【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光が射出される射出面を有し、物体と射出面との間に液体が保持される第１空間を形成する光学部材と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、射出面の周囲に配置される光学部材の第１面との間で第１空間の液体の少なくとも一部が流入可能な第２空間を形成する第２面を有する液浸部材と、第２空間の圧力変動を抑制するバッファ装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】稼動速度で基板の載置位置が正常であるか否かを確実に検出すること。
【解決手段】基板を保持して搬送する水平、鉛直方向の移動及び鉛直軸回りに回転自在な搬送アームＡ３と、搬送アームとの間で基板を受け渡しすると共に、基板を載置して処理を施す熱処理装置７０と、歪み量を測定する歪みセンサを同心円上の等間隔の位置に複数個備える、基板と同形状の歪みセンサ付きウエハＷＡと、搬送アーム及び熱処理装置の駆動部を制御すると共に、歪みセンサからの検出データを入力し、入力された検出データと予め記憶された正常動作時の歪みデータ標準データとを比較解析する判別部８０Ａを備える制御部８０と、を具備し、歪みセンサ付きウエハを搬送アームから熱処理装置へ受け渡すとき、又は熱処理装置が歪み測定用基板を載置するときに、判別部によって歪みセンサからの検出データの値が正常であるか否かを判定し、その判定結果を制御部に伝達する。 （もっと読む）

【課題】ホイルトラップを交換するタイミングを適切に判断することが可能な光源装置を提供する。
【解決手段】プラズマによる光を発生するプラズマ生成部（１、２、３）と、プラズマ生成部で発生した光を集光する集光鏡（６）と、プラズマ生成部で発生したデブリが集光鏡に到達することを抑制するホイルトラップ（８）と、ホイルトラップと接地部との間に流れる電流を測定する電流測定部（１１）とを備える。 （もっと読む）

【課題】加湿器の加湿能力過多による結露を抑制し、かつ、加湿能力不足による制御不良を抑制する露光装置を提供する。
【解決手段】加湿エア供給装置３０は、気体３２を加湿する気化式加湿器３４と、気化式加湿器３４を通過する第１の気体の流量を制御する第１の流体制御機器３３ａと、通過しない第２の気体の流量を制御する第２の流体制御機器３３ｂと、気化式加湿器３４の加湿能力を可変する加湿能力可変機器３８、３９と、湿度検出部４５と、制御演算部４６とを有し、制御演算部４６は、湿度検出部４５が検出した加湿エア４１の湿度と、予め設定した目標湿度とに基づいて、第１及び第２の流体制御機器３３ａ、３３ｂを制御して第１及び第２の気体の流量比を調整し、第１の流体制御機器３３ａの操作量と、予め設定した目標湿度操作量に基づいて、加湿能力可変機器３８、３９を制御して気化式加湿器３４に導入される第１の気体の流量を一定とする。 （もっと読む）

【課題】基板の撓みを抑制して、露光精度を向上する露光方法及び基板の製造方法並びに露光装置を提供する。
【解決手段】環状の吸着領域８０ｂと、環状の吸着領域８０ｂよりも面積の小さい長方形状の吸着領域８０ｃ，８０ｄ，８０ｅとを吸着面２２に備えた基板ステージ２０において、基板ステージ２０の吸着面２２に基板Ｗを吸着する際、環状及び長方形状の吸着領域８０ｂ，・・・，８０ｅ内の圧力が略一定となるように、長方形状の吸着領域８０ｃ，８０ｄ，８０ｅ内のエアを吸引する吸引力を環状の吸着領域８０ｂ内のエアを吸引する吸引力よりも小さくする。 （もっと読む）

【課題】被処理基板、若しくはチャック上に異常が発生した場合、大掛かりな装置を使用することなく、効率良く異常の要因及び場所を特定する。
【解決手段】基板Ｗを保持する基板保持装置１０であって、基板Ｗを吸着して保持する保持ユニットと、基板Ｗが保持ユニットに搭載された状態で、保持ユニットの吸着力に関する物理量を計測する計測部１５と、第１の条件と計測部１５の計測結果とに基づく第１の判定と、第１の条件とは異なる第２の条件と計測部１５の計測結果とに基づく第２の判定とを行い、第１及び第２の判定の結果に基づいて、予め設定された少なくとも３つの動作のうち１つを選択し、選択された動作に応じた処理を実行する制御部１２とを備える。 （もっと読む）

【課題】液浸液中の洗浄液の濃度を確実に規定値以下とすることが可能な液浸露光装置を提供する。
【解決手段】投影光学系１４下端部の鉛直下方に配設可能で、露光対象膜を有する半導体基板を載置し、退避可能な基板ステージ１７、投影光学１４系下端部と露光対象膜との間に液浸液を満たすように供給する液浸液供給部３２及び液浸液を排出する液浸液排出部３６と液浸液排出管３７、基板ステージ１７を置き換えて、投影光学系１４下端部の鉛直下方に配設可能で、供給口から排出口へ流れる洗浄液２５または液浸液を保持し、退避可能な洗浄ステージ１５、洗浄ステージ１５中に、液浸液と接した接触領域を含むように洗浄液２５を供給する洗浄液供給部２１及び洗浄液を排出する洗浄液排出管２８、並びに、液浸液排出管３７に配設され、液浸液中の洗浄液２５の濃度を測定する濃度測定器３０を備える。 （もっと読む）

【課題】基板の平面度調整を行うために、基板を保持する保持手段の裏面を支持する支持手段と前記裏面とに隙間が生じないようにするステージ装置を提供することを課題とする。
【解決手段】保持手段の裏面と支持手段との間に空気を供給し、前記保持手段を前記支持手段から浮上させる軸受手段と、前記軸受手段から供給される気体の流量を検出する検出手段と、前記支持手段の駆動を制御する制御手段とを有し、前記制御手段は、前記軸受手段により前記保持手段を浮上させたときに、前記検出手段によって検出される流量が、所定の流量の範囲内になるように前記支持手段の駆動を制御する。 （もっと読む）

【課題】水素ガスなどを安全上に輸送できる二重の封じ込めチューブ、及び流体輸送システムを提供する。
【解決手段】流体輸送システムは、内壁を有する第１柔軟チューブ３０５と外壁を有する第２柔軟チューブ３１０を備える。第２チューブは第１チューブの内側に配置され、第１チューブの内壁と第２チューブの外壁との間に離間部材３１５が配置される。第１柔軟チューブは第１流体を輸送するように構成され、第２柔軟チューブは第２流体を輸送するように構成される。第１流体が第２流体を周辺環境から隔絶するように第１および第２柔軟チューブが構成され、漏れ検出のために第１流体を監視することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基板の撓みを自動的に矯正して矯正具合の再現性を改善し、基板の解像度の面内部分布を均一にする露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施の形態に係る露光装置は、フォトマスクを固定するマスクホルダと、基板の外周部を固定するチャック及び前記基板に対する圧力を調整する１つ以上の圧力調整部を有するワークステージと、前記フォトマスクのパターン及び前記基板の画像を取得する画像取得部と、前記画像取得部からの情報に基づき、前記圧力調整部の前記基板に対する圧力を調整する制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる洗浄部材を提供する。
【解決手段】洗浄部材は、第１液体と接触する射出面から射出される露光光で第１液体を介して基板を露光する露光装置の、第１液体と接触する接液部材の接触面を射出面から射出される露光光で光洗浄するために用いられる。洗浄部材は、射出面と対向する位置で、射出面から射出される露光光を反射して接触面の少なくとも一部に照射する楕円形の反射面を備える。 （もっと読む）

【課題】露光室内の気体から不純物を除去するフィルタの交換に伴う露光処理の停止時間を低減する。
【解決手段】露光装置は、露光部５０と、前記露光部を収容する露光室と、フィルタ１７ａ，１７ｂを収容する第１フィルタボックス１６ａと第２フィルタボックス１６ｂと、前記第１フィルタボックス及び前記第２フィルタボックスに収容されたフィルタの状態を調整する調整部１１と、前記露光室内の気体の経路切替る第１切替ユニット２１と第２切替ユニット２２とを通過して循環するように前記露光室と前記一方のフィルタボックスとを接続する第１経路と、前記第１フィルタボックス及び前記第２フィルタボックスのうち前記第１経路と接続されていない他方のフィルタボックスと前記調整部とを接続し、前記調整部による前記他方のフィルタボックスに収容されたフィルタの状態の調整を可能にする第２経路と、を備える。 （もっと読む）

【課題】オブジェクトが実質的に均一の温度に維持されるようにオブジェクトの不均一の冷却を軽減するシステムを提供する。
【解決手段】基板を保持するように構成された基板ホルダと、基板ホルダを実質的に均一の温度に維持するように構成されたヒートパイプとを含むリソグラフィ装置が提供される。ヒートパイプは、液体リザーバと蒸気空間とを含むチャンバと、チャンバ内の液体と少なくとも部分的に接触する加熱要素とを有する。 （もっと読む）

【課題】不良デバイスの発生を抑制でき、デバイスの生産性の低下を抑制できる基板処理方法を提供する。
【解決手段】保持部に搬送された基板に対して第１手順に対応した第１処理を実行する基板処理方法は、保持部に搬送された基板の歪みに関する情報を検出することと、歪みに関する情報に基づいて、基板に対して第１処理と異なる第２処理の要否を判断することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】浸漬式リソグラフィ装置の露光パラメータを補正するための方法、装置及び／又はコンピュータ・プログラム製品を提供する。
【解決手段】浸漬式リソグラフィ装置の投影系ＰＬと基板テーブルとの間の液体を介して投影される測定ビーム２２、２４を使用して露光パラメータを測定し、測定ビームを使用して成される測定に影響を及ぼす物理特性の変化に基づきオフセットを求めて、測定された露光パラメータを少なくとも部分的に補正する。また、浸漬式リソグラフィ装置の投影系と基板テーブルとの間の液体に接続された光学素子の高さを測定する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は同面板の交換頻度を減らすことで、スループットの向上を図ることが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】 基板２０と前記基板に対向する光学部材３との間を液体で満たした状態で前記液体１０を介して露光光ＥＬを照射して原版２のパターンを前記基板２０へ投影する液浸露光装置において、前記基板２０を保持して移動する基板ステージ２３と、前記基板２０を囲む撥液性の同面板２１と、前記同面板２１を回転させる回転機構１７と、を備える。 （もっと読む）

【課題】液体を除去するためのオーバーフロー構造を有するノズル部材において、液体の蒸発に起因して発生する気化熱による温度低下の影響を抑え、転写精度の良い露光装置を提供する。
【解決手段】原版を照明する照明光学系と、原版のパターンを基板５に投影する投影光学系と、更に、投影光学系の最終光学素子２４の周囲に配置され、最終光学素子２４と基板５との間隙に液体ｆを供給するための液体供給部３１、間隙から液体ｆを回収するための液体回収部２６、３２、及び、間隙から液体ｆを溢れさせるためのオーバーフロー部３３を備えたノズル部材２０とを有し、間隙に液体ｆを満たして基板５を露光する露光装置１であって、ノズル部材２０は、オーバーフロー部３３から溢れた液体ｆを受け止める環状流路３９と、該環状流路３９から半径方向外側に向かって液体ｆを導く流路３４とを有し、流路３４は、オーバーフロー部３３から離間した位置に、少なくとも１つの液体吸引口３６を連設する。 （もっと読む）

【課題】光学系に悪影響を与えることなく、その光学系の近傍の雰囲気中の汚染物質を排除可能な光学装置を提供する。
【解決手段】照明光で投影光学系ＰＬを介してウエハＷを露光する露光装置において、投影光学系ＰＬのウエハ側の光学素子Ｌ１１とウエハＷとの間に設けられ、光学素子Ｌ１１とウエハＷとの間の照明光ＩＬＥの光路の一部を囲む環状部材４０と、照明光ＩＬＥの光路から外側に向かう方向に気体を吹き出すように環状部材４０に設けられた複数の送風口４０ｅと、送風口４０ｅから気体を吹き出させ、その気体の吹き出しに伴って、環状部材４０の内部に負圧を生じさせる送風装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】
例えば、基板の搬入・搬出に伴う気圧の変化を低減することを目的とする。
【解決手段】
チャンバ（１０）を有し、前記チャンバ（１０）内で基板（３０）を露光する露光装置であって、前記チャンバ（１０）内の気圧を調節する調節手段と、前記チャンバに設けられて前記基板（３０）が出入する開口部（１）を開閉する開閉手段（２）と、を有し、前記調節手段は、前記チャンバ（１０）からの気体の流出量を前記開閉に応じて調節する、ことを特徴とする露光装置。 （もっと読む）

【課題】冷却される部品が光学要素である光学要素を冷却する冷却システムを改良する。
【解決手段】 本発明は、パターンをパターニングデバイスから基板に転写するように配置構成されたリソグラフィ装置であって、リソグラフィ装置の部品を冷却し、小滴を形成して小滴をリソグラフィ装置の部品の冷却表面に向かって発射し、小滴の蒸発によって部品を冷却する小滴エジェクタを含む冷却システムを含むリソグラフィ装置に関する。 （もっと読む）