【課題】変位量への換算を迅速に処理する。
【解決手段】 対物レンズ１８は、光源１３が発した光束を被検面２３ａ上に微小スポットとして投射する。シリンドリカルレンズユニット２１は、曲率半径の異なる２つのシリンドリカルレンズ３０，３１をもっており、それぞれに被検面２３ａで反射した反射光束に異なる量の非点収差を与える。受光センサ１９は、非点収差が与えられた反射光束を入射させて受光パターンに応じた出力変化が得られるように受光面が複数に分割されている。信号処理部２４は、受光面から得られる出力信号に基づいて被検面２３ａの変位を検出する。選択部３３は、被検面２３ａの検出範囲に応じて、いずれか一方のシリンドリカルレンズ３０，３１を光路上にセットするように移動機構２２を制御する。 （もっと読む）

【課題】現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】被処理基板Ｇに形成された感光膜を複数の大ブロックＢ１に分割し、前記大ブロックを複数の小ブロックＢ２に分割するステップと、前記大ブロック内の小ブロック毎に、段階的に異なる照射照度を設定するステップと、複数の発光素子Ｌに対し相対的に移動する前記基板の感光膜に対し、前記小ブロック毎に設定された照射照度に基づき、前記発光素子を発光制御するステップと、前記感光膜を現像処理するステップと、前記小ブロック毎に、前記感光膜の残膜厚を測定し、前記小ブロックに設定された照度と残膜厚との相関データを得るステップと、前記相関データに基づき前記大ブロック毎に設定された感光膜の目標残膜厚から、各大ブロックに照射する必要照度を求めるステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】露光領域の拡大を容易になし得るようにする。
【解決手段】電気光学結晶材料からなる角柱状の部材の長軸に平行な対向面に夫々電極を設けて形成したスイッチング素子９と、該スイッチング素子９の長軸方向の両端面側に該スイッチング素子９を間にしてクロスニコルに配置された一対の偏光板１２Ａ，１２Ｂとで構成した複数の光スイッチ１１を被露光体６の面に平行な面内に配置して有するパターンジェネレータ３を備え、複数の光スイッチ１１を個別に駆動して一定の明暗模様の露光パターンを生成し、これを被露光体６に照射して露光する露光装置であって、パターンジェネレータ３の光射出面側に各スイッチング素子９の長手中心軸に光軸を合致させて設けられ、スイッチング素子９の光射出端面９ａの像を被露光体６上に縮小投影する複数のマイクロレンズ１７を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できるメンテナンス方法を提供する。
【解決手段】光学部材の射出面から射出される露光光で液体を介して基板を露光する露光装置のメンテナンス方法は、脱気処理された第１の液体を介して射出面からの露光光が照射された非晶質フッ素樹脂を含有する膜の表面に、第１の液体よりも所定ガス濃度が高い第２の液体を供給することと、膜の表面に第２の液体を介して紫外光を照射することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】液浸露光における露光不良の発生を抑制する。
【解決手段】第１の態様の液浸部材３は、液浸露光装置において、光学部材８と物体との間の液体ＬＱを通過する露光光の光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材３である。第１面、第１面と異なる方向を向く第２面、及び前記第１面と第２面とを結ぶ孔３２を有し、第１面と対向する物体上の液体の少なくとも一部を孔３２から回収可能な第１部材３１と、孔３２を通った液体ＬＱを含む流体Ｆ中の気泡の膨張を抑制する第２部材３４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ワークローダを介してガラス基板をプリアライメント装置から露光装置に搬送して露光処理するとき、プリアライメント装置、ワークローダ、及び露光装置間で基板の渋滞を生じさせることなく、スムーズに運搬することができる露光システム及びその制御方法を提供する。
【解決手段】制御装置２０は、プリアライメント装置１２が処理完了後の基板Ｗを保持する保持時間、及び、ワークローダ１５が基板Ｗを停止して保持する保持時間、及び、露光装置１３が処理完了後の基板Ｗを保持する保持時間を、それぞれ２０秒以下に設定する。 （もっと読む）

【課題】複数のウェハ支持部材および密封部材がホルダ基板に形成されたウェハホルダにおいて、ウェハ吸着面の平面度を一層向上させる。
【解決手段】複数のウェハ支持部材６および密封部材３、４をホルダ基板２に形成する（ｂ）。密封部材３、４の上面３ａ、４ａを切削または研削して当該上面３ａ、４ａの高さを複数のウェハ支持部材６の上面６ａの高さより低くする（ｄ）。複数のウェハ支持部材６の上面６ａを切削または研削して当該上面６ａの高さを密封部材３、４の上面３ａ、４ａの高さに一致させる（ｆ）。このように、密封部材３、４とウェハ支持部材６とが別個に加工されるため、ウェハ支持部材６の上面６ａの高さと密封部材３、４の上面３ａ、４ａの高さとを加工後に一致させることができる。したがって、ウェハホルダ１のウェハ吸着面の平面度を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】稼動速度で基板の載置位置が正常であるか否かを確実に検出すること。
【解決手段】基板を保持して搬送する水平、鉛直方向の移動及び鉛直軸回りに回転自在な搬送アームＡ３と、搬送アームとの間で基板を受け渡しすると共に、基板を載置して処理を施す熱処理装置７０と、歪み量を測定する歪みセンサを同心円上の等間隔の位置に複数個備える、基板と同形状の歪みセンサ付きウエハＷＡと、搬送アーム及び熱処理装置の駆動部を制御すると共に、歪みセンサからの検出データを入力し、入力された検出データと予め記憶された正常動作時の歪みデータ標準データとを比較解析する判別部８０Ａを備える制御部８０と、を具備し、歪みセンサ付きウエハを搬送アームから熱処理装置へ受け渡すとき、又は熱処理装置が歪み測定用基板を載置するときに、判別部によって歪みセンサからの検出データの値が正常であるか否かを判定し、その判定結果を制御部に伝達する。 （もっと読む）

【課題】ウエハとパターンとを精度良く位置合わせする。
【解決手段】位置計測系を用いてステージの位置を計測し、その計測結果に基づいてステージを駆動し、ステージ上に保持されたウエハ上のアライメントマークをアライメント系を用いて検出して得られる検出結果と、その検出結果に対するステージの位置に依存する補正情報（理想格子の格子点ｍ_ｉｊについて与えられた補正データ）と、に基づいてウエハ上に形成されるパターンが理想格子状に配列されるようにウエハを保持するステージを駆動する。 （もっと読む）

【課題】部材をクリーニングして露光不良の発生を抑制できるクリーニング方法を提供する。
【解決手段】第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置のクリーニング方法は、露光の前及び後の少なくとも一方において、露光において基板の周囲の少なくとも一部に位置する所定部材の表面の、露光において露光光が照射されない所定領域に洗浄光を照射することを含む。 （もっと読む）

【課題】ウエハステージを精度良く駆動する。
【解決手段】平面モータ３０により駆動されるウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置をエンコーダシステムを用いて計測し、エンコーダシステムからのウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のそれぞれについての位置計測情報と、両ステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置に応じたエンコーダシステムの位置計測誤差の補正情報とに基づいて、ウエハステージＷＳＴ１を駆動する。これにより、主として両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の移動に伴う周辺磁場の変動に起因する誤差を補正することができる。 （もっと読む）

【課題】ウエハステージを高精度駆動する。
【解決手段】平面モータ３０により駆動されるウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置をエンコーダシステムを用いて計測し、エンコーダシステムからのウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のそれぞれについての位置計測情報と、ウエハステージＷＳＴ２の位置に依存するウエハステージＷＳＴ１についての位置計測情報に対する補正情報とに基づいて、ウエハステージＷＳＴ１を駆動する。これにより、ウエハステージＷＳＴ２の移動に伴う周辺磁場の変動に主として起因するウエハステージＷＳＴ１の位置計測誤差を補正することができる。 （もっと読む）

【課題】基板の撓みを抑制して、露光精度を向上する露光方法及び基板の製造方法並びに露光装置を提供する。
【解決手段】環状の吸着領域８０ｂと、環状の吸着領域８０ｂよりも面積の小さい長方形状の吸着領域８０ｃ，８０ｄ，８０ｅとを吸着面２２に備えた基板ステージ２０において、基板ステージ２０の吸着面２２に基板Ｗを吸着する際、環状及び長方形状の吸着領域８０ｂ，・・・，８０ｅ内の圧力が略一定となるように、長方形状の吸着領域８０ｃ，８０ｄ，８０ｅ内のエアを吸引する吸引力を環状の吸着領域８０ｂ内のエアを吸引する吸引力よりも小さくする。 （もっと読む）

【課題】液体の漏洩や浸入を抑えることのできる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して基板Ｐ上にパターンの像を投影することによって、基板Ｐを露光する。露光装置ＥＸは、基板Ｐを保持する基板ホルダ５２を有し、基板ホルダ５２に基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージＰＳＴと、基板ホルダ５２に基板Ｐもしくはダミー基板が保持されているか否かを検出する検出器と、検出器の検出結果に応じて、基板ステージＰＳＴの可動領域を変更する制御装置ＣＯＮＴとを備える。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ投影装置の液浸液内の泡の封入を最小化または防止する流体ハンドリング構造を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置の流体ハンドリング構造である。流体ハンドリング構造は、流体ハンドリング構造の外部領域に液浸流体を備えるように構成された空間の境界に、使用時に基板および／またはテーブルの方に向けられる第１ラインに配置される少なくとも一つの開口を備える抽出器と、使用時に基板および／またはテーブルと対向する表面上にあり、表面上の液滴が合体する可能性を低下させる液体マニピュレータと、を連続的に備える。 （もっと読む）

【課題】センサの読み取りにおける誤差の可能性を少なくとも低減する装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置のための基板テーブルであって、該基板テーブルは、前記基板テーブル上に配置されているエンコーダプレートと、前記エンコーダプレートと前記基板テーブルの上表面との間の隙間であって、前記基板テーブルの外周に対し放射方向に前記エンコーダプレートの内側に位置する隙間と、前記隙間から液体を抽出するために前記隙間の表面にある１つまたは複数の開口をもつ流体抽出システムと、を備える。 （もっと読む）

【課題】基板の裏面を荒らすことなく微小な傷を除去することができる基板裏面平坦化方法を提供する。
【解決手段】ウエハＷの裏面における傷Ｓの位置や大きさが検出され、位置や大きさが検出された傷Ｓへ選択的に多数のガス分子２８が集合して形成されたガス分子２８のクラスター２９が吹き付けられ、ウエハＷの表面に塗布されたフォトレジスト３０が露光される。 （もっと読む）

【課題】イメージング中に泡が投影ビームに入ることが防止されるリソグラフィ装置を提供することが望まれる。
【解決手段】液浸リソグラフィ投影装置の流体ハンドリング構造体の下側のプレート１２ａが形成するメニスカス固定デバイスは、同心円リングの複数の開口５０を有し、その複数の開口５０を通じて環境から液体および気体が抽出される。複数の開口５０は中間のサイズを有し、約７５μｍから約１５０μｍの範囲の直径を有する。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、基板の露光において射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように基板との間に第１液浸空間を形成する液浸部材と、光路に対する放射方向に関して液浸部材の外側に配置され、基板の露光において第１吸引力で気体を吸引し、液浸部材のクリーニングの少なくとも一部において第１吸引力よりも小さい第２吸引力で気体を吸引する吸引口とを備える。 （もっと読む）

【課題】露光用光エネルギーの伝達効率値算出システム及び算出システムを利用した光エネルギーの伝達効率値算出方法を提供する。
【解決手段】エキシマレーザー発生器１０で発生された光エネルギー値をエキシマレーザー発生器１０からネットワークライン６０を介して受けると同時に、露光装置４０で単位露光面積を露光させることに使った露光エネルギー値を露光装置４０からネットワークライン６０を介して受けて単位露光面積を露光させるのに使った露光エネルギー値をエキシマレーザー発生器１０で発生された光エネルギー値で分けた値に１００を掛けてリアルタイムで光伝達効率値を算出するデータサーバー５０と、エキシマレーザー発生器１０と露光装置４０の間に設置された光学システム２０の不良または汚染を予測するように前記ネットワークライン６０を介して前記データサーバー５０で算出された光伝達効率値を受ける統制室サーバー７０で構成される。 （もっと読む）