【課題】被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置において、前記基板に対し所定の処理が施される直前に、該基板の位置ずれの有無を検出し、基板位置ずれに起因する不具合の発生を防止する。
【解決手段】基板Ｇを保持する基板保持手段７と、前記基板保持手段を基板搬送路２に沿って移動させる搬送手段６と、前記基板保持手段に保持された前記基板の幅方向の両側において、それぞれ前記基板の前端または後端を検出し、基板搬送方向における所定の基準位置に対するずれ量をそれぞれ検出するずれ量検出手段１６Ａ，１６Ｂ，３２，３３，３４，３５，３６，３７と、前記ずれ量検出手段により検出された前記基板の幅方向両側における２つのずれ量に基づき、前記搬送手段を制御する制御手段１０とを備える。 （もっと読む）

【課題】搬送アームへの塗布膜の付着を抑制しつつ、基板を適切に処理する。
【解決手段】塗布現像処理システム１は、ウェハＷの中心位置を調節する位置調節装置４２と、ウェハＷ上にポリイミド溶液を塗布する塗布処理装置と、ウェハＷを搬送するウェハ搬送装置８０と、を有している。ウェハ搬送装置８０は、ウェハＷの径より大きい曲率半径でウェハＷの周縁部に沿って湾曲するアーム部と、アーム部から内側に突出し、ウェハＷの裏面を保持する保持部と、を備える。位置調節装置４２は、ウェハＷの裏面の中心部を保持するチャックと、チャックに保持されたウェハＷの中心位置を検出する位置検出部と、チャックを移動させる移動機構と、位置検出部による検出結果に基づいて、チャックに保持されたウェハＷの中心位置がアーム部の中心位置に合致するように移動機構を制御する制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】基板の搬送台を用いることなく簡単な構成で基板のロード／アンロードを行うと共に、露光むらを抑制し、かつ、チャックを軽量化する。
【解決手段】チャック１０の表面に、複数の土手１１を設け、複数の土手１１により複数の真空区画１２とチャックの幅に渡る複数の非真空区画１３とを形成する。高さが複数の土手１１より低い複数の細長い基板支持部材３２をチャック１０の幅に渡ってチャック１０の非真空区画１３に配置し、複数の基板支持部材３２の両端をチャック１０の幅より大きな幅を有するフレーム３０に取り付ける。フレーム３０を上昇させ、基板１を複数の基板支持部材３２により支持してチャック１０から持ち上げ、フレーム３０を下降させ、複数の基板支持部材３２により支持された基板１をチャック１０に搭載する。 （もっと読む）

【課題】マルチモジュールを構成するモジュールが使用不可モジュールとなったときにおいて、基板の搬送を速やかに行ない、製品不良の発生を抑えること。
【解決手段】基板を搬送先モジュールに搬送する前に、当該搬送先モジュールが使用不可となったときには、基板の搬送先を、当該基板の次の基板が搬入されるべきモジュールに変更する。使用不可モジュールが発生したときに、前記搬送手段が例えば搬送サイクルの上流端のモジュールに対してアクセスする前であるときには、変更後の搬送先モジュール内にて前の基板が搬出できる状態となるまで搬送サイクルを進めるように制御を行う。また使用不可モュールが発生したときに、前記搬送手段が搬送サイクルにおいて前記使用不可モジュールよりも上流側に位置しているときには、変更後の搬送先モジュール内にて前の基板が搬出できる状態となるまで、搬送手段の搬送動作を待機するように制御を行う。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置内の交換可能物体を位置決めするサポート構造を提供する。
【解決手段】サポート構造は、物体を支持およびクランプするチャックと作動構造とを有する。作動構造は、第１作動構造１６（例えば、バネ）および第２作動構造１８（例えば、リニアアクチュエータ）を有してよい。第１作動構造１６は、チャックに対して移動可能であり、第２作動構造１８を物体の側面と接触する第１位置と物体の側面と接触しない第２位置との間で移動させるように構成されている。第２作動構造１８は、その少なくとも一部を第１作動構造１６に対して物体の側面と接触する第１位置と物体の側面と接触しない第２位置との間で移動させ、かつ押力を物体の側面に加えるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、搬送装置のメンテナンス作業を効率よく行うことができる搬送装置のメンテナンス方法を提供する。
【解決手段】 マスクケース搬送装置（２９）のメンテナンス方法は、ＣＺ軸駆動部（２６）によってケース保持部（２３）を上下方向の第１位置に配置する工程（Ｓ１０２）と、最上段、最下段および中央段に設けられた複数のＣＺ軸駆動部２６のカバー部材のうち第１位置に配置されたケース保持部と異なる高さに位置するカバー部材を取り外す第１取り外し作業を行う工程（Ｓ１０６）と、第１取り外し作業後に取り外されていない複数の前記カバー部材のうち第１位置に配置されたケース保持部と異なる高さに位置するカバー部材を取り外す第２取り外し作業を行う工程（Ｓ１０７）と、を含む。 （もっと読む）

【課題】基板検査ユニットを組み込むにあたって占有面積が狭く、不利なレイアウトを避けることができる塗布装置及び現像装置を提供すること。
【解決手段】レジスト膜形成用のブロックまたは現像処理用のブロックと基板検査用のブロックとを互いに積層して処理ブロックを構成し、レジスト膜形成用のブロックは、レジスト液を基板に塗布するための液処理ユニット及びレジスト液が塗布された基板を加熱する加熱ユニットを含む複数の処理ユニットと、を備える。現像処理用のブロックは、現像液を基板に塗布するための液処理ユニットを備える。基板検査用のブロックは、基板を検査する基板検査ユニットとこの基板検査ユニットに基板を搬送するブロック用の搬送手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板のずれや落下を防止すると共に、露光装置のスループットの向上に有利な技術を提供する。
【解決手段】レチクルのパターンを基板に転写する露光装置であって、前記基板の下面を吸着して保持しながら前記基板を搬送する搬送部と、前記搬送部によって前記基板を鉛直下方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度が前記搬送部によって前記基板を鉛直上方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度よりも小さくなるように、前記搬送部の搬送条件を制御する制御部と、を有することを特徴とする露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】基板の受け取り位置にズレが生じている場合、自動で受け取り位置を調整する。
【解決手段】ハンドを載置部上の待機位置から空吸着状態で上昇を開始させた後、吸着機構の吸着圧が予め設定した閾値となるまで上昇駆動させ、その駆動時間を監視する吸着時間監視工程Ｓ１〜Ｓ６と、該吸着時間監視工程Ｓ１〜Ｓ６で得られた監視時間に基づいて、受け取り位置の調整の要否を判断する調整判断工程Ｓ７、Ｓ８と、該調整判断工程Ｓ７、Ｓ８において、監視時間及び吸着機構の吸着圧が、予め設定した許容範囲にない場合、受け取り位置を、許容範囲を満たす位置に自動で設定する位置設定工程Ｓ９とを有する。 （もっと読む）

【課題】基板の変形を抑えて基板の受け渡しができること。
【解決手段】基板を保持し、支持部によって支持される基板保持部材であって、前記基板が載置される載置面を有する基板載置部と、前記基板載置部と一体的に設けられ、前記載置面を含む面内に位置する所定軸を中心として前記基板載置部が回転可能なように前記支持部によって支持される被支持部とを備える。 （もっと読む）

【課題】ペリクル等の保護膜の撓みを抑制できる保護装置を提供する。
【解決手段】マスク基板１の表面の所定領域を保護する保護装置２であって、その所定領域の周囲の少なくとも一部に配置されてマスク基板１の表面に貼り合わせられるペリクルフレーム４と、その所定領域と対向するようにペリクルフレーム４によって形成される開口部を覆うようにペリクルフレーム４に張設されるペリクル５と、を備え、ペリクルフレーム４はその所定領域に沿って異なる位置に配置される第１辺部４Ａ及び第２辺部４Ｂと第３辺部４Ｃ及び第４辺部４Ｄとを含み、マスク基板１の表面の法線方向に関して第１辺部４Ａ及び第２辺部４Ｂの剛性が、第３辺部４Ｃ及び第４辺部４Ｄの剛性より低い。 （もっと読む）

【課題】大型化したウエハの搬送を容易にする。
【解決手段】 露光装置は、ＸＹ平面に沿って移動可能であるとともに、互いに接近及び離間が可能な第１部分と第２部分とを含む粗動ステージＷＣＳ１と、ウエハＷを保持するとともに、粗動ステージＷＣＳ１によって少なくともＸＹ平面内で相対移動可能に支持される微動ステージＷＦＳ１と、粗動ステージＷＣＳ１に支持されている微動ステージＷＦＳ１を単独で若しくは粗動ステージＷＣＳ１と一体で駆動する駆動系と、を備える。また、露光装置は、粗動ステージＷＣＳ１との間で、微動ステージＷＦＳ１の受け渡しが可能なリレーステージＤＲＳＴを備えている。 （もっと読む）

【課題】 半導体露光装置で用いられる基板において、固着していない軽微な異物を除去する。
【解決手段】 送り込みハンド、ウエハチャックにZ方向に微振動させる機構をもたせ、ウエハ吸着時、吸着動作と同時に、ウエハに対して、ブロー、及び、微振動を与えながら、吸着させる。 （もっと読む）

【課題】複数の処理レシピに係る基板が併存状態になる場合であっても、基板に不当に長い待ち時間が発生することを回避する。
【解決手段】セル内に複数の処理レシピのそれぞれに係る基板が併存する併存状態が発生した場合、サイクルタイム切り換え部９２が搬送ロボットのサイクルタイムをベースサイクルタイム算出部９１が算出したベースサイクルタイムに切り換える。また、搬送頻度調整部９３が、搬送機構がｎ回（ただし、ｎは処理レシピについて固有に規定された自然数値）のサイクル動作を行ううちの１回の動作においてのみ当該処理レシピに係る基板を搬送させるように、基板を搬送する頻度を調整する。この構成によると、併存状態にある複数の処理レシピのそれぞれに係る基板を互いに異なるサイクルタイムで処理することが可能となるので、併存状態が発生した場合であっても基板に不当に長い待ち時間が発生しない。 （もっと読む）

【課題】大型の基板を精度良く回転して位置決めする。
【解決手段】チャック１０を回転するθステージ８を、内輪４２ａと外輪４２ｂとの間に配置した複数のころ４２ｃが回転して、内輪４２ａと外輪４２ｂとが相対的に回転するころ軸受４２と、ころ軸受４２の外側に環状に設置されたレール４３ａに沿って移動ブロック４３ｂが移動するガイド４３とで構成し、θステージ８によりチャック１０を回転して基板１の位置決めを行う。ころ軸受４２は、θステージ８の回転精度を保つ役目を果し、ガイド４３は、チャック１０及び基板１の重量による縦方向の荷重の大部分を支える役目を果す。大型の基板１が精度良く回転されて位置決めされ、露光精度が向上する。 （もっと読む）

【課題】フットプリントの増大を招かず、複数ステージのスワップ移動を適切に制御する。
【解決手段】第１の方向に沿って第１のエリア３１及び第２のエリア３２が設けられる定盤上を移動可能な第１のステージ２１及び第２のステージ２２を位置決めする位置決め装置であって、前記第１のステージ２１及び前記第２のステージ２２を第１の方向に沿って移動させる第１のアクチュエータと、前記第１のステージ及び前記第２のステージを前記第１の方向と直交する第２の方向に沿って移動させる第２のアクチュエータと、前記第１のアクチュエータ及び前記第２のアクチュエータに対して電流を供給するドライバと、前記ドライバを制御する制御部とを具備する。 （もっと読む）

【課題】実際に基板を処理させる処理部の数が変動しても、複数種類の処理を所定の順番どおりに効率よく基板に行うことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】レジスト膜用塗布処理ユニットＲＥＳＩＳＴ、加熱冷却ユニットＰＨＰ、冷却ユニットＣＰの順番で基板Ｗを搬送し、複数種類の処理を基板Ｗに行う。たとえば、レジスト膜用塗布処理ユニットＲＥＳＩＳＴ、加熱冷却ユニットＰＨＰおよび冷却ユニットＣＰをそれぞれ３台、２台、１台使用しているところ、１台の加熱冷却ユニットＰＨＰを使用処理部から外れた場合であっても、残っている使用処理部によって、所定の順番で基板Ｗに処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】ラインセンサの補正を随時行うことができるラインセンサの補正方法、その補正により基板の位置検出を精度良く使用環境にも影響されない安定した性能を保持できるアライメント装置及びそれを備えた基板搬送装置を提供する。
【解決手段】アライメント装置のアライナ原点に位置決め基準を設けること、基板搬送ロボットのティーチング作業にアライメント装置のアライナ原点のティーチングを設けること、基板搬送ロボットによりアライメント装置のラインセンサを単位量ずつ遮光し、センサの出力値を測定することにより、ラインセンサの出力特性を測定し、直線性の演算および補正値を算出する。 （もっと読む）

【課題】
スループットを向上させた処理装置を提供する。
【課題手段】
本発明の露光装置は、ウエハ９を保持するウエハチャック８とウエハチャック８に対して相対的に上昇してウエハ９を保持する昇降部とを含むＸＹステージ６と、ＸＹステージ６からウエハ９の回収をウエハ回収位置１８で行うウエハ搬送ロボットハンド１４とを有し、ＸＹステージ６に保持されたウエハ９に対して処理を行う処理装置であって、ＸＹステージ６は、ウエハチャック８に対して昇降部が相対的に上昇した状態で、ウエハ回収位置１８を介して３０度以上１２０度未満の角度で方向が変化して移動し、ウエハ搬送ロボットハンド１４は、前記角度で方向が変化して移動するＸＹステージ６とウエハ回収位置１８に移動して配置されたウエハ搬送ロボットハンド１４とが干渉しない形状を有する。 （もっと読む）

【課題】この発明は傾斜して搬送される基板の傾斜方向下端面を支持するガイドローラによって基板に欠けが生じるのを防止した搬送装置を提供することにある。
【解決手段】第１のアーム３７と第２のアーム３８が設けられたアーム体３５、第１のアームが基板の搬送方向の上流側に位置するようアーム体の基部を揺動可能に支持した支持体３２、第１のアームの先端部に設けられた第１のガイドローラ３９、第２のアームの先端部に設けられた第２のガイドローラ４０を有し、第１、第２のガイドローラによって基板の傾斜方向の下側の端面を支持して基板の搬送ローラによる搬送をガイドするガイド手段３１を具備し、第１のガイドローラが搬送される基板の搬送方向先端部の傾斜方向の下側の端面を受けたとき、アーム体は基板の搬送方向上流側に向かって揺動し、その状態で第２のガイドローラが基板の搬送方向先端部の傾斜方向の下側の端面を受けたとき、アーム体は基板の搬送方向下流側に揺動する。 （もっと読む）