Fターム[5F049PA04]の内容
受光素子−フォトダイオード・Tr (21,418) | 製造方法(工程) (2,065) | 結晶成長 (455) | 気相エピタキシャル法(VPE) (377) | MOCVD法 (221)
Fターム[5F049PA04]に分類される特許
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埋め込み酸化物層による金属−半導体−金属(MSM)光検出器を有するシステムおよび方法
デバイス静電容量を減少させ、それによって、光検出器帯域幅を増加させるために、誘電体層が吸収層と基板層の間に配置されるMSM光検出器デバイスが本明細書に記載される。誘電体層は、光検出器効率を増加させ、高いフィールド・ドリフト領域からゆっくり移動するキャリアを遮断する。誘電体層は、AlGaAsの湿式熱酸化、イオン注入、またはウェハ・ボンディングとそれに続く基板除去のうちの1つによって形成される酸化物層であってよい。
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