【課題】複数の荷電粒子線を一括して偏向して該複数の荷電粒子線による物体上の走査を行う走査偏向器の各荷電粒子線の偏向誤差を補償するのに有利な技術を提供する。
【解決手段】荷電粒子線による物体上の走査を行う走査装置は、制御データに基づいて複数の荷電粒子線を個別にブランキングするブランキング偏向器と、前記複数の荷電粒子線を一括して偏向して前記走査を行う走査偏向器と、制御部と、を備える。前記制御部は、基準走査量及び基準走査方向に対する前記走査偏向器による走査量及び走査方向のずれを前記複数の荷電粒子線それぞれに関して求めるための第１データを保持し、前記物体上の目標領域に対して前記走査が行われるように、前記第１データに基づいて前記制御データを生成する。 （もっと読む）

【課題】変形が生じる部材からの所定方向の応力の静電偏向器の電極支持部などへの伝達を抑制し、複数の荷電粒子ビームの偏向ばらつき等を低減することができる荷電粒子光学系を提供する。
【解決手段】荷電粒子光学系は、熱による変形が生じる可能性がある第１の部材１１２と、第１の部材を通過した荷電粒子ビーム１を偏向する静電偏向器１１３と、を含む。静電偏向器は、第１の部材に固定された固定部７を介して第１の部材と組み立てられ、静電偏向器は、電極支持部５と、電極支持部に支持される第一の電極と２第二の電極３を有する。第一及び第二の電極間には、第１の部材を通過した荷電粒子ビーム１を偏向するための電界を発生させるギャップ１１が形成されている。電極支持部５は、第１の部材１１２からの電界方向の変形応力の固定部７を介する電極支持部５への伝達が低減されるように、固定部７に取り付けられている。 （もっと読む）

【課題】電子ビームリソグラフィーシステム内の収差を補正する。
【解決手段】
一実施形態は、電子ビームリソグラフィーシステム内の収差を補正する装置に関する。内部電極は、パターン生成装置を取り囲み、その内部電極の周りには、少なくとも１つの外部電極がある。内部電極及び外部電極の各々は、パターン生成装置の平面内に、平坦な表面を有する。回路は、内部電圧レベルを内部電極に印加し、少なくとも１つの外部電圧レベルを少なくとも１つの外部電極に印加するように構成されている。電圧レベルは、電子ビームリソグラフィーシステム内の像面の反りを補正するように設定され得る。別の実施形態は、電子ビーム検査システム又は再検査システム又は計量システム等の電子ビーム基盤型システム内で利用される収差を補正する装置に関する。他の実施形態、態様及び特徴も開示される。 （もっと読む）

【課題】ヨーク自身の特性上の飽和による限界を超えた磁場を発生させることが可能な電磁レンズを搭載したビーム装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置は、荷電粒子ビームを放出する電子銃２０１と、コイルと、コイルを内側に配置するヨークと、発生させる磁力線がヨーク自体を通過することによって、発生させる磁力線の方向がコイルによる磁力線の方向と逆方向に閉ループを構成するように配置された永久磁石とを有し、前記荷電粒子ビームを屈折させる対物レンズ２０７と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＤＡＣアンプテスターを使用してブランキングタイミングの調整を行うことで、セトリング時間の短縮を図り全描画処理に掛かる時間を短縮しスループットの向上を図るとともに、誰でも簡易、確実にＤＡＣアンプの調整を行うことができ、ＤＡＣアンプ調整時間の短縮までも図ることが可能な荷電粒子ビーム描画装置及びブランキングタイミングの調整方法を提供する。
【解決手段】ブランキングアンプ３３と、ＤＡＣアンプ３４と、偏向制御部３２と、制御計算機３１と、ＤＡＣアンプ３４から出力されるアナログ電圧信号を加算する加算回路を備えるＤＡＣアンプ診断回路３８と、ＤＡＣアンプ３４の評価を行うＤＡＣアンプテスター７と、を備え、ＤＡＣアンプテスター７は、ブランキングアンプ３３からのブランキング信号とＤＡＣアンプ診断回路３８からの加算回路出力信号を基にセトリング時間内におけるブランキングタイミングの調整を行う。 （もっと読む）

【課題】マルチカラムで多重描画を行なう際の描画時間をより短縮可能な描画装置を提供する。
【解決手段】描画装置１００は、試料を配置するステージ１０５と相対移動しながら、電子ビーム２００，３００を用いて試料にパターンを描画する複数のカラム２２０，３２０と、パターンが描画される試料１０１の描画領域が複数のカラムの中心間距離よりも小さい幅で短冊状に仮想分割された複数のストライプ領域で構成されるストライプ層を多重描画回数分作成するストライプレイヤ作成部５０と、を備え、複数のカラムがそれぞれ担当する描画対象領域がそれぞれ異なるストライプ層を構成する複数のストライプ領域全面になるように、複数のカラムが、同時期に、試料のチップ領域に描画を行う。 （もっと読む）

【課題】 クロスオーバの輝度均一性の点で有利な電子銃の提供。
【解決手段】 共通の軸に沿って順に配置されたカソードとバイアス電極とアノードとを有する電子銃であって、前記カソードの電子放出面は、前記軸上の点を含む第１領域の曲率半径（第１曲率半径）より該第１領域の外側にある第２領域の曲率半径（第２曲率半径）が大きく、かつ、前記第１領域および前記第２領域がともに前記第１曲率半径を有する場合よりクロスオーバの輝度が均一となる形状である、電子銃とする。 （もっと読む）

【課題】マスクレスのため低コストで電子ビーム投影リソグラフィを可能にする、電子反射板のアレイから制御可能に電子を反射する方法と、反射電子ビームリソグラフィのためのダイナミックパターン生成機の装置を提供する。
【解決手段】入射電子ビームが電子源から形成され、入射ビームは電子反射板のアレイに導かれる。第１の複数の反射板は、反射板を出る反射した電子が合焦ビームを形成する第１反射モードで電子を反射するように構成される。第２の複数の反射板は、反射板を出る反射した電子がデフォーカスする第２反射モードで電子を反射するように構成される。 （もっと読む）

【課題】結像系のひずみエラーを補正できるマルチビーム・パターン定義（ＰＤ）システム、及び荷電粒子処理または点検装置を提供する。
【解決手段】開口アレイ手段（２０２）は、それぞれのビームレット（ｂ１−ｂ５）を定めるための少なくとも２つのセットの開口（２２１、２２２）を含む。そこで、開口のセットは織り交ざる配置で配置される複数の開口を含み、異なるセットの開口は、共通の変位ベクトル（ｄｌ２）によって互いにオフセットされる。孔アレイ手段（２０１）は、開口のセットの１つに対応するビームレットの部分集合の通過のために構成される複数の孔（２１０）を有するが、他のセットの開口に対応する場所で孔（ビームを透過する）を欠いている。位置決め手段は、選択的に開口のセットの１つを孔アレイ手段の孔と整列させるため、孔アレイ手段と関連して開口アレイ手段を移動させる。 （もっと読む）

【課題】寿命を短縮することなく輝度の向上が可能な電子銃用のエミッタ使用方法を提供する。
【解決手段】電子銃用のエミッタ使用方法において、エミッタ１４は、結晶質の金属六硼化物を用いて構成され、形状が円柱体の先端側を円錐台に形成して端面２が平面であるとともに、円錐台端面２が（３１０）結晶面であるように構成されており、そのエミッタを１×１０^−５Ｐａ以下の真空圧力で動作させるようにする。エミッタは、１６５０Ｋ〜１９００Ｋの動作温度で動作させることが好ましい。 （もっと読む）

１本以上の露光ビームをターゲット上に集束させるための投影レンズシステム(１３２)と、ターゲット（９）を支える可動テーブル(１３４)と、投影レンズシステムの最後の集束要素(１０４)とターゲット（９）の表面との間の距離に関連する測定を行なう静電容量感知システム(３００)と、静電容量感知システムからの信号に少なくとも部分的に基づいて、ターゲット（９）の位置を調整するために、可動テーブル（１３４）の動きを制御する制御ユニット（４００）と、を具備する、リソグラフィマシンのための統合されたセンサシステム。静電容量感知システム(３００)は、複数の静電容量センサ(３０)を具備しており、各静電容量センサ(３０)は、薄膜構造を備えている。静電容量センサと投影レンズシステムの最後の集束要素は、共通のベース（１１２）に直接にマウントされ、静電容量センサは、投影レンズシステムの最後の集束要素の縁部のすぐ近くに配置される。 （もっと読む）

【目的】荷電粒子ビームの光軸が偏向器内の中心付近をできるだけ垂直に進むように調整する装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の描画装置１００は、電子ビーム２００を放出する電子銃２０１と、試料１０１を載置するＸＹステージ１０５と、電子ビームを偏向して、試料上の所望の位置へと荷電粒子ビームを照射する偏向器２０８と、偏向器２０８に流れる電流値を測定する電流測定部１２２と、電流値を用いて、偏向器２０８内を通過する電子ビームの光軸をアライメントする第１と第２のアライメントコイル２１２，２１４と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】リフォーカス用の静電レンズの電極の配置誤差に起因する収差及び照射位置ずれを補正可能な電子ビーム露光装置を提供すること。
【解決手段】電子ビーム露光装置は、電子ビームを放射する電子銃と、電子ビームを試料面上へ結像させる投影レンズと、投影レンズの上方に設置され、電子ビームの焦点を補正する静電多重極電極からなるリフォーカスレンズと、リフォーカスレンズの各電極に対して光軸の回りに回転させて配置した静電多重極電極からなる寄生収差補正用レンズと、電子ビームの断面の面積に応じた電圧を、リフォーカスレンズを構成する電極及び寄生収差補正用レンズを構成する静電多重極電極に印加する制御手段とを備える。寄生収差補正用レンズを構成する多重極電極は、リフォーカスレンズを構成する電極に対し、隣接する２つの当該電極間の角度の１／２だけ光軸の周りに回転させた位置に配置される。 （もっと読む）

【課題】マルチプルビームを備えた荷電粒子光学システムを提供する。
【解決手段】本発明はマルチプルビーム荷電粒子光学システムに関し、それは、複数の荷電粒子小ビームを生成するための荷電粒子源と、前記荷電粒子源からの前記荷電粒子小ビームをターゲットに向けて方向付けるための荷電粒子光学素子を備え、各荷電粒子小ビームは小ビーム中心線を規定し、前記荷電粒子光学素子は一つ以上の静電レンズアレイを備え、おのおのは、複数の静電小レンズを生成するための二つ以上のアレイ電極を備え、各小レンズは、対応する荷電粒子小ビームを集中させるように構成され、各小レンズは小レンズ光学軸を規定し、前記一つ以上の静電レンズアレイの少なくとも一つは一つ以上の軸外静電小レンズを備え、前記対応する荷電粒子小ビームの前記小ビーム中心線は、その小レンズ光学軸から距離を置いて前記軸外静電小レンズを通過する。
（もっと読む）

【課題】スループットの向上を図ることができる荷電粒子ビーム露光方法を提供する。
【解決手段】電子銃６４から放射された電子ビームを所定サイズの矩形に成形する第１アパーチャ６５と、該第１アパーチャ６５で所定サイズの矩形に成形した電子ビームを任意サイズの矩形に成形する第２アパーチャ６６と、該第２アパーチャ６６で任意サイズの矩形に成形した電子ビームを一括露光用パターン形状に成形するブロックマスク６７とを設ける。 （もっと読む）

【課題】
複合型電磁界レンズにおいて投影レンズの収差を抑制する荷電粒子線描画装置を提供する。
【解決手段】
荷電粒子線を投影する投影系を有し、投影された荷電粒子線で基板にパターンを描画する荷電粒子線描画装置であって、投影系は、磁場を発生する対称型磁気ダブレットレンズと、対称型磁気ダブレットレンズが発生する磁場の中に電場を発生する静電レンズとを備え、静電レンズは、物体面側に配置された第１円筒電極と、像面側に配置された第３円筒電極と、第１円筒電極と第３円筒電極との間に配置された第２円筒電極と、を含み、第１円筒電極および第３円筒電極には、基板の電位と同一の電位を与え、第２円筒電極には、対称型磁気ダブレットレンズの瞳面に入射する荷電粒子線を加速する電位を与え、第２円筒電極は、対称型磁気ダブレットレンズの光軸の方向に分割された２つの円筒電極を含む、ことを特徴とする荷電粒子線描画装置。 （もっと読む）

【課題】荷電ビームのブランキングに伴う偏向誤差を抑制することができ、描画精度の向上をはかる。
【解決手段】試料上に所望パターンを描画する荷電ビーム描画装置であって、荷電ビームを発生する荷電ビーム源１１と、荷電ビーム源１１で発生された荷電ビーム１２を試料面１４上に集束するレンズ系２１，２２，２３と、ビームの試料面１４への到達を制御するためのブランキング偏向器４１と、ブランキング偏向器４１へブランキング信号を供給するブランキング偏向制御回路５１と、ブランキング信号の波形、周波数、時比率、ショット時間の少なくとも一つに応じて、ブランキング偏向に伴う偏向誤差を補正するブランキング補正機構とを備えた。 （もっと読む）

【目的】電子銃及び高圧電源回路の異常を検知することが可能な装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の描画装置１００は、電子ビーム２００を放出する電子銃２０１と、電子銃２０１に電子の加速電圧を印加する高圧電源回路１１０と、高圧電源回路１１０内に配置され、電子銃２０１のエミッタ抵抗の変動を検知するエミッタ抵抗変動検知回路５４と、高圧電源回路１１０内に配置され、検知されたエミッタ抵抗の変動を記録する記録回路８０と、電子銃２０１から放出される電子ビーム２００を試料の所望する位置に照射する電子光学系と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】高速にブランカーでビームをＯＮ／ＯＦＦさせた場合でもビームの光軸ずれを補正する装置を提供することを目的とする。
【構成】描画装置１００は、ＸＹステージ１０５と、ステージ側に電子ビーム２００を放出する電子銃２０１と、ブランキングアパーチャ２１４と、電圧反射を抑えるためにブランキング用の電極に終端抵抗を有し、この電極に所定の電圧を印加することにより電極を通過する電子ビームをブランキングアパーチャ２１４上へと偏向するブランカー２１２と、ブランカー２１２への電圧印加を繰り返してビームＯＮ／ＯＦＦさせることで発生する電子ビームの光軸ずれを補正するアライメントコイル２１６と、光軸ずれ量を補正するようにアライメントコイル２１６を制御するアライメントコイル制御回路１３０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 偏向信号源側への負荷の増大を招くことなく、高い周波数での電子ビームの高精度大振幅偏向を可能にする。
【解決手段】 電子ビームを発生する電子源と、電子ビームを集束するレンズと、電子ビームを偏向する偏向器とを有し、電子源から発生した電子ビームを試料面上の所望の位置に照射する電子ビーム描画装置であって、偏向器３１は、偏向信号を外部入力用ケーブル５２を介して入力する共振回路の一部であり、外部入力用ケーブル５２から見たときの共振回路の共振周波数でのインピーダンスが外部入力用ケーブル５２の特性インピーダンスとほぼ等しくなるように設定され、偏向信号の周波数は、共振回路の共振周波数とほぼ一致するように設定されている。 （もっと読む）