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Fターム[5F049PA06]の内容

受光素子−フォトダイオード・Tr (21,418) | 製造方法(工程) (2,065) | 薄膜技術 (312) | 真空蒸着法 (112)

Fターム[5F049PA06]に分類される特許

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【課題】暗電流の発生を抑制しつつ、光電変換効率を向上させることができる光電変換素子、光電変換素子の製造方法、固体撮像素子を提供する。
【解決手段】本発明は、一対の電極と、前記一対の電極の間に配置された光電変換層とを含む光電変換部を有する光電変換素子であって、光電変換層の少なくとも一部がp型有機半導体とフラーレン類の混合層を含み、該p型有機半導体に対するフラーレン類の混合比が2:1より小さい。 (もっと読む)


【課題】暗電流の増大、歩留まりの悪化、素子性能のばらつきを改善した光電変換素子を提供する。
【解決手段】
基体上に導電性薄膜、有機層からなる光電変換膜、透明導電性酸化物薄膜の順に積層されてなる光電変換素子において、光電変換膜の膜厚が150nm以上であり、前記透明導電性酸化物薄膜の膜厚が5nm以上10nm以下とした。 (もっと読む)


【課題】暗電流の増加を低減し、かつ素子を加熱処理した場合にも暗電流の増加幅を小さくすることが可能な光電変換素子における電子ブロッキング層の形成に適した化合物の提供。
【解決手段】例えば下記化合物。
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【課題】光電変換素子に適用した場合に高い光電変換効率を有する光電変換素子として機能し、かつ、暗電流の絶対値が小さく、かつ室温〜60℃の温度下において、良好な特性を示す、有機光電変換素子を用いた固体撮像素子を提供する。さらに性能の温度依存性が十分小さい有機光電変換素子を提供する。
【解決手段】一対の電極と、前記一対の電極の間に挟持された光電変換層を含む光電変換素子であって、前記光電変換層がフラーレン又はフラーレン誘導体とp型有機半導体材料が混合されたバルクへテロ層であり、前記光電変換層のイオン化ポテンシャルが5.2eV以上5.6eV以下であり、前記一対の電極の少なくとも一方の電極と、前記光電変換層との間に、少なくとも一層の電子ブロッキング層を備え、光電変換層と隣接する前記電子ブロッキング層のイオン化ポテンシャルが前記光電変換層のイオン化ポテンシャルよりも大きいことを特徴とする光電変換素子。 (もっと読む)


【課題】十分な感度と耐熱性が得られ、高速応答性を示す光電変換素子及び固体撮像素子に適した光電変換素子材料として有用な新規化合物の中間体を提供する。
【解決手段】下記一般式(V)で表される化合物。


(式中、R、R、R、R、R、Rは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基又はアリールオキシ基を表す。RとR、RとR、RとR、RとRは、それぞれ互いに結合して環を形成してもよい。
好ましくは、R21及びR22の少なくとも一方が、置換又は無置換のアリール基であって、単結合又は置換基を介してR又はRと連結して環を形成する基。R21及びR22の一方が前記環を形成する基の場合、他方は置換又は無置換のアリール基又はヘテロアリール基である。 (もっと読む)


【課題】マスクパターン形状から大きく乖離しないメサ部のメサパターン形状を得ること。
【解決手段】所定の結晶軸方向に平行な方向に、マスクパターンの最大長とする複数の辺を配置させた状態において、該マスクパターンの下方に位置する化合物半導体薄膜に対して、ウェットエッチング法によりエッチング速度が等価なサイドエッチングを行うことによって、マスクパターンの多角形の形状に対応した多角形を構成する上面と下面とを有するメサパターンからなるメサ部を形成する。 (もっと読む)


【課題】十分な感度と耐熱性が得られ、高速応答性を示す光電変換素子及び固体撮像素子の提供。
【解決手段】一般式(I)で表される化合物及び該化合物を含有する光電変換材料。


(式中、Zは、2つの炭素原子を含む環であって、5員環、6員環、又は、5員環及び6員環の少なくともいずれかを含む縮合環を表す。L、L、Lは、それぞれ独立に無置換メチン基又は置換メチン基を表す。nは0以上の整数を表す。R〜Rは、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、隣あったそれぞれ互いに結合して環を形成してもよい。R21、R22は、それぞれ独立に、置換アリール基、無置換アリール基、置換ヘテロアリール基、又は無置換ヘテロアリール基を表す。) (もっと読む)


【課題】SNを向上させることが可能な有機光電変換素子の製造方法を提供する。
【解決手段】電極2と電極2上方に形成された電極5と、電極2及び電極5間に形成された有機材料を含む光電変換層4と、電極2、電極5、及び光電変換層4を封止する封止層6とを含む有機光電変換素子10の製造方法であって、光電変換層4は、フラーレン又はフラーレン誘導体とp型有機半導体との混合層で構成されており、基板1上方に電極2を形成する第一の工程と、電極2の上方に光電変換層4を形成する第二の工程と、光電変換層4の上方に電極5を形成する第三の工程と、電極5の上方に封止層6を形成する第四の工程とを備え、第二の工程と第四の工程との間の各工程間に、作成途中の有機光電変換素子の構造に何も追加しない期間を30分以上設ける第五の工程を備える。 (もっと読む)


【課題】有機光電変換層を備える光電変換素子の光電変換効率を動作初期から長期間高く維持できるようにする。
【解決手段】第1電極11と第2電極15との間に、有機光電変換色素と、フラーレン又はフラーレン誘導体と、フラーレン重合体とを混合して含む有機光電変換層12を備える。好適には、有機光電変換層12は、有機光電変換色素と、フラーレン又はフラーレン誘導体と、フラーレン重合体とをバルクヘテロ構造で備える。 (もっと読む)


【課題】光−電気変換の量子効率が高く、受光素子及び発光素子として、優れた実用性が得られる鉄シリサイド半導体薄膜を有する光半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板1上に、スパッタ法、蒸着法又はレーザアブレーション法により粒径が10乃至100nmの微細多結晶からなる第1のβ−FeSi層2を初期層として形成する。次いで、化学気相成長法又は気相エピタキシ法により初期層の結晶粒の横方向成長を促進しつつ第1のβ−FeSi層2上に粒径が10乃至100μmの第2のβ−FeSi層3を形成する。 (もっと読む)


【課題】高い感度を有し、撮像画像に滲みが発生するのを抑制することが可能な撮像素子を提供する。
【解決手段】複数の光電変換素子Pと、複数の光電変換素子Pの各々で発生した電荷に応じた信号を読み出す読み出し部3とを有する撮像素子であって、光電変換素子Pが、前記電荷を捕集する画素電極6と、画素電極6と対向する対向電極10と、画素電極6及び対向電極10の間に設けられ、入射光に応じて前記電荷を発生する光電変換層9と、画素電極6と光電変換層9との間に設けられた電子ブロッキング層7とを含み、画素電極6同士の間隔が250nm以下であり、電子ブロッキング層7の各々の画素電極6側の面から対向電極10側の面までの表面電位の変化量が−1eV以上、3eV以下となっている撮像素子。 (もっと読む)


【課題】設置場所の自由度が高く、且つ、生産性の優れた安価な光センサー及び半導体位置検出器を提供する。
【解決手段】受光面を形成する半導体層2と、半導体層の両端部に半導体層に流れる電流を電極3a,bとを有する光センサーを用い、受光面上の入射光位置により電極から検出される電流値がそれぞれ変化することに基づき位置検出をおこなう半導体位置検出器において、半導体層はP型特性を有する芳香族化合物薄膜からなるP型有機半導体層2aと、N型特性を有する芳香族化合物薄膜からなるN型有機半導体層2bとを積層した構成を有し、半導体層がアンバイポーラー性を有する。 (もっと読む)


【課題】高い外部量子効率を示し、かつ、暗電流値が低く、素子を加熱処理した場合にも、外部量子効率の低下を抑え、暗電流の増加幅を小さくすることが可能な、耐熱性に優れた光電変換素子及びそのような光電変換素子を備えた撮像素子を提供すること。
【解決手段】導電性薄膜、有機光電変換膜、ブロッキング層及び透明導電性薄膜を含んでなる光電変換素子。有機光電変換膜が、ガラス転移点(Tg)が100℃以上のp型有機光電変換材料であってアモルファス膜を形成するp型有機光電変換材料を含有し、ブロッキング層が、Tgが140℃以上であるブロッキング材料を含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 低コストの酸化ガリウム単結晶基板を用いた紫外線センサ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 酸化ガリウム単結晶の成長方向に対して直交する直交面41または該直交面41から所定の角度傾斜した面を受光面12rとする酸化ガリウム単結晶基板11と、酸化ガリウム単結晶基板11の第1表面に形成されたオーミック電極13と、受光面12rを含む酸化ガリウム単結晶基板11の第2表面に形成されたショットキー電極12とを備えた。 (もっと読む)


【課題】視感度補正用の赤外線除去フィルタを不要とし、かつ色再現性を人間の視感度に合わせたカラー用固体撮像装置を提供する。
【解決手段】半導体基板10上に形成された回路部30と、回路部30上に配置された下部電極層25と、下部電極層25上に配置されたカルコパイライト構造の化合物半導体薄膜24と、化合物半導体薄膜24上に配置された透明電極層26と、透明電極層26上に配置された可視光フィルタ44R、44G、44Bとを備え、下部電極層25、化合物半導体薄膜24、および透明電極層26は、回路部30上に順次積層されると共に、可視光フィルタ44R、44G、44Bの下方の化合物半導体薄膜24の膜厚を薄層化して、可視光のみを吸収するカラー用固体撮像装置。 (もっと読む)


【課題】フラーレンを含む光電変換層を備える光電変換素子の耐光性向上を図る。
【解決手段】第1電極11と第2電極15との間にフラーレンを含む光電変換層12を備え該光電変換層12内に前記フラーレンの励起状態を失活させる消光剤を含有させる。励起状態となったフラーレンを消光剤が失活させることで、フラーレンの重合が過度に進むのを阻止し、耐光性を高める。 (もっと読む)


【課題】 経済性に優れ、かつ高い製造歩留りを可能にしながら、画素に短絡や接続不良(オープン)を生じない、検出装置等を提供する。
【解決手段】受光素子アレイ50と、CMOS70と、これらの間に介在する接合バンプ9と、受光素子アレイおよびCMOSのグランド電極12,72どうしを接続する接続部材21とを備え、受光素子アレイのグランド電極12は、画素領域45の外側47において、段の底面をなす化合物半導体層2にオーミック接触しており、接続部材21は、受光素子アレイのグランド電極12とCMOSのグランド電極72とに対して直立していることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 接合バンプで接続されたハイブリッド型撮像装置などの検出装置等において、画素不良をなくし、経済性に優れ、かつ受光素子アレイ等の本体にダメージが生じにくい、検出装置等を提供する。
【解決手段】受光素子が複数配列されたフォトダイオードアレイ50とCMOS70とを備え、フォトダイオードアレイの電極11とCMOSの電極71とが、接合バンプ9,79を介在させて接合され、接合バンプ9,79は、電極に接して位置する基部バンプ層9a,79aと、該基部バンプ層上に位置する、該基部バンプ層よりも、融点が低くかつ柔らかい金属からなる融合バンプ層9b,79bとを有し、該融合バンプ層が溶融して相手側と接合していることを特徴とする。 (もっと読む)


本発明は、ナノワイヤを含むナノワイヤフォトダイオードと少なくとも一つの垂直フォトゲートに動作可能に接続するナノワイヤフォトダイオードからなるデバイスに関する。

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【課題】光電変換効率及び高速応答性に優れた光電変換素子及び固体撮像素子を提供する。
【解決手段】導電性膜と、光電変換膜と、透明導電性膜とを含む光電変換素子であって、光電変換膜が、フラーレン又はフラーレン誘導体と、吸収スペクトルが下記(A)及び(B)の少なくともいずれかの条件を満たす光電変換材料とを含む。(A):λM1<λL1、かつλM2<λL2(B):λM1<λL1、かつΔ|λM1−λL1|>Δ|λM2−λL2|(A)及び(B)において、λL1、λL2、λM1、及びλM2は、波長400〜800nmの範囲における最大吸収強度の1/2の吸収強度を示す波長であって、λL1及びλL2は、前記光電変換材料をクロロホルムに溶解させたときのクロロホルム溶液スペクトルにおける波長を表し、λM1及びλM2は、前記光電変換材料単独の薄膜吸収スペクトルにおける波長を表す。ただし、λL1<λL2、λM1<λM2(もっと読む)


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