３）自重キャンセラ装置から他方のプレートテーブルを受け取ることができるので、上記実施形態に比べても、スループットが極端に低下しない。
【００７０】
また、上記実施形態において、照明光として、例えばＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。また、固体レーザ（波長：３５５ｎｍ、２６６ｎｍ）などを使用しても良い。
【００７１】
なお、上記実施形態では、投影光学系モジュールＰＬＭが、複数本の投影光学ユニットを備えたマルチレンズ方式の投影光学系である場合について説明したが、投影光学ユニットの本数はこれに限らず、１本以上あれば良い。また、マルチレンズ方式の投影光学系に限らず、オフナー型の大型ミラーを用いた投影光学系などであっても良い。
【００７２】
また、上記実施形態では投影光学系モジュールＰＬＭとして、投影倍率が等倍のものを用いる場合について説明したが、これに限らず、投影光学系は縮小系及び拡大系のいずれでも良い。
【００７３】
なお、上記実施形態においては、光透過性のマスク基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（可変成形マスク）、例えば、非発光型画像表示素子（空間光変調器とも呼ばれる）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）を用いる可変成形マスクを用いても良い。
【００７４】
なお、上記実施形態では、プレートのステップ・アンド・スキャン動作を伴う走査型露光を行う投影露光装置に適用された場合について説明したが、これに限らず、本発明は、投影光学系を用いない、プロキシミティ方式の露光装置にも適用することができる。また、本発明は、ステップ・アンド・リピート方式の露光装置（いわゆるステッパ）あるいはステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用することができる。
【００７５】
また、露光装置の用途としては角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置に限定されることなく、例えば半導体製造用の露光装置、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン及びＤＮＡチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるマスク又はレチクルを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。なお、露光対象となる物体はガラスプレートに限られるものでなく、例えばウエハ、セラミック基板、フィルム部材、あるいはマスクブランクスなど、他の物体でも良い。また、シリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置として、例えば米国特許出願公開第２００５／０２５９２３４号明細書などに開示される、投影光学系とウエハとの間に液体が満たされる液浸型露光装置などに本発明を適用しても良い。
【００７６】
また、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているように、干渉縞をウエハ上に形成することによって、ウエハ上にライン・アンド・スペースパターンを形成する露光装置（リソグラフィシステム）にも本発明を適用することができる。
【００７７】
なお、本発明は、露光装置に限らず、例えば、特開２００４−１３０３１２号公報などに開示される，インクジェットヘッド群と同様のインクジェット式の機能性液体付与装置を備えた素子製造装置にも適用しても良い。
【産業上の利用可能性】
【００７８】
以上説明したように、本発明の移動体装置及び移動体駆動方法は、移動体を駆動するのに適している。また、本発明の露光装置は、物体上にパターンを形成するのに適している。また、本発明のデバイス製造方法は、液晶表示素子などの電子デバイスを製造するのに適している。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】本発明の一実施形態に係る液晶露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】図１の液晶露光装置を＋Ｚ軸方向から見た平面図である。
【図３】図１の液晶露光装置を−Ｙ軸方向から見た図である。
【図４】第１の自重キャンセラ装置の構成を一部破断して示す図である。
【図５】第２の自重キャンセラ装置の構成を示す図である。
【図６】一実施形態の液晶露光装置の制御系の主要な構成を示すブロック図である。
【図７】図７（Ａ）〜図７（Ｅ）は、自重キャンセラ装置相互間でのプレートテーブルの受け渡し動作を説明するための図である。
【符号の説明】
【００８０】
１０…照明系、２０…主制御装置、３０…第２自重キャンセラ装置、４０…第３自重キャンセラ、５１…定盤、６０…プレートテーブル駆動装置、７０…第１自重キャンセラ装置、８０…第１自重キャンセラ装置駆動装置、１００…液晶露光装置、ＡＬａ，ＡＬｂ…アライメント系群、Ｍ…マスク、Ｐａ，Ｐｂ…プレート、ＴＢａ，ＴＢｂ…プレートテーブル。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、移動体装置及び移動体駆動方法、露光装置、並びにデバイス製造方法に係り、更に詳しくは、所定平面に沿って移動可能な移動体を含む移動体装置及び前記移動体を駆動する移動体駆動方法、前記移動体装置を備える露光装置、並びに前記露光装置を用いるデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示素子等の電子デバイス（マイクロデバイス）や、半導体素子（集積回路等）を製造するリソグラフィ工程では、主として、ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（いわゆるステッパ）、あるいはステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））などが用いられている。
【０００３】
この種の露光装置において高いスループットを実現するために、ガラスプレート又はウエハ等の被露光物体を保持する可動テーブルを複数、例えば２つ設け、その２つの可動テーブルを用いて異なる２つの動作を並行して処理する、いわゆるツインステージ（デュアルステージ）方式の露光装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
この特許文献１に開示される露光装置では、第１の処理、例えば被露光物体に露光処理を行う領域に配置された第１ステージ装置と、第２の処理、例えば被露光物体のアライメント計測を行う領域に配置された第２ステージ装置との間で、被露光物体を保持する２つの可動テーブルが、ステーションと称される搬送装置を介して巡回的に移動される。
【０００５】
しかるに、近年、被露光物体、特にガラスプレートは、液晶表示素子の大型化に伴って大型化される傾向にあり、ガラスプレートやガラスプレートを保持する可動テーブルの自重による撓みが無視できないものとなっている。一方、このように大型化したガラスプレートに対し、特許文献１に開示されるようなツインステージ方式の露光装置を用いて露光処理を行う場合、可動テーブルが各ステージ装置から分離して移動するため、可動テーブル及びこの可動テーブルが保持するガラスプレートに撓みが発生しやすい。
【特許文献１】特開２００４−２６０１１５号公報
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の事情の下でなされたもので、第１の観点からすると、定盤上を移動する移動体を備えた移動体装置であって、前記移動体の自重を前記定盤上で支持するとともに、前記定盤上を２次元移動可能な第１の自重支持部材と；前記定盤とは別の土台上で前記移動体の自重を支持するとともに、前記第１の自重支持部材とは独立して１次元又は２次元に移動可能な第２の自重支持部材と；前記移動体の２次元移動時には、該移動に連動して前記第１の自重支持部材を移動させるともに、前記移動体を前記第１及び第２の自重支持部材相互間で受け渡す際には、前記第１及び第２の自重支持部材相互間の間隔が一時的に前記移動体の寸法より小さくなるように、前記第１及び第２の自重支持部材の少なくとも一方を駆動する駆動系と；を備える移動体装置である。
【０００７】
これによれば、移動体は、定盤上では、第１の自重支持部材によって自重が支持され、定盤とは別の土台上では、第２の自重支持部材によって自重が支持される。また、駆動系は、移動体が定盤上を移動する場合には、この移動に連動して第１の自重支持部材を移動させ、移動体を第１及び第２の自重支持部材相互間で受け渡す際には、第１及び第２の自重支持部材相互間の間隔が一時的に移動体の寸法より小さくなるように、各自重支持部材の少なくとも一方を駆動する。従って、移動体は、第１及び第２の自重支持部材相互間で受け渡たされる場合であっても、第１及び第２の自重支持部材の少なくとも一方にその自重が支持された状態が維持される。
【０００８】
本発明は、第２の観点からすると、２つの移動体を備えた移動体装置であって、定盤と；第１移動体と第２移動体の一方の自重を前記定盤上で支持するとともに、前記定盤上を２次元移動可能な第１の自重支持部材と；少なくとも前記一方の移動体が所定の処理作業に従事している間、他方の移動体の自重を前記定盤又は別の土台上で支持するとともに、前記第１の自重支持部材とは独立して１次元又は２次元に移動可能な第２の自重支持部材と；前記一方の移動体の２次元移動と連動して前記第１の自重支持部材を移動させるとともに、前記第１又は第２移動体を前記第１及び第２の自重支持部材相互間で受け渡す際には、前記第１及び第２の自重支持部材相互間の間隔が、一時的に受け渡し対象の移動体の寸法より小さくなるように、前記第１及び第２の自重支持部材の少なくとも一方を駆動する駆動系と；を備える移動体装置である。
【０００９】
これによれば、第１移動体と第２移動体の一方の自重が第１の自重支持部材によって定盤上で支持され、この一方の移動体が所定の処理作業に従事している間、定盤又は別の土台上では、他方の移動体の自重が、第２の自重支持部材によって支持される。また、駆動系は、移動体（第１移動体又は第２移動体）が定盤上を移動する場合には、この移動体に連動するように第１の自重支持部材を移動させ、この移動体を第１及び第２の自重支持部材相互間で受け渡す際には、第１及び第２の自重支持部材相互間の間隔が一時的に受け渡し対象の移動体の寸法より小さくなるように、第１及び第２の自重支持部材の少なくとも一方を駆動する。従って、移動体は、第１及び第２の自重支持部材相互間で受け渡たされる場合であっても、第１及び第２の自重支持部材の少なくとも一方にその自重が支持された状態が維持される。
【００１０】
本発明は、第３の観点からすると、エネルギビームの照射によって物体にパターンを形成する露光装置であって、前記物体が前記移動体上に載置される、本発明の移動体装置と；前記移動体上に載置された前記物体に前記エネルギビームを照射するパターニング装置と；を備える露光装置である。
【００１１】
本発明は、第４の観点からすると、本発明の露光装置を用いて物体を露光することと、前記露光された物体を現像することと；を含むデバイス製造方法である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の一実施形態を図１〜図７（Ｅ）に基づいて説明する。
【００１３】
図１には、本発明の一実施形態に係る液晶露光装置１００の概略構成が示されている。この液晶露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置、いわゆるスキャナである。
【００１４】
液晶露光装置１００は、図１に示されるように、照明系１０、マスクＭを保持するマスクステージＭＳＴ、投影光学系モジュールＰＬＭ、２つのプレートテーブルＴＢａ，ＴＢｂを含むツインテーブル（デュアルテーブル）構造のステージ装置５０、第１アライメント系群ＡＬａ、及び第２アライメント系群ＡＬｂ、並びにこれらの制御系等を備えている。図１において、２つのプレートテーブルＴＢａ，ＴＢｂそれぞれには、ＸＹ平面（水平面）に沿ってガラス基板Ｐａ、Ｐｂ（以下、それぞれプレートＰａ，Ｐｂと呼ぶ）が載置されている。以下においては、マスクＭとプレートＰａ、Ｐｂとが相対走査される方向をＹ軸方向とし、ＸＹ平面内でこれに直交する方向をＸ軸方向、Ｘ軸及びＹ軸に直交する方向をＺ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転（傾斜）方向をそれぞれθｘ、θｙ、及びθｚ方向として説明を行う。なお、図２に示されるように、ステージ装置５０は、プレートテーブル駆動装置６０及び第１自重キャンセラ装置駆動装置８０を備えているが、図示の簡略化のため、図１では、プレートテーブル駆動装置６０及び第１自重キャンセラ装置駆動装置８０が省略されている。
【００１５】
照明系１０は、後述する投影光学モジュールＰＬＭのＸＹ断面の全てを包含する矩形領域を照明光ＩＬ（以下、適宜、露光光ともいう）で照明する。照明光ＩＬとしては、例えば、超高圧水銀ランプからの紫外域の輝線（例えばｇ線、ｉ線など）、又は波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ光あるいは波長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザ光などが用いられる。
【００１６】
マスクステージＭＳＴ上には、一方の面（図１における−Ｚ側の面）にパターン領域が形成された矩形状のマスクＭが載置されている。マスクステージＭＳＴは、リニアモータ等を含む不図示のマスクステージ駆動系を介して、所定の走査方向（Ｙ軸方向（図１における紙面内の左右方向））に所定ストロークで往復駆動されるとともに、走査方向に直交するＸ軸方向、及びθｚ方向に微小駆動される。マスクステージＭＳＴのＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転情報を含む）は、レーザ干渉計１３を含むマスク干渉計システム１７（図６参照）を介して常時計測される。マスク干渉計システム１７では、レーザ干渉計１３は、マスクステージＭＳＴに固定された移動鏡１５を用いてマスクステージＭＳＴの位置情報を計測する。なお、図１では省略されているが、移動鏡１５は、実際には、Ｙ軸方向に直交する反射面を有するＹ移動鏡（あるいは、レトロリフレクタ）とＸ軸方向に直交する反射面を有するＸ移動鏡とが設けられており、レーザ干渉計１３も、Ｙ移動鏡、Ｘ移動鏡に対応するＹ干渉計、Ｘ干渉計が設けられている。マスク干渉計システム１７の計測値は、主制御装置２０（図６参照）に送られる。
【００１７】
投影光学系モジュールＰＬＭは、マスクステージＭＳＴの図１における下方に配置されている。本実施形態の投影光学系モジュールＰＬＭは、例えば特開２００１−２１５７１８号公報（対応する米国特許第６，５５２，７７５号明細書）に開示された投影光学系モジュールと同様の構成を有している。すなわち、投影光学系モジュールＰＬＭは、千鳥状に配置された複数の投影光学系（図１では、紙面手前側の２つの投影光学系１１ａ、１１ｂのみが示され、他の投影光学系は、紙面奥側に隠れている）を含み、Ｘ軸方向を長手方向とする長方形状の単一のイメージフィールドを持つ投影光学系と同等に機能する。本実施形態では、複数の投影光学それぞれとしては、例えば両側テレセントリックでな等倍系で正立正像を形成するものが用いられている。
【００１８】
このため、本実施形態の露光装置１００では、照明系１０によってマスクＭが照明されると、投影光学系モジュールＰＬＭの物体面とパターン面がほぼ一致して配置されるマスクＭを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系モジュールＰＬＭを介してマスクＭのパターンの一部の像が、投影光学系モジュールＰＬＭの像面側に配置される、表面にレジスト（感応剤）が塗布されたプレートＰｂ（又はＰａ）上に形成される。そして、マスクステージＭＳＴと、プレートテーブルＴＢｂ（又はＴＢａ）との同期駆動によって、照明光ＩＬに対してマスクＭを走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動させるとともに、照明光ＩＬに対してプレートＰｂ（又はＰａ）を走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動させることで、プレートＰｂ（又はＰａ）上の１つのショット領域（区画領域）に対する走査露光が行われ、そのショット領域にマスクＭのパターンが転写される。すなわち、本実施形態では照明系１０、マスクＭ及び投影光学モジュールＰＬＭによってプレートＰａ、Ｐｂ上にパターンが生成され、照明光ＩＬによるプレート上の感応層（レジスト層）の露光によってプレートＰａ、Ｐｂ上にそのパターンが形成される。
【００１９】
本実施形態の露光装置１００では、図１に示されるように、投影光学系モジュールＰＬＭの−Ｙ側には、７つのオフアクシス方式のアライメント系から成る第１アライメント系群ＡＬａが、投影光学系モジュールＰＬＭの＋Ｙ側には、７つのオフアクシス方式のアライメント系から成る第２アライメント系群ＡＬｂが、それぞれ配置されている。第１アライメント系群ＡＬａ及び第２アライメント系群ＡＬｂを構成する複数のアライメント系それぞれは、図２に示されるように、定盤５１の中心を通るＹ軸に平行な直線（センターラインＣＬ）上に、所定の間隔で配置され、図示しないフレーム部材を介して床面Ｆ（図１参照）上に支持されている。第１アライメント系群ＡＬａ及び第２アライメント系群ＡＬｂを構成するアライメント系それぞれとしては、例えばプレート上のレジストを感光させないブロードバンドな検出光束を対象マークに照射し、その対象マークからの反射光により受光面に結像された対象マークの像と不図示の指標の像とを撮像素子（ＣＣＤ）等を用いて撮像し、それらの撮像信号を出力する画像処理方式のＦＩＡ（Field Image Alignment）系のセンサがそれぞれ用いられる。アライメント系ＡＬａ、ＡＬｂそれぞれからの撮像信号は、不図示の信号処理系を介して主制御装置２０（図６参照）に供給される。
【００２０】
ステージ装置５０は、図１に示されるように、定盤５１、２つのプレートテーブルＴＢａ，ＴＢｂ、プレートテーブルＴＢａ，ＴＢｂのうちの一方（図１ではプレートテーブルＴＢｂ）の自重を定盤５１上で支持する第１自重キャンセラ装置７０、第１アライメント系群ＡＬａの下方に配置された第２自重キャンセラ装置３０、第２アライメント系群ＡＬｂの下方に配置された第３自重キャンセラ装置４０、２つのプレートテーブルＴＢａ、ＴＢｂそれぞれを独立してＸ軸及びＹ軸方向に２次元駆動するプレートテーブル駆動装置６０（図１では不図示。図２参照）、及び定盤５１上で第１自重キャンセラ装置７０をＸ軸方向及びＹ軸方向に２次元駆動する自重キャンセラ装置駆動装置８０（図１では不図示。図２参照）などを含む。
【００２１】
定盤５１は、図１〜図３からわかるように、例えば石材によって形成された平面視（＋Ｚ方向から見て）矩形状の板状部材であり、床面Ｆに形成された凹部内に複数の防振機構５２を介してほぼ水平に支持されている。
【００２２】
２つのプレートテーブルＴＢａ，ＴＢｂそれぞれは、不図示のプレートホルダを介してプレートＰａ，Ｐｂを保持する部材である。プレートテーブルＴＢａ，ＴＢｂは、特に説明する場合を除き、実質的に同じ機能及び構造を有していることから、以下、これらを代表してプレートテーブルＴＢａについて説明する。プレートテーブルＴＢａは、図1及び図３に示されるように、後述するプレートテーブル駆動装置６０を介してＸＹ平面内を２次元移動する粗動テーブルＣＴＢａと、この粗動テーブルＣＴＢａ上に搭載された微動テーブルＦＴＢａとを有する。なお、図３において、プレートテーブルＴＢｂは、プレートテーブルＴＢａに対して紙面奥側に隠れている。
【００２３】
粗動テーブルＣＴＢａは、図１及び図３からわかるように、Ｘ軸及びＹ軸方向の寸法が定盤５１よりも短い直方体状の部材であり、Ｙ軸方向の中央部よりも＋Ｙ側の部分（プレートテーブルＴＢｂでは−Ｙ側（図１参照））にＸ軸方向に貫通する開口部２２ａ（プレートテーブルＴＢｂでは開口部２２ｂ）が形成されている。この開口部２２ａには、図３に示されるように、後述するプレートテーブル駆動装置６０のガイド部６３が挿入されている。なお、図３に示されるように、粗動テーブルＣＴＢａには、複数箇所に軽量化のための肉抜きが施されているが、後述する第１自重キャンセラ装置７０、第２自重キャンセラ装置３０、及び第３自重キャンセラ装置４０に支持される下面は、平坦面となっている。
【００２４】
微動テーブルＦＴＢａは、図１〜図３からわかるように、Ｘ軸及びＹ軸方向の寸法が粗動テーブルＣＴＢａよりも幾分長い（ただし、定盤５１よりは短い）平面視矩形の板状部材であり、その上面にプレートＰａが載置される。微動テーブルＦＴＢａは、例えば国際公開第２００６／５２８５５号パンフレットに開示されているものと同様の構成の駆動機構、すなわちＸ軸方向に駆動力を発生する一組のＸ軸リニアモータ、Ｙ軸方向に駆動力を発生する一組のＹ軸リニアモータ、及び同一直線上に無い３点でＺ軸方向に駆動力を発生するＺ軸リニアモータ（Ｘ，Ｙ，Ｚ軸リニアモータはそれぞれ図示省略）を介して、粗動テーブルＣＴＢに対して６自由度方向（Ｘ，Ｙ，Ｚ，θｘ，θｙ，θｚ）に移動可能になっている。
【００２５】
プレートテーブルＴＢａの内部には、レンズ系と撮像素子（ＣＣＤ等）とをそれぞれ含む複数のマーク像検出系ＭＤａ（図６参照）が配置されている。マーク検出系ＭＤａは、プレートＰａが投影光学モジュールＰＬＭの直下に配置された状態で、露光光ＩＬで照明されたマスクＭ上のアライメントマーク（不図示）の投影光学モジュールＰＬＭ及びレンズ系による像と、プレートテーブルＴＢａに配置された図示しない基準マークのレンズ系による像とを同時に検出し、基準マーク（の像）を基準とするマスクＭ上のアライメントマーク（の像）の位置情報を、主制御装置２０に供給する。プレートテーブルＴＢｂの内部にも、同様な構成のマーク検出系ＭＤｂ（図６参照）が設けられている。
【００２６】
プレートテーブル駆動装置６０は、図２に示されるように、Ｙ軸方向を長手方向とし、定盤５１を挟んで設置された一対の固定子部６１、６２と、一対の固定子部６１、６２に渡して設けられたＸ軸方向を長手方向とする梁状部材である２つのガイド部（リニアガイド）６３，６４とを備えている。固定子部６１、６２それぞれは、図３に示されるように、図示しない防振機構を備えた脚部６５ａ、６５ｂを介して床面Ｆ上に設置されている。また、ガイド部６３は、プレートテーブルＴＢａの開口部２２ａに挿入され、ガイド部６４は、プレートテーブルＴＢｂの開口部２２ｂに挿入されている。なお、図３においては、ガイド部６４は、ガイド部６３に対して紙面奥側に隠れている。
【００２７】
ここで、一対の固定子部６１、６２それぞれは、Ｙ軸方向に沿って所定間隔で配列された複数のコイル（図示省略）を備えているが、これらのコイルを収容する筐体は、図２に示されるように、Ｙ軸方向に沿って３つの部分に機械的に分離されている。すなわち、固定子部６１は、プレートテーブルＴＢａ、ＴＢｂを定盤５１上でＸＹ２次元方向に駆動する部分６１ａと、プレートテーブルＴＢａを第１アライメント系群ＡＬａの下方でＸ軸方向に１次元駆動する部分６１ｂと、プレートテーブルＴＢｂを第２アライメント系群ＡＬｂの下方でＸ軸方向に１次元駆動する部分６１ｃとが分離されており、これらの部分６１ａ〜６１ｃ相互間における振動の伝達が防止されている。固定子部６２も同様に構成されている。
【００２８】
ガイド部６３，６４それぞれのＸ軸方向の両端部には、永久磁石（図示省略）が設けられており、これらのコイル及び永久磁石によって、ムービングマグネット型のリニアモータ（以下、Ｙリニアモータ６６と呼ぶ。図６参照）が構成されている。このＹリニアモータ６６は、後述する主制御装置２０により駆動制御され、一対のガイド部６３，６４それぞれは、主制御装置２０を介してそれぞれ独立してＹ軸方向に移動可能になっている。なお、定盤５１と一対の固定子部６１、６２それぞれとは、機械的に分離された状態で床面Ｆに設置されており、プレートテーブル駆動装置６０がプレートテーブルＴＢａ、ＴＢｂを駆動する際に固定子部６１，６２に作用する反力に起因する振動が定盤５１に伝達することが防止されている。また、本実施形態では、２つのガイド部６３，６４それぞれは、図示しない転がり軸受けを介して固定子部６１、６２に接触支持されているが、これに限らず、例えばエアベアリングを介して浮上支持させても良いし、磁気浮上させても良い。
【００２９】
前述のように、ガイド部６３、６４それぞれは、プレートテーブルＴＢａ、ＴＢｂの開口部２２ａ、２２ｂに挿入されている。プレートテーブルＴＢａ、ＴＢｂそれぞれは、図示しない転がり軸受けを介してガイド部６３，６４それぞれに支持されている。従って、プレートテーブルＴＢａは、ガイド部６３のＹ軸方向の移動に連動してＹ軸方向に移動し、プレートテーブルＴＢｂは、ガイド部６４のＹ軸方向の移動に連動してＹ軸方向に移動する。なお、主制御装置２０は、プレートテーブルＴＢａ、ＴＢｂ同士が接触しないように、ガイド部６３，６４のＹ軸方向の位置を制御するものとする。
【００３０】
また、ガイド部６３は、Ｘ軸方向に沿って所定間隔で配列された不図示の複数のコイルを備えている。また、このガイド部６３が貫通しているプレートテーブルＴＢａの粗動テーブルＣＴＢａには、これらコイルに対向して配置された不図示の永久磁石が設けられており、これらのコイル及び永久磁石によって、プレートテーブルＴＢａをＸ軸方向に駆動するムービングマグネット型のリニアモータ（以下、第１Ｘリニアモータ６７と呼ぶ。図６参照）が構成されている。第１Ｘリニアモータ６７は、後述する主制御装置により駆動制御される。なお、本実施形態では、プレートテーブルＴＢａは、転がり軸受けを介してガイド部６３に接触支持されているが、これに限らず、例えばエアベアリングを介して浮上支持させても良いし、磁気浮上させても良い。また、ガイド部６４も同様に、Ｘ軸方向に沿って配列された複数のコイル（不図示）を備えており、これらのコイルと、プレートテーブルＴＢｂが備える永久磁石とによって、プレートテーブルＴＢｂをＸ軸方向に駆動する第２Ｘリニアモータ６８（図６参照）が構成されている。
【００３１】
ここで、本実施形態では、プレートテーブルＴＢａは、第１アライメント系群ＡＬａの下方と定盤５１上との間を移動範囲とし、プレートテーブルＴＢｂは、第２アライメント系群ＡＬｂの下方と定盤５１上との間を移動範囲とする。そして、ガイド部６３は、粗動テーブルＣＴＢａの中心よりも＋Ｙ側に形成された開口部２２ａに、ガイド部６４は、粗動テーブルＣＴＢｂの中心よりも−Ｙ側に形成された開口部２２ｂに挿入されている。これによって、本実施形態では、仮にガイド部６３、６４それぞれを粗動テーブルＣＴＢａ、ＣＴＢｂのＹ軸方向の中心を貫通させる場合に比べ、固定子部６１，６２のＹ軸方向の長さを短縮化することができる。
【００３２】
プレートテーブルＴＢａ、ＴＢｂ（プレートＰａ、Ｐｂ）の位置情報は、プレート干渉計システム２１（図６参照）を介して計測される。プレート干渉計システム２１は、国際公開第２００５／０８１２９５号パンフレットに開示されている干渉計システムと同様の構成のものが用いられている。すなわち、プレート干渉計システム２１は、図１及に示されるように、レーザ干渉計２５，２６を備えている。なお、プレート干渉計システム２１は、実際には、微動テーブルＦＴＢａ、ＦＴＢｂそれぞれに固定されたＹ軸方向に直交する反射面を有するＹ移動鏡２７ｙ、２８ｙ（図１及び図２参照）を用いてセンターラインＣＬ上でプレートテーブルＴＢａ、ＴＢｂそれぞれのＹ軸方向の位置情報を計測するレーザ干渉計２５，２６（図１参照）と、微動テーブルＦＴＢａ、ＦＴＢｂそれぞれに固定されたＸ軸方向に直交する反射面を有するＸ移動鏡２７ｘ、２８ｘ（図２参照）を用いてプレートテーブルＴＢａ、ＴＢｂのＸ軸方向の位置情報を計測する図示しない複数のレーザ干渉計とを含んでいる。プレート干渉計システム２１の計測値は、主制御装置２０（図６参照）に送られる。プレート干渉計システム２１を構成する複数のレーザ干渉計には、測定方向に平行な複数の測長軸を有する多軸干渉計が用いられており、プレートテーブルＴＢａ，ＴＢｂそれぞれのＸ位置、Ｙ位置、及びθｘ、θｙ、θｚ回転量（回転情報）を計測可能である。プレートテーブルＴＢａ，ＴＢｂそれぞれのＺ軸方向の位置情報は、プレート表面の面位置情報を計測する不図示の計測系によって計測される。なお、前述したマスクステージＭＳＴ、及びプレートテーブルＴＢａ、ＴＢｂの位置情報を計測するシステムとしては、上述したレーザ干渉計システム１７、２１に限らず、例えばリニアエンコーダシステムを用いても良い。
【００３３】
第１自重キャンセラ装置７０は、心柱とも呼ばれ、図１に示されるように、定盤５１の上面に直交する１本の柱状部材から成る。図４には、第１自重キャンセラ装置７０が一部破断して示されている。第１自重キャンセラ装置７０は、国際公開第２００６／９２５４号パンフレットに開示されるものと同様の機能及び構成を有している。すなわち、第１自重キャンセラ装置７０は、Ｚ軸方向を長手方向とする円柱状（又は断面が多角形の柱状）に形成され、上面部に凹部７１ａを有する本体部７１、凹部７１ａに収容され、本体部７１に対してＺ軸方向に移動可能なスライド部７２、凹部７１ａの底面とスライダ部７２の下面との間に配置されたエアアクチュエータである空気バネ７３、本体部７１を定盤５１に対して浮上支持するベースパッド７４、及び自重支持の対象となるプレートテーブルＴＢａ（又はＴＢｂ）を非接触支持する支持パッド７５などを含む。
【００３４】
空気バネ７３には、不図示の気体供給装置から気体が供給されており、その内部は外気に比べて気圧の高い陽圧空間となっている。プレートテーブルＴＢａ（又はＴＢｂ）の自重は、スライド部７２を介して空気バネ７３により支持される。ベースパッド７４は、不図示の気体供給装置から供給される気体を定盤５１の上面に対して噴出することにより、本体部７１を定盤５１上面から所定のクリアランスで浮上させる気体静圧軸受（例えば、エアベアリング）を含んでいる。支持パッド７５は、プレートテーブルＴＢ（又はＴＢｂ）の下面に対して不図示の気体供給装置から供給される気体を噴出することにより、プレートテーブルＴＢ（又はＴＢｂ）を所定のクリアランスを介して非接触支持する気体静圧軸受を含んでいる。
【００３５】
また、図１及び図３に示されるように、自重キャンセラ装置７０の本体部７１には、Ｘ軸方向に貫通する開口部７１ｂが形成されている。この開口部７１ｂには、後述する自重キャンセラ装置駆動装置８０のガイド部８３が挿入されている。本体部７１は、図示しない転がり軸受けを介してガイド部８３に支持されている。従って、第１自重キャンセラ装置７０は、ガイド部８３のＹ軸方向の移動に連動してＹ軸方向に移動する。
【００３６】
自重キャンセラ装置駆動装置８０は、図２及び図３に示されるように、Ｙ軸方向を長手方向とし、床面Ｆ上に図示しない防振機構を含む脚部８４ａ、８４ｂを介して設置された一対の固定子部８１，８２と、一対の固定子部８１，８２に渡して設けられたＸ軸方向を長手方向とする梁状部材であるガイド部（リニアガイド）８３とを備えている。
【００３７】
一対の固定子部８１，８２それぞれには、Ｙ軸方向に沿って所定間隔で配列された複数のコイル（図示省略）が設けられている。また、ガイド部８３のＸ軸方向の両端部には、永久磁石（図示省略）が設けられており、これらのコイル及び永久磁石によって、ムービングマグネット型のリニアモータ（以下、Ｙリニアモータ８６と呼ぶ。図６参照）が構成されている。このＹリニアモータ８６は、後述する主制御装置２０により駆動制御される。なお、本実施形態では、ガイド部８３は、図示しない転がり軸受けを介して固定子部８１、８２に接触支持されているが、これに限らず、例えばエアベアリングを介して浮上支持させても良いし、磁気浮上させても良い。
【００３８】
なお、定盤５１と一対の固定子部８１，８２それぞれとは、機械的に分離された状態で床面Ｆに設置されており、自重キャンセラ装置駆動装置８０が自重キャンセラ装置７０を駆動する際に固定子部８１，８２に作用する反力に起因する振動が定盤５１に伝達することが防止されている。また、自重キャンセラ装置駆動装置８０の固定子部８１，８２と、プレートテーブル駆動装置６０の固定子部６１，６２も、同様に機械的に分離された状態で床面Ｆに設置されており、相互間の振動の伝達が防止されている。
【００３９】
ガイド部８３は、Ｘ軸方向に沿って所定間隔で配列された不図示の複数のコイルを備えている。一方、第１自重キャンセラ装置７０は、ガイド部８３のコイルに対向して配置された不図示の永久磁石を備えており、これらのコイル及び永久磁石によって、ムービングマグネット型のリニアモータ（以下、Ｘリニアモータ８７と呼ぶ。図６参照）が構成されている。Ｘリニアモータ８７は、後述する主制御装置２０により駆動制御される。従って、本実施形態の露光装置１００では、２つのプレートテーブルＴＢａ、ＴＢｂと、第１自重キャンセラ装置７０とは、それぞれが独立制御されるリニアモータによって個別に２次元駆動される。ただし、主制御装置２０は、プレートテーブルＴＢａ（又はＴＢｂ）に保持されたプレートＰａ（又はＰｂ）に対して露光を行う際には、プレートテーブルＴＢａ（又はＴＢｂ）の重心位置の直下に自重キャンセラ装置７０が配置された状態が維持されるように、第１自重キャンセラ装置７０と、プレートテーブルＴＢａ（又はＴＢｂ）とを同期制御する。例えば、プレートテーブルＴＢａ（又はＴＢｂ）と第１次自重キャンセラ装置７０との間隔を測定するセンサを設け、その間隔が一定となるように、第１自重キャンセラ装置７０をプレートテーブルＴＢａ（又はＴＢｂ）に追従させるように制御しても良い。
【００４０】
図１に戻って、第２自重キャンセラ装置３０は、第１アライメント系群ＡＬａを用いてプレートＰａに形成された不図示のアライメントマークを検出する際に、プレートテーブルＴＢａの自重を支持する。また、第３自重キャンセラ装置４０は、第２アライメント系群ＡＬｂを用いてプレートＰｂに形成された不図示のアライメントマークを検出する際に、プレートテーブルＴＢｂの自重を支持する。第２及び第３自重キャンセラ装置３０，４０それぞれは、特に説明する場合を除き、実質的に同じ機能及び構造を有していることから、以下、これらを代表して、第２自重キャンセラ装置３０の構成について説明する。
【００４１】
第２自重キャンセラ装置３０は、図５に示されるように、床面Ｆ上に設置されたＸ軸方向を長手方向とする固定子部３１、下面にＸ軸に沿って形成された凹部を有する断面逆Ｕ字状の部材である移動子部３２、及び移動子部３２上に搭載された自重支持部３３を含んでいる。
【００４２】
固定子部３１は、移動子部３２の凹部内に収容されている。固定子部３１は、Ｘ軸方向に所定間隔で配列された不図示の複数のコイルを備えている。複数のコイルは、移動子部３２に設けられた不図示の複数の永久磁石と共に、移動子部３２をＸ軸方向に駆動するリニアモータ（以下、Ｘリニアモータ３４と呼ぶ。図６参照）を構成する。
【００４３】
移動子部３２は、その下面に設けられた転がり軸受け３５を介して床面Ｆに支持されている。なお、転がり軸受け３５は、図５には１つのみ示されているが、実際には、移動子部３２と床面Ｆとのクリアランスを一定に保てるように少なくとも３つが設けられている。移動子部３２は、その下面に断面三角形状の溝部３２ａがＸ軸に沿って形成され、この溝部３２ａには、床面Ｆに固定されたＸ軸方向を長手方向とする断面三角形状のガイドレール３６が、これらの摺動を許容する程度の微少な隙間を介して嵌合している。従って、移動子部３２の移動方向は、Ｘ軸方向に拘束されている。
【００４４】
自重支持部３３は、その内部に図示しない空気バネを備えており、プレートテーブルＴＢａの自重を、その上面に設けられたエアベアリングパッド３７を介して、移動子部３２上で非接触支持する。自重支持部３３は、全体的な形状がＹ軸方向を長手方向とする平面視（Ｚ軸方向から見て）長方形の板状とされ、移動子部３２の上面に、不図示の転がり軸受けを介して支持されている。自重支持部３３は、その内部に不図示の永久磁石を備え、この永久磁石は、移動子部３２の上面側に配置されたコイル３８と共に、自重支持部３３をＹ軸方向に駆動するリニアモータ（以下、Ｙリニアモータ３９と呼ぶ。図６参照）を構成している。前述のＸリニアモータ３４及びＹリニアモータ３９それぞれは、後述する主制御装置２０によって制御される。
【００４５】
主制御装置２０は、プレートテーブルＴＢａに保持されたプレートＰａのアライメント計測を行う際、プレートテーブル駆動装置６０の第１Ｘリニアモータ６７を介して、プレートＰａの＋Ｘ側の端部が第１アライメント系群ＡＬａの直下に配置されるポジションと、プレートＰａの−Ｘ側の端部が第１アライメント系群ＡＬａの直下に配置されるポジションとの間で、プレートテーブルＴＢａをＸ軸方向に駆動する。また、主制御装置２０は、自重キャンセラ装置３０のＸリニアモータ３４を介して、移動子部３３をプレートテーブルＴＢａに連動（追従）するようにＸ軸方向に駆動し、アライメント計測中、プレートテーブルＴＢａの重心位置が、常に自重キャンセラ装置３０の移動子部３３によって支持されるように制御する。自重キャンセラ装置４０も、自重キャンセラ装置３０と同様の構成を備え、自重キャンセラ装置３０と同様に主制御装置２０によって制御される。
【００４６】
以上説明したように、本実施形態の露光装置１００では、独立して２次元移動可能な２つのプレートテーブルＴＢａ，ＴＢｂを有し、且つこれら２つのプレートテーブルＴＢａ，ＴＢｂに対応して第１アライメント系群ＡＬａ、及び第２アライメント系群ＡＬｂが、定盤５１を挟んで設けられている。従って、プレートテーブルＴＢａに保持されたプレートＰａのアライメント計測を行っている間、プレートテーブルＴＢｂに保持されたプレートＰｂに対して定盤５１上で露光処理を行うことができ、同様に、プレートテーブルＴＢｂに保持されたプレートＰｂのアライメント計測を行っている間、プレートテーブルＴＢａに保持されたプレートＰａに対して定盤５１上で露光処理を行うことができる。すなわち、本実施形態の露光装置１００では、プレートＰａ，Ｐｂの一方に対する露光を行う際、これと並行してプレートＰａ，Ｐｂの他方に対するアライメント計測を行うことができる。従って、待ち時間無く、順次プレート（Ｐａ又はＰｂ）の露光処理を行うことができるのでスループットが向上する。
【００４７】
図６には、露光装置１００の制御系の主要な構成が示されている。制御系は、主制御装置２０を中心として構成されている。主制御装置２０は、ワークステーション（又はマイクロコンピュータ）等を含み、上述したプレートテーブル駆動装置６０、第１自重キャンセラ装置駆動装置８０など、露光装置１００の構成各部を統括制御する。
【００４８】
ここで、本実施形態の露光装置１００では、プレートテーブルＴＢａに保持されたプレートＰａは、第１アライメント系群ＡＬａを用いたアライメント計測を経て定盤５１上で露光処理が施される。また、本実施形態では、主制御装置２０は、プレートＰａの露光処理が終了した後、他のプレート（プレートＰｂ）の露光処理に備えて、プレートＰａを保持するプレートテーブルＴＢａを第２自重キャンセラ装置３０上に退避させる（戻す）。そして、本実施形態の露光装置１００では、プレートテーブルＴＢａの自重は、第１アライメント系群ＡＬａの下方では、第２自重キャンセラ装置３０に支持され、定盤５１上では、第１自重キャンセラ装置３０に支持される。従って、露光装置１００では、プレートテーブルＴＢａがプレートテーブル駆動装置６０を介して第１アライメント系群ＡＬ１の下方と定盤５１上との間を相互間移動する際、これに伴って、第１自重キャンセラ装置７０と、第２自重キャンセラ装置３０との間でプレートテーブルＴＢａの受け渡しが行われる。
【００４９】
以下、第１自重キャンセラ装置７０と、第２自重キャンセラ装置３０との間におけるプレートテーブルＴＢａの受け渡し動作を、プレートテーブルＴＢａが第１自重キャンセラ装置７０から、第２自重キャンセラ装置３０に受け渡される場合を例に挙げて説明する。図７（Ａ）〜図７（Ｅ）には、プレートテーブルＴＢａが自重キャンセラ装置７０から、第２自重キャンセラ装置３０に受け渡される際の動作が示されている。プレートテーブルＴＢａの受け渡しに際し、主制御装置２０は、まず、図７（Ａ）に示されるように、プレートテーブルＴＢａを支持する第１自重キャンセラ装置７０を、定盤５１上におけるＹ軸方向の移動可能範囲における最も−Ｙ側の位置に配置する。
【００５０】
また、主制御装置２０は、図７（Ｂ）に示されるように、第２自重キャンセラ装置３０の自重支持部３３をＹリニアモータ３９を介して＋Ｙ方向、すなわち第１自重キャンセラ装置７０に接近する方向に駆動する。主制御装置２０は、このときの第１自重キャンセラ装置７０と第２自重キャンセラ装置３０との間隔（より詳細には、第１自重キャンセラ装置７０の支持パッド７５と、第２自重キャンセラ装置３０のエアベアリングパッド３７との間隔）を、一時的にプレートテーブルＴＢａの寸法（より詳細には、粗動ステージＣＴＢａ（図１参照）のＹ軸方向の寸法）よりも小さくなるようにＹリニアモータ３９を制御する。なお、以上の説明では、図７（Ａ）に示されるように第１自重キャンセラ装置７０を移動させた後に図７（Ｂ）で示されるように第２自重キャンセラ装置３０の自重支持部３３を移動させることとしたが、これに限らず図７（Ａ）及び図７（Ｂ）に示される動作を並行して行っても良いし、図７（Ａ）及び図７（Ｂ）に示される動作の順番を逆にしても、すなわち第１自重キャンセラ装置７０が図７（Ａ）に示されるポジションに配置される以前に、第２自重キャンセラ装置３０の自重支持部３３を、予め図７（Ｂ）に示されるポジションに移動させておいても良い。
【００５１】
次いで、図７（Ｂ）に示される状態から、主制御装置２０は、図７（Ｃ）に示されるようにプレートテーブル駆動装置６０のＹリニアモータ６６を用いてプレートテーブルＴＢａを−Ｙ方向に駆動する。このとき、主制御装置２０は、第１自重キャンセラ装置駆動装置８０を介して第１自重キャンセラ装置７０を、図７（Ａ）に示される位置で停止させておく。従って、プレートテーブルＴＢａのみが単独で−Ｙ方向に移動する。
【００５２】
図７（Ｃ）には、プレートテーブルＴＢａが第１自重キャンセラ装置７０及び第３自重キャンセラ装置３０の両方によって支持された状態が示されている。この図７（Ｃ）に示されるように、プレートテーブルＴＢａは、−Ｙ方向へ単独で移動することによって、第１自重キャンセラ装置７０から、第３自重キャンセラ装置３０に乗り移る。この際、第３自重キャンセラ装置３０の自重支持部３３は、図７（Ｂ）に示す位置で停止している。
【００５３】
そして、図７（Ｄ）に示されるようにプレートテーブルＴＢａの重心位置が自重支持部３３の中心にほぼ一致すると、主制御装置７０は、Ｙリニアモータ３９を用いて自重支持部３３をプレートテーブルＴＢａに連動（追従）させて、−Ｙ方向に駆動し、プレートテーブルＴＢａを、図７（Ｅ）に示される所定のアライメント計測位置に移動させる。なお、プレートテーブルＴＢａの受け渡しを行う際は、受け渡し完了後にプレートＰａの＋Ｘ側（又は−Ｘ側）の端部が第１アライメント系群ＡＬａの直下に配置されるように、第１自重キャンセラ装置７０と、第２自重キャンセラ装置３０の自重支持部３３それぞれを、予めセンターラインＣＬよりも＋Ｘ側（又は−Ｘ側）に寄せておくと、受け渡し完了後に直ちにアライメント計測時を行うことができるので効率がよい。なお、図７（Ｅ）では、第１自重キャンセラ装置７０は、図７（Ａ）と同じ位置で停止して示されているが、これに限らず図７（Ｄ）に示される、プレートテーブルＴＢａを非支持状態となった時点で、＋Ｙ方向に移動してプレートテーブルＴＢｂを第３自重キャンセラ装置４０から受け取りに行くように制御してもよい。
【００５４】
主制御装置２０は、プレートテーブルＴＢａを自重キャンセラ装置３０の自重支持部３３から、第１自重キャンセラ装置７０に受け渡す際も同様の制御を行う。すなわち、主制御装置２０は、プレートテーブルＴＢａと、このプレートテーブルＴＢａの自重を支持した状態の自重支持部３３を、連動させて第１自重キャンセラ装置７０に一時的に接近させ、この後に自重キャンセラ装置３０の自重支持部３７のＹ軸方向の移動を停止し、プレートテーブルＴＢａのみを+Ｙ方向に駆動する。また、プレートテーブルＴＢｂを第１自重キャンセラ装置７０と、第３自重キャンセラ装置４０との間で受け渡す際の動作も、上述したプレートテーブルＴＢａの受け渡し動作と同様であるので、ここでは説明を省略する。
【００５５】
以上説明したように、本実施形態では、自重キャンセラ装置相互間でプレートテーブルＴＢａ（又はＴＢｂ）の受け渡しを行う際、これらの間隔が受け渡し対象のプレートテーブルの寸法よりも一時的に小さくされるので、図７（Ａ）〜図７（Ｅ）に示されるように、受け渡し動作が行われている最中、プレートテーブルＴＢａ（又はＴＢｂ）の自重は、必ず２つの自重キャンセラ装置７０、３０（又は自重キャンセラ装置７０、４０）のうちの少なくとも一方によって支持される。ここで、仮に自重キャンセラ装置相互間の間隔が、受け渡し対象のプレートテーブルの寸法よりも大きい状態でプレートテーブルのみをＹ軸方向に駆動した場合、プレートテーブルの自重が、２つの自重キャンセラ装置のいずれにも支持されない事態が生ずるが、本実施形態では、常時いずれかの自重キャンセラ装置によってプレートテーブルの自重が支持されているので、プレートテーブルの受け渡し最中にプレートテーブル（及びそのプレートテーブルに保持されているプレート）に撓みが発生することを抑制することができる。
【００５６】
以上説明した本実施形態の露光装置１００では、ローディングポジションＬＰ（図２参照）に配置されたプレートテーブルＴＢａ、ＴＢｂ上に、不図示の搬送系を介して露光対象のプレートＰａ、Ｐｂそれぞれが載置される。なお、プレートＰａ、Ｐｂに対して露光を行う際の前提として、前述したマーク像検出系ＭＤａ、ＭＤｂ、及び第１及び第２アライメント系ＡＬａ、ＡＬｂ、並びにプレートテーブル上の基準マークを用いたマスクアライメント及び第１及び第２アライメント系群ＡＬａ、ＡＬｂのベースライン計測などが行われているものとする。
【００５７】
主制御装置２０は、第１アライメント系群ＡＬａを用いて露光対象のプレートＰａに形成されたアライメントマークと、このプレートＰａを保持するプレートテーブルＴＢａ上の基準マークを用いてアライメント計測を行い、その計測結果をメモリに保存する。次いで、主制御装置は２０、プレートテーブルＴＢａを定盤５１上に移動させる。この際、主制御装置２０は、前述したように、一時的に自重キャンセラ装置相互間の間隔がプレートテーブルＴＢａの寸法より小さくなるように制御した状態で、プレートテーブルＴＢａを第１自重キャンセラ装置３０から自重キャンセラ装置７０に受け渡させる。
【００５８】
主制御装置２０は、プレート干渉計システム２１、マスク干渉計システム１７の計測値をモニタしつつ、事前に行われたアライメントマーク計測の結果、及びベースラインの計測結果に基づいて、プレートテーブルＴＢａ、及びマスクステージＭＳＴをそれぞれ駆動し、通常のスキャニング・ステッパと同様にステップ・アンド・スキャン方式の露光動作を行い、プレート上Ｐａの複数のショット領域にマスクＭのパターンをそれぞれ転写する。この露光動作は、前述したマスクステージＭＳＴとプレートテーブルＴＢａとの同期移動を行う走査露光動作と、プレートテーブルＴＢａをショット領域の露光のための加速開始位置に移動するショット間移動（ステッピング）動作とを交互に繰り返すことで行われる。なお、主制御装置２０は、第２自重キャンセラ装置３０（又は第３自重キャンセラ装置４０）から第１自重キャンセラ装置７０への受け渡しの途中で、走査露光に備えてプレートＰａ（又はＰｂ）の加速を開始しても良く、また、受け渡しの最中に、所定の目標速度に達した場合には、プレートＰａ（又はＰｂ）に対する走査露光を開始しても良い。
【００５９】
主制御装置２０は、プレートＰａに対する露光処理が終了した場合には、プレートＰａを保持するプレートテーブルＴＢａを第１自重キャンセラ装置７０上から、第２自重キャンセラ装置３０上に移動させる。この際も前述した場合と同様に、主制御装置２０は、自重キャンセラ装置３０，７０相互間の間隔を、一時的にプレートテーブルＴＢａの寸法より小さくなるように制御した状態で、第１自重キャンセラ装置７０から第２自重キャンセラ装置３０にプレートテーブルＴＢａを受け渡させる。
【００６０】
また、主制御装置２０は、プレートＰａに対する露光処理と並行して、第２アライメント系群ＡＬｂを用いたプレートＰｂのアライメント計測を行い、露光処理が終了したプレートＰａ（プレートテーブルＴＢａ）を定盤５１上から第１アライメント系群ＡＬａの下方に移動させた後、このプレートテーブルＴＢａと入れ替わるように、プレートＰｂを保持するプレートテーブルＴＢｂを第２アライメント系群ＡＬｂの下方から定盤５１上に移動させ、同様の手順でステップ・アンド・スキャン方式の露光動作を行う。このプレートテーブルＴＢｂの移動時にも、主制御装置２０は、同様に自重キャンセラ装置４０，７０相互間の間隔を一時的にプレートテーブルＴＢｂの寸法よりも小さくする制御を行う。
【００６１】
以上説明したように、本実施形態の露光装置１００は、２つのプレートテーブルＴＢａ、ＴＢｂを備え、一方のプレートテーブルに保持されたプレートのアライメント計測を行っている間、他方のプレートテーブルに保持されたプレートに対して露光処理を行うことができるので、スループットが向上する。また、プレートテーブルの自重を支持する自重キャンセラ装置相互間で、プレートテーブルの受け渡しを行う際（プレートテーブルの自重を支持する役目の自重キャンセラ装置が入れ替わる際）、自重キャンセラ装置相互間の間隔が、一時的にプレートテーブルの寸法よりも小さくなるように自重キャンセラ装置をプレートテーブルとは独立して駆動するので、プレートテーブルの受け渡し中であっても、確実にプレートテーブルの自重を支持することができる。従って、プレートテーブル及びこれに保持されるプレートの撓みを抑制することができる。
【００６２】
なお、上記実施形態では、定盤５１上でプレートテーブルＰＴａ、ＰＴｂの自重を支持する第１自重キャンセラ装置７０のみが、心柱とも呼ばれる柱状の装置であったが、これに限らず、第１及び第２アライメント系群ＡＬａ、ＡＬｂそれぞれの下方に配置された第２及び第３自重キャンセラ装置も、心柱と呼ばれる柱状の装置としてもよい。
【００６３】
また、上記実施形態の液晶露光装置１００は、２つのプレートテーブルを備える、いわゆるツインテーブル構造であったが、これに限らず、プレートテーブルを一つしか備えず、この一つのプレートテーブルを２つの自重キャンセラ装置相互間で受け渡すような露光装置にも、本発明を適用することができる。また、上記実施形態では、２つのプレートテーブルに対して、３つの自重キャンセラ装置が設けられが、これに限らず、自重キャンセラ装置は、２つでも良い。この場合、２つの自重キャンセラ装置間で一方のプレートテーブルの受け渡しを行う際、他方のプレートテーブルを、自重キャンセラ装置を備えない他の支持装置で支持すれば良い。
【００６４】
また、上記実施形態の露光装置１００では、第１自重キャンセラ装置７０は定盤５１上に設けられ、第２及び第３自重キャンセラ装置３０，４０それぞれは、床面上、すなわち定盤５１とは異なる土台上に配置されたが、これに限らず、すべて同一の土台上、例えば床面上（又は共通の定盤上）に配置しても良い。
【００６５】
また、上記実施形態の露光装置１００では、第２及び第３自重キャンセラ装置３０，４０は、Ｘ軸及びＹ軸方向に２次元移動可能とされたが、これに限らず、少なくとも自重支持部３３，４３がプレートテーブルの受け渡しのために、Ｙ軸方向（１次元方向）に移動できれば良い。
【００６６】
また、上記実施形態では、各自重キャンセラ装置は、プレートテーブルをエアベアリングを介して非接触支持したが、これに限らず、プレートテーブルを接触支持しても良い。また、第１自重キャンセラ装置７０は、定盤５１上にエアベアリングを介して非接触支持されたが、これに限らず定盤に摺動可能に設けても良い。
【００６７】
また、上記実施形態では、プレートテーブル駆動装置６０及び第１自重キャンセラ装置駆動装置８０は、ムービングマグネット型のリニアモータを介してプレートテーブルＰＴａ、ＰＴｂ、第1自重キャンセラ装置７０を駆動したが、これに限らずムービングコイル型のリニアモータで駆動しても良く、また、ロータリモータとボールねじ（又は送りねじ）とを組み合わせた駆動装置で駆動しても良い。
【００６８】
また、上記実施形態のプレートテーブルは、粗動テーブルと微動テーブルとを備える粗微動構造であったが、これに限らず単一構造のテーブル装置であっても良い。なお、単一構造のテーブル装置を６自由度方向に移動可能に構成した場合、このテーブル装置の自重を支持する自重キャンセラ装置の支持パッドも、テーブル装置に追従できるように、６自由度方向に移動可能に構成すると良い。
【００６９】
また、上記実施形態では、プレートテーブルを駆動するプレートテーブル駆動装置は、２つのプレートテーブルそれぞれに対してガイド部（リニアガイド）が設けられていたが、これに限らず一つ（一本）のガイド部を２つのテーブルが共用する構成であっても良い。この場合、上記実施形態と異なり、ガイド部と各プレートテーブルとは、分離可能に構成される。なお、各プレートテーブルのＹ軸方向の駆動に関しては、例えばガイド部にボイスコイルモータなどを配置し、ガイド部とプレートテーブルとの間に電磁気的な力を発生させて、各プレートテーブルをガイド部に追従させるようにすると良い。また、この場合、第２及び第３自重キャンセラ装置を、プレートテーブルの重心位置をエアベアリングを介さずに接触支持するように構成し、アライメント計測時には、第２及び第３自重キャンセラ装置それぞれのＸリニアモータ、及びＹリニアモータを用いてプレートテーブルを駆動させると良い。これにより、アライメント計測時には、ガイド部とプレートテーブルとを分離させることができ、ガイド部は、一方のプレートテーブルを一方の（例えば第２）自重キャンセラ装置に受け渡した後、直ちに他方の（例えば第３）自重キャンセラ装置から他方のプレートテーブルを受け取ることができるので、上記実施形態に比べても、スループットが極端に低下しない。
【００７０】
また、上記実施形態において、照明光として、例えばＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。また、固体レーザ（波長：３５５ｎｍ、２６６ｎｍ）などを使用しても良い。
【００７１】
なお、上記実施形態では、投影光学系モジュールＰＬＭが、複数本の投影光学ユニットを備えたマルチレンズ方式の投影光学系である場合について説明したが、投影光学ユニットの本数はこれに限らず、１本以上あれば良い。また、マルチレンズ方式の投影光学系に限らず、オフナー型の大型ミラーを用いた投影光学系などであっても良い。
【００７２】
また、上記実施形態では投影光学系モジュールＰＬＭとして、投影倍率が等倍のものを用いる場合について説明したが、これに限らず、投影光学系は縮小系及び拡大系のいずれでも良い。
【００７３】
なお、上記実施形態においては、光透過性のマスク基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（可変成形マスク）、例えば、非発光型画像表示素子（空間光変調器とも呼ばれる）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）を用いる可変成形マスクを用いても良い。
【００７４】
なお、上記実施形態では、プレートのステップ・アンド・スキャン動作を伴う走査型露光を行う投影露光装置に適用された場合について説明したが、これに限らず、本発明は、投影光学系を用いない、プロキシミティ方式の露光装置にも適用することができる。また、本発明は、ステップ・アンド・リピート方式の露光装置（いわゆるステッパ）あるいはステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用することができる。
【００７５】
また、露光装置の用途としては角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置に限定されることなく、例えば半導体製造用の露光装置、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン及びＤＮＡチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるマスク又はレチクルを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。なお、露光対象となる物体はガラスプレートに限られるものでなく、例えばウエハ、セラミック基板、フィルム部材、あるいはマスクブランクスなど、他の物体でも良い。また、シリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置として、例えば米国特許出願公開第２００５／０２５９２３４号明細書などに開示される、投影光学系とウエハとの間に液体が満たされる液浸型露光装置などに本発明を適用しても良い。
【００７６】
また、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているように、干渉縞をウエハ上に形成することによって、ウエハ上にライン・アンド・スペースパターンを形成する露光装置（リソグラフィシステム）にも本発明を適用することができる。
【００７７】
なお、本発明は、露光装置に限らず、例えば、特開２００４−１３０３１２号公報などに開示される，インクジェットヘッド群と同様のインクジェット式の機能性液体付与装置を備えた素子製造装置にも適用しても良い。
【産業上の利用可能性】
【００７８】
以上説明したように、本発明の移動体装置及び移動体駆動方法は、移動体を駆動するのに適している。また、本発明の露光装置は、物体上にパターンを形成するのに適している。また、本発明のデバイス製造方法は、液晶表示素子などの電子デバイスを製造するのに適している。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】本発明の一実施形態に係る液晶露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】図１の液晶露光装置を＋Ｚ軸方向から見た平面図である。
【図３】図１の液晶露光装置を−Ｙ軸方向から見た図である。
【図４】第１の自重キャンセラ装置の構成を一部破断して示す図である。
【図５】第２の自重キャンセラ装置の構成を示す図である。
【図６】一実施形態の液晶露光装置の制御系の主要な構成を示すブロック図である。
【図７】図７（Ａ）〜図７（Ｅ）は、自重キャンセラ装置相互間でのプレートテーブルの受け渡し動作を説明するための図である。
【符号の説明】
【００８０】
１０…照明系、２０…主制御装置、３０…第２自重キャンセラ装置、４０…第３自重キャンセラ、５１…定盤、６０…プレートテーブル駆動装置、７０…第１自重キャンセラ装置、８０…第１自重キャンセラ装置駆動装置、１００…液晶露光装置、ＡＬａ，ＡＬｂ…アライメント系群、Ｍ…マスク、Ｐａ，Ｐｂ…プレート、ＴＢａ，ＴＢｂ…プレートテーブル。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
定盤上を移動する移動体を備えた移動体装置であって、
前記移動体の自重を前記定盤上で支持するとともに、前記定盤上を２次元移動可能な第１の自重支持部材と；
前記定盤とは別の土台上で前記移動体の自重を支持するとともに、前記第１の自重支持部材とは独立して１次元又は２次元に移動可能な第２の自重支持部材と；
前記移動体の２次元移動時には、該移動に連動して前記第１の自重支持部材を移動させるともに、前記移動体を前記第１及び第２の自重支持部材相互間で受け渡す際には、前記第１及び第２の自重支持部材相互間の間隔が一時的に前記移動体の寸法より小さくなるように、前記第１及び第２の自重支持部材の少なくとも一方を駆動する駆動系と；を備える移動体装置。
【請求項２】
２つの移動体を備えた移動体装置であって、
定盤と；
第１移動体と第２移動体の一方の自重を前記定盤上で支持するとともに、前記定盤上を２次元移動可能な第１の自重支持部材と；
少なくとも前記一方の移動体が所定の処理作業に従事している間、他方の移動体の自重を前記定盤又は別の土台上で支持するとともに、前記第１の自重支持部材とは独立して１次元又は２次元に移動可能な第２の自重支持部材と；
前記一方の移動体の２次元移動と連動して前記第１の自重支持部材を移動させるとともに、前記第１又は第２移動体を前記第１及び第２の自重支持部材相互間で受け渡す際には、前記第１及び第２の自重支持部材相互間の間隔が、一時的に受け渡し対象の移動体の寸法より小さくなるように、前記第１及び第２の自重支持部材の少なくとも一方を駆動する駆動系と；を備える移動体装置。
【請求項３】
前記第１及び第２の自重支持部材の各々と前記移動体との間に流体軸受部材が設けられる請求項１又は２に記載の移動体装置。
【請求項４】
前記第１の自重支持部材は、前記定盤上に非接触支持される請求項１〜３のいずれか１項に記載の移動体装置。
【請求項５】
前記第１の自重支持部材は、前記定盤の上面に直交する１本の柱状部材から成る請求項１〜４のいずれか１項に記載の移動体装置。
【請求項６】
前記移動体は、前記所定平面内の互いに直交する第１及び第２軸方向、及びこれらに直交する第３軸方向、並びに前記第１〜３軸回りの回転方向の６自由度方向のうち、少なくとも前記第１及び第２軸方向に移動可能である請求項１〜５のいずれか１項に記載の移動体装置。
【請求項７】
前記駆動系は、前記第１及び第２自重支持部材並びに前記移動体を駆動する駆動装置を含み、
前記駆動装置と前記定盤とは、機械的に分離された状態で所定の設置面上に設置される請求項１〜６のいずれか１項に記載の移動体装置。
【請求項８】
エネルギビームの照射によって物体にパターンを形成する露光装置であって、
前記物体が前記移動体上に載置される、請求項１〜７のいずれか一項に記載の移動体装置と；
前記移動体上に載置された前記物体に前記エネルギビームを照射するパターニング装置と；を備える露光装置。
【請求項９】
前記パターニング装置は、前記定盤上で前記第１の自重支持部材に支持された前記移動体に載置された前記物体に前記エネルギビームを照射する請求項８に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記パターニング装置は、前記第１及び第２の自重支持部材相互間を移動中の前記移動体に載置された前記物体に前記エネルギビームを照射する請求項８又は９に記載の露光装置。
【請求項１１】
請求項８〜１０のいずれか１項に記載の露光装置を用いて物体を露光することと、
前記露光された物体を現像することと；を含むデバイス製造方法。
【請求項１２】
第１の自重支持部材と、前記第１の自重支持部材に自重を支持された移動体とが、連動して定盤上を２次元移動可能な状態から、前記第１の自重支持部材と、前記定盤とは別の土台上で前記移動体の自重を支持した状態で前記第１の自重支持部材とは独立して１次元又は２次元に移動可能な第２の自重支持部材と、の少なくとも一方を、前記第１及び第２の自重支持部材相互間の間隔が一時的に前記移動体の寸法より小さくなるように駆動する工程と；
前記第１及び第２の自重支持部材相互間の間隔を前記移動体の寸法より小さくした状態で前記移動体を駆動して、前記第１及び第２の自重支持部材相互間で前記移動体を受け渡す工程と；を備える移動体駆動方法。
【請求項１】
定盤上を移動する移動体を備えた移動体装置であって、
前記移動体の自重を前記定盤上で支持するとともに、前記定盤上を２次元移動可能な第１の自重支持部材と；
前記定盤とは別の土台上で前記移動体の自重を支持するとともに、前記第１の自重支持部材とは独立して１次元又は２次元に移動可能な第２の自重支持部材と；
前記移動体の２次元移動時には、該移動に連動して前記第１の自重支持部材を移動させるともに、前記移動体を前記第１及び第２の自重支持部材相互間で受け渡す際には、前記第１及び第２の自重支持部材相互間の間隔が一時的に前記移動体の寸法より小さくなるように、前記第１及び第２の自重支持部材の少なくとも一方を駆動する駆動系と；を備える移動体装置。
【請求項２】
２つの移動体を備えた移動体装置であって、
定盤と；
第１移動体と第２移動体の一方の自重を前記定盤上で支持するとともに、前記定盤上を２次元移動可能な第１の自重支持部材と；
少なくとも前記一方の移動体が所定の処理作業に従事している間、他方の移動体の自重を前記定盤又は別の土台上で支持するとともに、前記第１の自重支持部材とは独立して１次元又は２次元に移動可能な第２の自重支持部材と；
前記一方の移動体の２次元移動と連動して前記第１の自重支持部材を移動させるとともに、前記第１又は第２移動体を前記第１及び第２の自重支持部材相互間で受け渡す際には、前記第１及び第２の自重支持部材相互間の間隔が、一時的に受け渡し対象の移動体の寸法より小さくなるように、前記第１及び第２の自重支持部材の少なくとも一方を駆動する駆動系と；を備える移動体装置。
【請求項３】
前記第１及び第２の自重支持部材の各々と前記移動体との間に流体軸受部材が設けられる請求項１又は２に記載の移動体装置。
【請求項４】
前記第１の自重支持部材は、前記定盤上に非接触支持される請求項１〜３のいずれか１項に記載の移動体装置。
【請求項５】
前記第１の自重支持部材は、前記定盤の上面に直交する１本の柱状部材から成る請求項１〜４のいずれか１項に記載の移動体装置。
【請求項６】
前記移動体は、前記所定平面内の互いに直交する第１及び第２軸方向、及びこれらに直交する第３軸方向、並びに前記第１〜３軸回りの回転方向の６自由度方向のうち、少なくとも前記第１及び第２軸方向に移動可能である請求項１〜５のいずれか１項に記載の移動体装置。
【請求項７】
前記駆動系は、前記第１及び第２自重支持部材並びに前記移動体を駆動する駆動装置を含み、
前記駆動装置と前記定盤とは、機械的に分離された状態で所定の設置面上に設置される請求項１〜６のいずれか１項に記載の移動体装置。
【請求項８】
エネルギビームの照射によって物体にパターンを形成する露光装置であって、
前記物体が前記移動体上に載置される、請求項１〜７のいずれか一項に記載の移動体装置と；
前記移動体上に載置された前記物体に前記エネルギビームを照射するパターニング装置と；を備える露光装置。
【請求項９】
前記パターニング装置は、前記定盤上で前記第１の自重支持部材に支持された前記移動体に載置された前記物体に前記エネルギビームを照射する請求項８に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記パターニング装置は、前記第１及び第２の自重支持部材相互間を移動中の前記移動体に載置された前記物体に前記エネルギビームを照射する請求項８又は９に記載の露光装置。
【請求項１１】
請求項８〜１０のいずれか１項に記載の露光装置を用いて物体を露光することと、
前記露光された物体を現像することと；を含むデバイス製造方法。
【請求項１２】
第１の自重支持部材と、前記第１の自重支持部材に自重を支持された移動体とが、連動して定盤上を２次元移動可能な状態から、前記第１の自重支持部材と、前記定盤とは別の土台上で前記移動体の自重を支持した状態で前記第１の自重支持部材とは独立して１次元又は２次元に移動可能な第２の自重支持部材と、の少なくとも一方を、前記第１及び第２の自重支持部材相互間の間隔が一時的に前記移動体の寸法より小さくなるように駆動する工程と；
前記第１及び第２の自重支持部材相互間の間隔を前記移動体の寸法より小さくした状態で前記移動体を駆動して、前記第１及び第２の自重支持部材相互間で前記移動体を受け渡す工程と；を備える移動体駆動方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２０１０−８７２００（Ｐ２０１０−８７２００Ａ）
【公開日】平成２２年４月１５日（２０１０．４．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２５４０９３（Ｐ２００８−２５４０９３）
【出願日】平成２０年９月３０日（２００８．９．３０）
【出願人】（０００００４１１２）株式会社ニコン (12,601)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年４月１５日（２０１０．４．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年９月３０日（２００８．９．３０）
【出願人】（０００００４１１２）株式会社ニコン (12,601)
【Ｆターム（参考）】
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