【課題】半導体集積回路装置において、Ｉ／Ｏセルの高さを低減すると同時に幅の増大を防ぐことでＩ／Ｏセルの占める領域の面積を削減すること。
【解決手段】レベルシフタ回路、Ｉ／Ｏロジック回路およびＩ／Ｏバッファ回路を含むＩ／Ｏセルがコア領域の周囲に配置された半導体集積回路装置であって、Ｉ／Ｏロジック回路が配置されたＩ／Ｏロジック領域、および、Ｉ／Ｏバッファ回路が配置されたＩ／Ｏバッファ領域は、Ｉ／Ｏセルに対するパッドが配置された領域と重なり合うとともに、コア領域の辺に平行な方向に互いに並んで配置されている。 （もっと読む）

【課題】信号の重要度を考慮に入れたセルの自動配置を行うアルゴリズムは存在しない。従って、重要配線が不必要に長くなる場合がある。重要配線が長くなると、重要配線を伝達する信号を劣化させる原因となり得る。そのため、信号の重要度を考慮に入れたセルの自動配置を行うことで、重要度の高い信号の品質を維持する半導体装置を設計できる半導体設計装置、が望まれる。
【解決手段】半導体設計装置は、半導体装置に含まれる複数のセルを接続する複数の信号配線から、伝達する信号が重要であることを示す重要配線情報が付された重要配線と、複数の信号配線のそれぞれに接続されているセルの数を示すセル接続数と、を抽出する配線情報抽出部と、配線情報抽出部が抽出した重要配線及びセル接続数に応じて、複数のセルの配置を決定するセル自動配置部と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】少しの設計方法の変更で設計できる、一層低消費電力化した半導体装置の実現。
【解決手段】複数の電源供給領域23と、複数の電源供給領域に供給する電源の電圧を切り替える複数の電源切替ユニットSWA,SWBと、を有し、複数の電源供給領域に含まれる回路要素を組み合わせて少なくとも１つの機能ブロックが形成され、少なくとも１つの機能ブロックは、内部に異なる電圧で動作する回路要素を含む半導体装置。 （もっと読む）

【課題】スタンダードセル回路のレイアウト面積を削減する。
【解決手段】配線導体Ｌａは電源電圧ＶＤＤａを出力する電源に接続される。レギュレータ６ａは、配線導体Ｌａからの電源電圧ＶＤＤａを電源電圧ＶＤＤａより低い電源電圧ＶＤＤｂに変換し、配線導体Ｌｂを介してレベルシフタ２−１〜２−３，３，及びスタンダードセル４に出力する。レベルシフタ２−１は、入力されるデータの電圧レベルを電源電圧ＶＤＤａの電圧レベルから電源電圧ＶＤＤｂの電圧レベルに電圧シフトしてスタンダードセル４に出力する。レベルシフタ３は、スタンダードセル４からの出力信号の電圧レベルを電源電圧ＶＤＤｂの電圧レベルから電源電圧ＶＤＤａの電圧レベルに電圧シフトし、出力端子Ｔｑを介して出力する。 （もっと読む）

【課題】複数の回路ブロックの特性を正確に一致させる。
【解決手段】例えば、端子３１Ａ，３１Ｂと、これら端子間に設けられた回路１１０Ａ，１１０Ｂを備える。回路１１０Ａは端子３１Ａに接続され、端子３１Ａから端子３１Ｂへ向かって配置されたセル１２０Ａ，１３０Ａ，１４０Ａを含む。回路１１０Ｂは端子３１Ｂに接続され、端子３１Ｂから端子３１Ａへ向かって配置されたセル１２０Ｂ，１３０Ｂ，１４０Ｂを含む。セル１２０Ａ，１２０Ｂのレイアウトは、形状、サイズ及び向きがトランジスタレベルで同一である。セル１３０Ａ，１３０Ｂ及びセル１４０Ａ，１４０Ｂのレイアウトは、形状及びサイズが同一であり、トランジスタの向きが１８０°相違している。これにより各セルを対称配置しつつ、センシティブなセル１２０Ａ，１２０Ｂにおいては電流方向の違いによる特性差が生じない。 （もっと読む）

【課題】従来の入出力セルよりも回路面積の大きな入出力セルを面積効率良く配置する。
【解決手段】半導体装置において、複数の第１バッファセル３１〜３４は、基板の一辺に沿って１列に設けられる。複数の第２バッファセル２１，２２は、複数の第１バッファセルよりも基板の中央寄りの位置に、複数の第１バッファセルの配列方向に沿って１列に設けられる。複数の第１パッド８１〜８８は、複数の第１バッファセルの上部に上記配列方向に沿って１列に設けられる。複数の第２パッド６１〜６６は、複数の第１パッドよりも基板の中央寄りの位置に、上記配列方向に沿って１列に設けられる。複数の第２パッド６１〜６６は、各々が、複数の第１バッファセルのいずれか１つと個別に接続される複数の第３のパッド６１，６３，６５，６６と、各々が、複数の第２バッファセルのいずれか１つと個別に接続される複数の第４パッド６２，６４とを含む。 （もっと読む）

【課題】３層以上の配線を接続する際に、最も効率的にかつ最小面積で接続を行えるコンタクト構造を実現可能な半導体装置およびその製造方法、並びに表示装置を提供する。
【解決手段】基板２０１上に３層以上のｎ層の導電層２０２〜２０４が積層して形成され、ｎ層の導電層がコンタクトパターンを介して接続され、コンタクトパターンが形成される一つの主コンタクト領域には、（ｎ−１）個の導電層２０２，２０３を接続する（ｎ−１）個の接続領域２１１，２１２を有し、（ｎ−１）個の導電層のうち基板２０１に対する積層方向（基板２０１の主面に対する法線方向）において第１層より上層の導電層は、その終端部がコンタクトパターンＣＰＴＮの縁の一部に臨むように形成され、（ｎ−１）個の導電層は、第ｎ層の導電層により電気的に接続されている。第ｎ層の導電層は、コンタクトパターンＣＰＴＮであるコンタクト孔を埋めつくよう形成されている。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路装置において、レイアウトの面積効率の低下を抑制可能となる、マルチハイトセルのレイアウト構造を提供する。
【解決手段】標準論理セル１０は、電源配線または接地配線となるメタル配線１２を共有するようにＹ方向に隣接して配置された第１および第２回路領域Ａ１，Ａ２を備えている。Ｘ方向において、第１回路領域Ａ１の両端部の位置ｘ１ａ，ｘ１ｂと第２回路領域Ａ２の両端部の位置ｘ２ａ，ｘ２ｂとは、少なくともいずれか一方が異なっている。すなわち、標準論理セル１０の外形形状ＣＦは、第１および第２回路領域Ａ１，Ａ２の外形形状が矩形であるにもかかわらず、非矩形となっている。 （もっと読む）

【課題】複数の電源電圧を有する半導体装置の電源電圧状態を検証する半導体設計検証装置を提供する。
【解決手段】半導体装置を構成する素子または回路の電源仕様を検証する半導体設計検証装置であって、設計データ情報と電源仕様情報とを格納する記憶部と、記憶部より読み出された設計データ情報と電源仕様情報とを処理する処理部とを備える。この設計データ情報は、半導体装置を設計するための上流設計工程の参照設計データ情報（７３）と、下流設計工程において参照設計データ情報に基づいて設計された第１の設計データ情報（７８）とを含む。電源仕様情報は、参照設計データ情報（７３）に対応する第１の電源仕様情報（７４）と、第１の設計データ情報（７８）に対応する第２の電源仕様情報（８２）とを含む。 （もっと読む）

【課題】過度にシステムの中にスキューを増加させずに、増加した数の入力／出力デバイスを有するシステムを提供する。
【解決手段】論理回路を備えるコアと、処理コアからおよび処理コアへ信号を伝送するための、複数のインターフェースデバイスであって、２つのタイプのインターフェースデバイスを備える、複数のインターフェースデバイスと、コアに電力を送達するための、電力インターフェースデバイスである、１つのタイプと、コアと集積回路の外部のデバイスとの間で、データ信号を伝送するための信号インターフェースデバイスである、第２のタイプと、を備え、複数のインターフェースデバイスは、コアの外縁に向かう外側列、およびコアの中心により近い外側列の内側にある内側列の、２列に配設され、内側列は、２つのタイプのインターフェースデバイスのうちの一方を備え、外側列は、２つのタイプのインターフェースデバイスのうちの他方を備える、集積回路が開示される。 （もっと読む）

【課題】 出力端子から出力される電圧値に応じて複数種の中から選択される耐圧に設定される集積回路装置等の提供すること。
【解決手段】 第１の耐圧を有する第１の出力トランジスター構造Ｔｒ＿Ｍ１，Ｔｒ＿Ｍ２と、第１の耐圧よりも高い第２の耐圧を有する第２の出力トランジスター構造Ｔｒ＿Ｈ１，Ｔｒ＿Ｈ２とが形成された半導体基板に、マスクを変えて配線して所定の耐圧に設定される集積回路装置である。配線により第１の耐圧が選択されると、第１，第２の出力トランジスター構造の双方が出力端子ＯＵＴと接続され、第２の出力トランジスター構造は、ダイオード接続されて静電気保護素子Ｄ１，Ｄ２を形成する。配線により第２の耐圧が選択されると、第１の出力トランジスター構造は出力端子ＯＵＴに非接続とされ、第２の出力トランジスター構造が出力端子ＯＵＴと接続される第２耐圧出力段トランジスターを形成する。 （もっと読む）

【課題】マルチプレクサとクロック分割回路との間における相互の電源ノイズの影響を低減する。
【解決手段】外部クロック信号ＣＫに基づいて内部クロック信号ＬＣＬＫ１を生成するＤＬＬ回路１００と、内部クロック信号ＬＣＬＫ１に基づいて、互いに位相の異なる内部クロック信号ＬＣＬＫ２，ＬＣＬＫ２Ｂを生成するクロック分割回路２００と、内部データ信号ＣＤ，ＣＥに基づいて、クロック信号ＬＣＬＫ２，ＬＣＬＫ２Ｂにそれぞれ同期した内部データ信号ＤＱＰ，ＤＱＮを出力するマルチプレクサ３００とを備える。クロック分割回路２００に供給される内部電源電圧ＶＰＥＲＩ２とマルチプレクサ３００に供給される内部電源電圧ＶＰＥＲＩ３は、互いに異なる電源回路８２，８３によって生成され、且つ、該半導体装置内で分離されている。これにより、相互にノイズの影響を及ぼし合うことがなくなる。 （もっと読む）

【課題】並列駆動構成のＩ／Ｏバッファから出力される信号を安定化し、信頼性を向上する。
【解決手段】Ｉ／Ｏセル２は、１つの出力信号を正転信号と反転信号からなる相補信号として出力する相補型Ｉ／Ｏセルからなり、２つのＩ／Ｏセル２が並列接続された構成からなる。２つのＩ／Ｏセル２の出力部となるインバータ６の出力部は、配線１７によってそれぞれ接続されており、２つのＩ／Ｏセル２の出力部となるインバータ７の出力部は、配線１８によってそれぞれ接続されている。配線１７は、Ｉ／Ｏセル２の下辺側に２つのＩ／Ｏセル２を横断するように形成され。配線１８は、該配線１７の上方に形成されており、２つのＩ／Ｏセル２を横断するように形成されている。また、配線１７の配線長と配線１８の配線長は、略同等となるようにレイアウトされている。 （もっと読む）

【課題】回路規模を増大させることなくトランジスタの閾値電圧に応じた制御電圧を精度良く生成することが可能な制御電圧生成回路を提供すること。
【解決手段】本発明にかかる制御電圧生成回路は、高電位側電源と低電位側電源との間に直列に接続された同一導電型の複数のＭＯＳトランジスタを有し、何れかのＭＯＳトランジスタのドレイン電圧を参照電圧Ｖｐ１として生成する参照電圧生成部１１と、高電位側電源と低電位側電源との間に直列に接続され参照電圧生成部１１と同一導電型の複数のＭＯＳトランジスタを有し、何れかのＭＯＳトランジスタのゲートに参照電圧が供給され、何れかのＭＯＳトランジスタのドレイン電圧を制御電圧（バイアス電圧）として出力する電圧変換部１２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】低消費電力かつ低占有面積で、パッケージ実装後においてもプログラムを行なうことができるヒューズ素子を備えるヒューズプログラム回路を実現する。
【解決手段】ヒューズプログラム回路（ＦＰＫ１−ＦＰＫｎ）において、ヒューズ素子ＦＳを、多層メタル配線の第３層以上のメタル配線（Ｍ（ｉ））を用いて実現する。各ヒューズプログラム回路において、スキャンフリップフロップ（ＦＳＳＲおよびＰＳＲ）を用いてプログラム情報およびヒューズ選択情報を順次転送して、選択的に、１本ずつヒューズを電気的に切断する。 （もっと読む）

【課題】結晶化半導体薄膜に対して適正かつ効率的なフォトマスクの作成を可能にする。
【解決手段】１実施形態に係る設計ライブラリデータベースは、２次元的に区画して各々薄膜トランジスタのチャネル領域のサイズを超える複数の結晶粒規定領域が配置された結晶化半導体薄膜を用いる薄膜トランジスタ回路の設計ライブラリデータベースであって、各々のチャネル領域が単一の前記結晶粒規定領域内の固定位置に配置される２個以上の薄膜トランジスタおよび前記２個以上の薄膜トランジスタを相互接続する配線を含む様々な論理ゲート回路をそれぞれ表す複数のスタンダードセル、並びに前記様々な論理ゲート回路の様々な組み合わせをそれぞれ表す複数のマクロセルの少なくとも一方のセルのライブラリ、および前記複数の結晶粒規定領域が配置された結晶化アレイパターンのスタンダードセルのライブラリを含みハードディスクに登録される。 （もっと読む）

【課題】チップの設計期間を短縮する。
【解決手段】ＣＰＵ１は、設計対象の回路を構成するセルのうち、所定のサイズより大きいセルサイズを有するセルのみの回路情報をゲートレベルで記述した簡易ネットリスト４３と、所定のサイズより大きいセルサイズを有するセルのみの仕様データを含むセルリスト４４とを用いてフロアプランを行い、仮フロアプランデータ４７を生成する。ＣＰＵ１は、ユーザによって回路全体のフロアプランが行われるときに、回路を構成するセルの仕様データである全体ライブラリ４２と、回路を構成するセルの回路情報をゲートレベルで記述した全体ネットリスト４５と、仮フロアプランデータ４７と、簡易ネットリスト４３を全体ネットリスト４５に整合させるためのセルリスト４４とを出力する。 （もっと読む）

【課題】従来のヒューズ制御回路よりも回路規模が低減されたヒューズ制御回路、照度センサ、近接センサ、携帯電話、デジタルスチルカメラ、および電源回路を提供する。
【解決手段】ヒューズ制御回路１は、ヒューズ溶断回路２がヒューズ素子Ｆ１に電流を流すとき、ノードＢとヒューズ溶断検知回路３とを切断するとともに、ヒューズ溶断回路２がヒューズ素子Ｆ１に電流を流さないとき、ノードＢとヒューズ溶断検知回路３とを接続する分離用素子４を備える。 （もっと読む）

【課題】異電源ドメイン間におけるタイミング収束性が改善された回路設計を容易に行うことができる多電源集積回路設計装置の提供。
【解決手段】回路構成情報および電源構成情報に基づいて、異電源ドメインと接続するデータパスに対し、最初および最後に接続される同期式フリップフロップである境界ＦＦの少なくともいずれかを抽出して、境界ＦＦデータとして出力する境界ＦＦ抽出部と、回路構成情報および境界ＦＦデータに基づいて、境界ＦＦに接続されたクロックラインに配されたバッファを抽出し、入力を分岐させて当該分岐を入力とする新たなバッファを追加するバッファ追加部と、境界ＦＦが新たなバッファに接続されるようにクロックラインを繋ぎ換えるように、回路構成情報を変更して、変更された回路構成情報のデータを出力するクロックライン再構成部と、を有する多電源集積回路設計装置。 （もっと読む）

【課題】 異なったＬＶＴＴＬ Ｉ／Ｏ規格に対して互換性を持つように集積回路の各Ｉ／Ｏを個別に再構成する回路を提供する。
【解決手段】 上述課題は１つのＩ／Ｏ電源電圧のみを用いて達成でき、この電圧は特定の用途に要求されるＩ／Ｏ電圧のうち最も高いものである。回路はＩ／Ｏセルの出力電圧を、適合されるべきＬＶＴＴＬ規格のＶＯＨよりも高く最高ＶＩＨよりも低くなるように調節することによって動作する。Ｉ／Ｏセルは、Ｉ／Ｏ電源電圧とパッドの間に接続されるプルアップトランジスタと、該パッドの電圧と対応の規格に応じた基準電圧とを差動増幅する差動増幅器と、差動増幅器の出力信号と出力制御信号とにプルアップトランジスタを選択的にオン状態とするロジックゲートを備える。各Ｉ／Ｏセルは別個に再構成可能であるため、任意のＩ／Ｏを任意のＬＶＴＴＬ仕様に適合させることができる。 （もっと読む）