【課題】多重露光が必要なレジストを用いて振動ノイズの測定を行うに当たって、複数回の露光に起因する図形パターンの位置のノイズ成分を減衰させることなく、簡易かつ確実に定量的に振動ノイズの測定を行うことが可能な荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】位置ずれ測定の指標となるターゲットパターンＴＰの輪郭部における総露光量を設定するステップと、ターゲットパターンＴＰの露光に用いる第１の露光量を設定するステップと、バックグラウンドパターンＢＧＰ露光に用いる第２の露光量を設定するステップと、複数回に分けて露光を繰り返しバックグラウンドパターンＢＧＰを露光するステップと、１度の露光によりターゲットパターンＴＰを形成するステップと、を備える。 （もっと読む）

【目的】照射量を繰り返し演算により求める際に、解の収束をより早め、描画時間を短縮することが可能な装置を提供する。
【構成】描画装置１００は、試料の描画領域が仮想分割されたメッシュ毎に、繰り返し演算により当該小領域内にショットする荷電粒子ビームの繰り返し数第ｎ回目の照射量補正係数を算出する照射量係数計算部６０と、小領域毎に、第ｎ−１回目の照射量補正係数から、繰り返し数ｎ回目に算出された第ｎ回目の照射量補正係数への変化率を第ｎ回目の変化率として演算する変化率計算部６２と、小領域毎に、第ｎ回目の変化率を用いて第ｎ回目の照射量補正係数を補正する照射量係数計算部６５と、小領域毎に、補正された第ｎ回目の照射量補正係数を用いて当該小領域内にショットする荷電粒子ビームの照射量を演算する照射量計算部７０と、照射量で当該小領域内に所望のパターンを描画する描画部１５０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】マルチビーム方式の描画装置で、異常な荷電粒子線が存在しても描画に有利な技術を提供する。
【解決手段】描画装置は、荷電粒子光学系と制限部と制御部とを備える。荷電粒子光学系は、第１方向に沿って第１ピッチで配置されたｎ以上のＮ本の荷電粒子線を含む行が、第１方向に直交する第２方向に沿って第２ピッチでｍ以上のＭ行存在し、Ｍ行のうち１番目からｍ番目の行は、各行の先頭の荷電粒子線の第１方向における位置が第１ピッチの（１／ｍ）ずつずれ、かつ、（ｍ＋ｉ）番目の行の先頭の荷電粒子線の第１方向における位置がｉ番目の行の先頭の荷電粒子線の第１方向における位置と同じに配列された（Ｍ×Ｎ）本の荷電粒子線を生成する。制御部は、（Ｍ×Ｎ）本の荷電粒子線の中に異常線が存在する場合、該異常線を含まず連続するｎ本の荷電粒子線を含む行が、ｍの約数分の行だけ第２方向に沿って連続して使用できるように、制限部を制御する。 （もっと読む）

【課題】電気的絶縁性を保持しつつ、高い真空度で配管などを接続可能な真空接続装置を提供する。
【解決手段】対向するフランジ３、４は、これらの間に絶縁スペーサ１２を挟み、ボルト９とナット１０で締結することにより真空シールされる。座金７は絶縁性の樹脂からなり、ボルト９は絶縁性の樹脂１１で被覆されている。フランジ３、４の各対向面には、エッジ１３、１４が設けられており、エッジ１３、１４からフランジ３、４の各外周部に向かってテーパ部１５、１６が形成されている。テーパ部１５、１６によって挟まれた空間には、樹脂ガスケット５が介装されている。樹脂ガスケット５は、エッジ１３、１４より外周部側の空間内に留まっているようにする。樹脂ガスケット５は、テフロン（登録商標）からなることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】近接効果補正を行う場合であっても、コラムセル間の線幅のばらつきを補正できるマルチコラム型の電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法を提供する。
【解決手段】一つのウェハ上に複数のコラムセルを配置して並列して露光処理を行うマルチコラム型の電子ビーム露光装置において、各コラムセルの露光量と線幅の関係を求める（ステップＳ４１、Ｓ４４）。そして、各コラムセルのいずれか１から選ばれた基準コラムセルの露光量と線幅の関係に補正対象コラムセルの露光量と線幅の関係を一致させる補正パラメータを求める（ステップＳ４３、Ｓ４６）。以上のようにして求めた補正パラメータに基づいて基準コラムセルの露光時間を補正して、各コラムセルの露光時間を求める。 （もっと読む）

【課題】反射電子ビームリソグラフィ装置のパターン生成器の画素素子の革新的なレイアウトを提供する。
【解決手段】一実施形態は、対象基板上にパターンを書き込むための装置に関する。この装置は、画素素子の複数の配列を含み、各配列は、互いにオフセットされている。加えて、この装置は、複数の配列上に合焦させる入射ビームを生成するための発生源１２０２およびレンズと、パターン化ビームを形成するために、画素部分が入射ビームを選択的に反射するように各配列の画素素子を制御するための回路と、を含む。さらに、この装置は、対象基板上にパターン化ビームを投射するための投射器１２１４を含む。また、他の特徴、態様および実施形態も開示される。 （もっと読む）

２つ以上の静電容量センサ(３０ａ、３０ｂ)と、静電容量センサにエネルギを与える１つ以上のＡＣ電力源（３０６ａ、３０６ｂ）と、静電容量センサからの信号を処理する信号処理回路とを具備する、静電容量感知システム。センサは、ペアで配置されている。１つ以上のＡＣ電力源は、センサのペアのうちの第１のセンサに、センサのペアのうちの第２のセンサの電流又は電圧に対して位相が１８０度ずれている交流電流（３０７）又は電圧で、エネルギを与えるように構成されている。センサのペアは、１つの測定距離値に対する測定ユニットを備えている。信号処理回路は、ペアのうちの各センサから出力信号を受信し、ペアのセンサとターゲット（９）との間の平均の距離に関係する測定値を生成する。 （もっと読む）

【課題】複数の荷電ビーム光学系を有する荷電ビーム露光装置において、アライメント精度を向上することが可能な荷電ビーム露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】 複数の荷電ビーム光学系のうち第１の荷電ビーム光学系１４により、ウェハ１２内の複数のチップにそれぞれ設けられた第１のマークを検出し、検出された複数の第１のマークの位置情報に基づいて、ウェハ内の各チップ位置を算出し、複数の荷電ビーム光学系１４〜１７のそれぞれにより、ステージ１３上の第２のマークを検出し、検出された第２のマークの位置情報に基づいて、各荷電ビーム光学系１４〜１７のビーム位置を調整し、算出されたチップ位置に基づいて、複数の荷電ビーム光学系１４〜１７を用いてパターンを描画する。 （もっと読む）

【課題】 クーロン効果による荷電粒子線のボケを抑制しつつ高スループットの荷電粒子線描画装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、荷電粒子線を用いて投影系を介して基板にパターンを描画する荷電粒子線描画装置である。投影系は、対称型磁気ダブレットレンズと、対称型磁気ダブレットレンズが発生する磁場の中に配置された静電レンズとを備える。静電レンズは、少なくとも対称型磁気ダブレットレンズの瞳又はその付近に、対称型磁気ダブレットレンズへ入射される荷電粒子線のエネルギーを決定する電位よりも高い電位を与える電極を含む。 （もっと読む）

【目的】故障部品候補を抽出するシステムを搭載した描画装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の描画装置１００は、診断結果で関連付けされた複数の診断ＩＤを記憶する診断ツリーテーブル１４２と、診断ＩＤと診断レベルと部品ＩＤと故障度数とを対応させて記憶する部品係数テーブル１４４と、第ｎ番目の診断ＩＤと、描画装置１００の所定の機能を第ｎ番目の診断手法を用いて診断した第ｎ番目の診断結果とを入力し、診断ツリーテーブル１４２を用いて関連付けされた第ｎ＋１番目の診断ＩＤを抽出する抽出部１４２と、抽出されたすべての診断ＩＤを基に、部品係数テーブル１４４を用いて関連する部品ＩＤを抽出する抽出部１２４と、部品係数テーブル１４４を用いて部品ＩＤ毎に故障度数の累積加算値を演算する累積加算部１３０と、部品ＩＤと累積加算値とを出力するＩ／Ｆ回路１６４と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビーム発生源で発生した荷電粒子ビームが出射する第１の穴が形成された第１の壁と、該第１の壁の外側に配設され、前記第１の壁の外面に当接可能なＯリングが設けられた弁板を有し、前記Ｏリングが前記第１の壁の外面の前記第１の穴の開口の周りに押接し、前記弁板が前記第１の壁の第１の穴を塞ぐ閉状態は、前記第１の穴内を真空に保持する真空仕切弁とを有する荷電粒子ビーム装置に関し、真空仕切弁のＯリングが劣化しにくい荷電粒子ビーム装置を提供することを課題とする。
【解決手段】第１の壁１０１の第１の穴１０３と、開状態の真空仕切弁１１１の弁板１１３との間に、荷電粒子ビームＢによる散乱電子、反射電子、Ｘ線を遮る遮蔽手段（ケース２１１、遮蔽板２２１）２００を設ける。 （もっと読む）

【課題】 ステージ位置を検出するレーザー干渉位置検出システムの移動ミラーの直交性の変動に伴う描画パターンの位置精度の劣化を改善し、描画精度の向上をはかる。
【解決手段】 エネルギービーム描画装置において、入射ビームに垂直な平面上をＸ，Ｙ方向に移動可能に設けられた可動式ステージ１２と、ステージ１２に取り付けられたＸ軸及びＹ軸の移動ミラー１３，１４にそれぞれレーザー光を照射し、各々の反射光を基にステージ１２のＸ，Ｙ方向の位置を検出する２系統のレーザー干渉位置検出システム３５と、ミラー１３，１４の直交性の経時変化特性と経過時間に基づいてステージ位置情報を補正する位置補正システム３６と、補正されたステージ位置情報を用いてステージ位置及びエネルギービームを制御し、ステージ１２上に保持された試料１１上の所望の位置にビームを照射する制御部３３，３４とを備えた。 （もっと読む）

【課題】複数個のコラムを一体化させて製造することができるとともに各コラム間の組み立て精度が向上されている荷電ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】荷電ビーム描画装置１は、荷電ビーム発生装置３、コンデンサーレンズ４、投影レンズ５、複数個のアパーチャー６、複数個のアパーチャー支持具７、ビーム成形用偏向器８、対物レンズ９、対物偏向器１０、複数個のアライナー１１、および複数個の鏡筒１２を具備する。各アパーチャー支持具７には各鏡筒１２の径よりも大きい第１の開口部１９が形成されている。少なくとも１つの鏡筒１２はその一部を第１の開口部１９の内側に通されて配置されている。 （もっと読む）

【目的】装置内のクリーン度を向上させると共に描画されたマスクのパターン位置ずれ量を高精度に計測する方法及び装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の位置計測装置６００は、基板を３点支持する３点支持部材２２０と、基板を真空チャックする真空チャック部材２４０とを配置するホルダ６５０と、３点支持部材２２０と真空チャック部材２４０との一方を載置するステージ６２０と、真空チャック部材２４０を介して基板を吸引する真空ポンプ６８０と、基板上に形成されたパターンの位置とを認識するパターン位置認識部６１０と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、静電チャックを用いない描画装置の位置精度と共に、静電チャックにより保持する場合を想定して補正したパターンのパターン位置ずれも確認することができる。 （もっと読む）

本発明は、粒子ビームから複数の個々のビームを生成するマルチビームモジュレータに関する。粒子ビームはマルチビームモジュレータを少なくとも部分的にその表面にわたって照明する。マルチビームモジュレータは複数の開口群を有し、それぞれの開口群は複数の開口行群を有する。全ての開口行の全体はｍ×ｎセルの行列を画定する。ここでｍセルは１つの行を形成し、ｋの開口がそれぞれの行に形成される。行内の開口の密度が不均質に分布される。
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【課題】電子カラムをモーショニングさせ、試料の動きを最小化することによって、従来の装置に比べ、装置を小型化することを目的とし、さらに、電子カラムを多重化し、モーショニングを可能にして使用することにより、短時間に多くの電子ビームで多くの単位表面積をスキャンして時間的にも有利な装置を提供することを目的としている。
【解決手段】電子ビームを放出する電子カラムと前記電子ビームが照射される試料間に相対運動を与えるモーショニング装置を提供する。このモーショニング装置は、試料に電子ビームを放出するマルチマイクロカラム；前記マイクロカラムを支持する支持部；および前記支持部を動かして前記マイクロカラムを移動させる駆動手段；前記試料を低真空または高真空に維持するための真空室；を含む。 （もっと読む）

【課題】
マルチ電子ビーム描画装置用偏向デバイスの製造方法において、偏向電極を備えた高アスペクト比の貫通孔を基板に高精度かつ高密度に成形できるようにすること。
【解決手段】
マルチ電子ビーム描画装置用デバイスの製造方法は、シリコン基板１に貫通孔２を複数形成した後、電子ビームを偏向するための偏向電極を貫通孔２の側壁に形成する。この製造方法は、シリコン基板１の一側からドライエッチングによりほぼ垂直な側壁を有する溝部１１を形成し、シリコン基板１の他側からドライエッチングにより溝部と異なる径を有すると共にほぼ垂直な側壁を有する第２の孔部２ａを溝部１１に連通するように形成して溝部１１で形成される第１の孔部２ａと共にシリコン基板１を貫通するアスペクト比が４以上の貫通孔２を形成した後、貫通孔２の側壁に独立して対向する偏向電極を形成する方法である。 （もっと読む）