【課題】スループットを向上させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１００は、インデクサブロック１１、第１の処理ブロック１２、第２の処理ブロック１３およびインターフェイスブロック１４を備える。インデクサブロック１１は、一対のキャリア載置部１１１ａ，１１１ｂおよび搬送部１１２を含む。キャリア載置部１１１ａ，１１１ｂには、複数の基板Ｗを多段に収容するキャリア１１３がそれぞれ載置される。搬送部１１２には、搬送機構ＩＲ１，ＩＲ２が設けられる。搬送機構ＩＲ１，ＩＲ２は、互いに並行して基板Ｗを搬送する。 （もっと読む）

【課題】良好な露光精度が得られると共にタクトタイムの短縮を図ることができる露光ユニット及びそれを用いた露光方法を提供する。
【解決手段】露光ユニット１０は、マスクＭを保持するマスクステージ２１と、フラットパネルディスプレイ用基板Ｗ１，Ｗ２をそれぞれ保持する第１及び第２のワークチャック２２，２３を備える基板ステージ２４と、第１及び第２のワークチャック２２，２３に保持された基板Ｗ１，Ｗ２がマスクＭと対向するように、第１及び第２のワークチャック２２，２３を同期して移動可能なステージ移動機構２５と、マスクＭを介して基板Ｗ１，Ｗ２に露光光を照射する照明光学系と、を備える露光装置１１と、基板Ｗ１、Ｗ２をそれぞれ保持し、且つ、第１及び第２のワークチャック２２，２３に対して基板Ｗ１，Ｗ２を搬入及び搬出可能な第１及び第２の搬送装置１２，１３と、基板Ｗ１，Ｗ２の搬入及び搬出動作が同期して行われるように第１及び第２の搬送装置１２，１３を制御する制御部２０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】浮上ステージにおける基板の浮上高や姿勢を最適化しつつ、浮上用高圧気体の消費効率を改善すること。
【解決手段】このレジスト塗布装置における浮上ステージ１０は、搬送方向において塗布領域Ｍ_CTの前後に延びる搬入領域Ｍ_INおよび搬出領域Ｍ_OUTの浮上面をそれぞれ多数の浮上エリアに区画している。これらの浮上面には多数の噴出口１２配置されている。各々の浮上エリアにおける高圧気体の噴出圧力は噴出圧力制御部により独立に可変ないしオン・オフ制御されるようになっている。 （もっと読む）

【課題】被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置において、前記基板に対し所定の処理が施される直前に、該基板の位置ずれの有無を検出し、基板位置ずれに起因する不具合の発生を防止する。
【解決手段】基板Ｇを保持する基板保持手段７と、前記基板保持手段を基板搬送路２に沿って移動させる搬送手段６と、前記基板保持手段に保持された前記基板の幅方向の両側において、それぞれ前記基板の前端または後端を検出し、基板搬送方向における所定の基準位置に対するずれ量をそれぞれ検出するずれ量検出手段１６Ａ，１６Ｂ，３２，３３，３４，３５，３６，３７と、前記ずれ量検出手段により検出された前記基板の幅方向両側における２つのずれ量に基づき、前記搬送手段を制御する制御手段１０とを備える。 （もっと読む）

【課題】分解可能な浮上ステージの再組み立て作業における高さ調整を簡便で短時間に行えるようにすること。
【解決手段】このレジスト塗布装置の浮上ステージ１０において、出口側のステージブロックＳＢ_aは、独立して輸送可能な架台ＦＬ_Aの上に多数の支柱１８およびアジャスタ２０を介して取り付けられている。中間の３つのステージブロックＳＢ_b，ＳＢ_c，ＳＢ_dは、独立して輸送可能な架台ＦＬ_Bの上に多数の支柱２２，２４，２６およびアジャスタ２８，３０，３２を介してそれぞれ取り付けられている。出口側のステージブロックＳＢ_eは、独立して輸送可能な架台ＦＬ_Cの上に多数の支柱３４およびアジャスタ３６を介して取り付けられている。 （もっと読む）

【課題】現在進行中のワークの搬送行程を表示し、搬送装置の停止からの復旧処理を柔軟に行うことができる表示装置及び搬送システムを提供する。
【解決手段】タッチパネルは、基板Ｗを搬送する搬送装置の動作状態を表示する表示装置であって、搬送装置は、基板Ｗを支持し駆動するワーク駆動部を複数備え、各ワーク駆動部の協働により基板Ｗを移動させるものであり、搬送装置による基板Ｗの搬送行程に含まれる行程を、第１〜第５ブロックとして設定すると共に、どのブロックが搬送装置で現在進行中であるかを表示し、更に同時に、現在進行中のブロックにおける更に詳細な進行状況として、ワーク駆動部の各動作を１動作ごとに表示する。 （もっと読む）

【課題】塗布膜の膜厚のバラつきを抑えること。
【解決手段】第一浮上量で基板を浮上させる第一浮上部、及び、第一浮上量よりも小さい第二浮上量で基板を浮上させる第二浮上部、を有し、第一浮上部と第二浮上部との間で基板を連続的に搬送する基板搬送部と、第二浮上部において第二浮上量で浮上する基板に液状体を塗布する塗布部と、第一浮上部と第二浮上部との間を移動する基板の浮上量を調整する浮上量調整部とを備える。浮上量緩和領域ＲＣは、塗布浮上領域ＴＣの上流側に設けられた上流側緩和領域（上流側調整部）ＲＡと、塗布浮上領域ＴＣの下流側に設けられた下流側緩和領域ＲＢとを有している。浮上量緩和領域ＲＣは、第一浮上部である基板搬入領域と第二浮上部である塗布浮上領域ＴＣとの間、及び、第二浮上部である塗布浮上領域ＴＣと第一浮上部である基板搬出領域との間、でそれぞれ基板の浮上量が急激に変化するのを緩和する部分である。 （もっと読む）

【課題】現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】被処理基板Ｇに形成された感光膜を複数の大ブロックＢ１に分割し、前記大ブロックを複数の小ブロックＢ２に分割するステップと、前記大ブロック内の小ブロック毎に、段階的に異なる照射照度を設定するステップと、複数の発光素子Ｌに対し相対的に移動する前記基板の感光膜に対し、前記小ブロック毎に設定された照射照度に基づき、前記発光素子を発光制御するステップと、前記感光膜を現像処理するステップと、前記小ブロック毎に、前記感光膜の残膜厚を測定し、前記小ブロックに設定された照度と残膜厚との相関データを得るステップと、前記相関データに基づき前記大ブロック毎に設定された感光膜の目標残膜厚から、各大ブロックに照射する必要照度を求めるステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】ワークの交換時間を短くして、装置の利用効率を上げること。
【解決手段】ワークトレイ６Ａ〜６Ｄを複数用意し、ワークトレイ６Ａ〜６Ｄを基台５に対して着脱可能とし、基台５に、ワークトレイ６Ａ〜６Ｄの内の一つを装着してワークステージ４を構成する。ワークトレイ６Ａ〜６Ｄを基台５から分離し、例えばワークトレイ６Ａに複数のワークＷを載せて基台５上に置き、ワークＷに対して一枚毎にアライメントを行い、光照射部１からの光をマスクＭを介してワークＷに対して照射し、逐次露光処理を行う。ワークトレイ６ＡのワークＷの露光処理をしている間に、他のワークトレイ６Ｂ〜６Ｄ上に未処理のワークＷを載せる作業を行い、上記露光処理が終わると、ワークトレイ６Ａを取り外し、未処理のワークが載せられたワークトレイ６Ｂ〜６Ｄを基台５に載せて露光処理を行う。また、同時にワークトレイ６Ａから露光済みのワークＷを回収する。 （もっと読む）

【課題】異物の除去作業が容易に行える板状体搬送装置を提供する。
【解決手段】板状体１の下面に向けて空気を供給して板状体１を非接触状態で支持する送風式支持手段２を、空気供給用の空気供給源１１と、上方に向けて空気を噴出する噴出口１３を備えたチャンバ部１４と、空気供給源１１とチャンバ部１４とを連通させる案内通路部１５と、チャンバ部１４に隣接する状態で配置された案内板部１６とを備えて構成し、空気供給源１１を、平面視においてチャンバ部１４における噴出口１３と重複しないようにチャンバ部１４に対して水平方向にずらした箇所に配設する。 （もっと読む）

【課題】気流制御を通して基板を均一に加熱することが可能な加熱処理装置およびこれを備える塗布現像装置を提供する。
【解決手段】基板を収容可能で、前記基板Ｓが通過する第１の搬入口６２Ｉおよび第１の搬出口６２Ｏを有する筐体と、前記第１の搬入口６２Ｉから前記第１の搬出口６２Ｏへ向かう方向に前記基板Ｓを搬送する第１の搬送機構と、前記第１の搬送機構により前記筐体内を搬送される前記基板Ｓを加熱するヒータ７２と、前記筐体に設けられる排気口であって前記第１の搬入口６２Ｉおよび前記第１の搬出口６２Ｏから前記排気口に至る気流を形成可能な当該排気口と、前記第１の搬入口６２Ｉおよび前記第１の搬出口６２Ｏの一方または双方に臨んで設けられ、吸気により前記気流を調整する当該吸気口とを備える加熱処理装置が開示される。 （もっと読む）

【課題】搬送アームへの塗布膜の付着を抑制しつつ、基板を適切に処理する。
【解決手段】塗布現像処理システム１は、ウェハＷの中心位置を調節する位置調節装置４２と、ウェハＷ上にポリイミド溶液を塗布する塗布処理装置と、ウェハＷを搬送するウェハ搬送装置８０と、を有している。ウェハ搬送装置８０は、ウェハＷの径より大きい曲率半径でウェハＷの周縁部に沿って湾曲するアーム部と、アーム部から内側に突出し、ウェハＷの裏面を保持する保持部と、を備える。位置調節装置４２は、ウェハＷの裏面の中心部を保持するチャックと、チャックに保持されたウェハＷの中心位置を検出する位置検出部と、チャックを移動させる移動機構と、位置検出部による検出結果に基づいて、チャックに保持されたウェハＷの中心位置がアーム部の中心位置に合致するように移動機構を制御する制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】露光ユニット全体を小型化することができ、また、タクトタイムの短縮を図ることができ、且つ、適切に基板の温調を行うことができる異物検出装置及び異物検出異物検出方法を提供する。
【解決手段】異物検出装置２０は、精密温調プレート２２に載置された基板Ｗを温調する基板温調機構、精密温調プレート２２の上方に配置され、所定の方向に直線状に配置される複数のカメラ３０と、該カメラ３０が撮像する基板の位置に光を照射する光源３１と、を有し、精密温調プレート２２に載置された基板Ｗの異物を検出する異物検出機構３４とを有することで、異物検出機構と基板温調機構３４とが単一の装置に設けられため、露光ユニット全体を小型化でき、また、温調が行われている基板Ｗの異物の検出を行う場合には、タクトタイム短縮ができ、さらに、異物を検出する際に、基板Ｗにはレーザー以外の光源３１を照射するため、活性化による基板Ｗの温度上昇を防止できる。 （もっと読む）

【課題】露光された感光性樹脂材料の発泡現象を抑制できる基板処理システム及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理システム１は、洗浄装置２１、レジスト塗布装置２２、周辺露光装置２３、基板搬送機構３０及びシステムコントローラ１０を備える。システムコントローラ１０は、レジスト塗布装置２２でレジスト膜が形成された時から、周辺露光装置２３による露光工程が開始されるまでの基板Ｗの待ち時間を監視する待ち時間監視部１０Ｂと、待ち時間が制限時間を超えたとき、基板搬送機構３０に基板Ｗを洗浄装置２１に搬送させるプロセス制御部１０Ａとを有する。プロセス制御部１０Ａは、洗浄装置２１によりレジスト膜が除去された基板Ｗをレジスト塗布装置２２に搬送させる。 （もっと読む）

【課題】基板を保持部材に真空吸着して搬送するにあたって、保持部材の外における真空配管の引き回しが不要で、速やかに基板を搬送することができる技術を提供すること。
【解決手段】保持部材である第１のアーム２ａ及び第２のアーム２ｂに夫々真空ポンプ４２ａ、４２ｂ及びバッテリー４１ａ、４１ｂを搭載すると共に、搬送基体１から送電コイル１４ａ、１４ｂ及び受電コイル４４ａ、４４ｂを介して電磁誘導方式により非接触でバッテリー４１ａ、４１ｂを充電することにより、各アーム２ａ、２ｂにおいて外部からの配管及び電気配線なしで、真空ポンプ４２ａ、４２ｂ、電磁弁４３ａ、４３ｂ及び圧力検出部４５ａ、４５ｂなどの各アーム２ａ、２ｂに搭載された電子部品をバッテリー４１ａ、４１ｂからの電力により動作するようにする。 （もっと読む）

【課題】人手による搬送作業をなるべく抑えて露光装置とマスク検査装置との間でフォトマスクを搬送することができるマスク搬送システムを提供する。
【解決手段】実施形態によれば、マスク搬送システムは、ストッカ１１〜７１と、搬送路３と、収納容器と、搬送装置２００と、制御装置８０と、を備える。収納容器はウェハ搬送用とマスク搬送用とで同一の構造を有する。制御装置８０は、露光エリア３０のストッカ３１、またはマスク検査エリア７０のストッカ７１に収納容器が入庫されると、収納容器がマスク搬送用であるかを判別し、マスク搬送用の収納容器である場合には入庫されたストッカではないストッカ７１，３１に収納容器が搬送されるように搬送装置２００を制御する搬送装置制御部を備える。 （もっと読む）

【課題】動作回数を重ねても、機構部の軸動作のズレが累積することを抑制できる基板処理技術を提供する。
【解決手段】基板処理レシピ記憶部と、当該基板処理装置を構成する機構部の原点出しを行うイニシャルレシピ記憶部と、イニシャル処理を行う基準回数を記憶するイニシャル基準記憶部と、実行済みの基板処理回数記憶部と、基板処理レシピを実行する基板処理実行部と、イニシャルレシピを実行するイニシャル処理実行部と、基板処理回数を更新する処理回数更新部と、基板処理回数記憶部に記憶した基板処理回数が、イニシャル基準記憶部に記憶した基準回数に達したか否かを判定する処理終了判定部と、イニシャル処理可能状態であるか否かを判定するイニシャル可否判定部とを備え、基板処理回数が前記基準回数に達すると当該基板処理装置における新たな基板処理開始を保留し、イニシャル処理可能状態になるとイニシャルレシピを実行するよう基板処理装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】処理チャンバを大気開放することなくその内部空間に配置された構成要素を交換する機能を処理装置の大型化を抑制しつつ実現するために有利な技術を提供する。
【解決手段】処理設備は、物品を処理する処理チャンバを含む処理装置と、保守チャンバを含む保守装置とを備える。前記処理装置は、前記処理チャンバに物品を搬入したり前記処理チャンバから物品を搬出したりするためのロードロックチャンバを備え、前記処理チャンバは、第１バルブと、第１フランジとを含み、前記保守チャンバは、第２バルブと、前記第１フランジに対する連結および前記第１フランジからの切り離しが可能な第２フランジと、前記処理チャンバの内部空間と前記保守チャンバの内部空間との間で構成要素を移送する移送機構とを含む。前記第１フランジと前記第２フランジとが連結され、前記第１バルブおよび前記第２バルブが開いた状態において前記保守チャンバの内部空間と前記処理チャンバの内部空間とが連通する。 （もっと読む）

【課題】本発明は基板処理装置を提供する。
【解決手段】本発明による基板処理装置は、基板が引入される側のアラインメント領域と基板処理工程が行われる工程領域とに区画されたチャンバと、引入された基板をアラインメントして工程領域に移送し、工程終了後に基板をアラインメント領域に移送するキャリアと、チャンバ内でのアラインメント領域と工程領域との間に形成され、工程領域で発生した汚染物質がアラインメント領域に流入されることを遮断し、キャリアの移送に応じて開いたり、閉じたりするシールドと、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】昇降ピン及び昇降ピンの昇降機構無しでローラコンベア上の基板を直交する方向から搬送アームのフォークを挿入して、搬送アームに受け渡す基板受渡装置（方法）を提供する。
【解決手段】基板Ｇを水平方向に搬送可能なローラコンベアＲＣ１と、基板を水平、鉛直方向及び鉛直軸回りに回転自在に移動可能なフォーク１０１を有する搬送アーム１１０と、を具備し、ローラコンベアは、駆動シャフト５５に適宜間隔を置いて駆動ローラ５６を装着した駆動ローラ列と、フリーローラシャフト５７に適宜間隔を置いてフリーローラ５９を回転自在に装着したフリーローラ列を並列に配列し、フリーローラ列を隣接する駆動ローラ列側へ移動して、駆動ローラ列とフリーローラ列の間に空間Ｉを形成するフリーローラ駆動用シリンダ６５を具備する。空間に搬送アームのフォークを搬送方向と直交する方向から挿入して、第１ローラコンベア上の基板を搬送アームに受け渡す。 （もっと読む）