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Fターム[5F088BA01]の内容

受光素子−共通事項、放射線検出 (20,668) | 目的、効果(コストダウンは除く) (3,343) | 感度向上(量子効率向上) (290)

Fターム[5F088BA01]に分類される特許

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【課題】 検出素子の支持体としてマイクロエアブリッジ構造体を有し、感度の向上、特性劣化の改善、チッピング不良の改善を図った熱型赤外線検出装置、およびその製造方法を得る。
【解決手段】 熱型赤外線検出装置のセンサ部は、SOI基板27上にICPドライエッチングプロセスによってマイクロエアブリッジ構造体11を形成し、その活性領域12に複数のpn接合ダイオードからなる半導体ダイオード部18を形成し、その上面に金属反射膜15および赤外線吸収層14を順に設ける。前記金属反射膜15は、pn接合ダイオードの特性劣化の改善のためのアニール時の発熱体として用いると共に、照射赤外線を前記赤外線吸収層13に集光して感度を高める反射膜としても使用する。また前記センサ部を有するウェハの切断線上の配線には基板内部に設けた拡散抵抗配線33、34を用い、金属薄膜による配線を追放することで切断時のチッピング不良を解決する。 (もっと読む)


【課題】電圧印加電極と光導電層の界面に整流特性を持たせ、感度を損なうことなく暗電流を低減することが可能であって、界面での剥離の問題を解消することが可能な放射線検出器を提供する。
【解決手段】バイアス電圧が印加される電圧印加電極13と、放射線の照射を受けて電荷を発生する、a−Seからなる記録用光導電層14と、キャリア収集電極17と、記録用光導電層14において発生した電荷を蓄積する蓄電部および該蓄電部に蓄積された電荷信号を読み出すスイッチ素子20とをこの順に積層してなる放射線検出装置において、記録用光導電層14と電圧印加電極13との間に、膜厚が0.01μm以上1μm未満、比抵抗が1012Ωcm以上、熱膨張係数が6×10−6〜1.5×10―4/℃の有機樹脂誘電体層16を設ける。 (もっと読む)


【課題】光ファイバ又は光導波路と云った光導波部品からの出射光、又は光導波部品への入射光の光路のバラツキの抑制と結合効率の向上、及び安価に製造可能な光接続装置とその光接続装置の実装方法の提供。
【解決手段】複数の光ファイバと、光ファイバ先端を包む樹脂モールド部とから光接続装置を構成し、各光ファイバの先端はカットすると共に、各光ファイバを互いのコアの軸が平行となるように配列し、更に樹脂モールド部の樹脂を光ファイバのコアと同一屈折率材料にすると共に、樹脂モールド部に反射面を成型し、光ファイバ先端と反射面とを離間する。更に、反射面を前記コアの軸の方向に対して0度<θ<90度の範囲で形成し、反射面に反射膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】最低利得を保障できる軸ズレ入射角範囲が広い受光デバイスを提供する。
【解決手段】光が入射する入力面5と、入力面5に対向し入力面5よりも狭い面積を有する出力面6と、入力面5から出力面6に亘り設けられ、その内周面8が入力面5から入射した光を反射させる側面部とを有する集光体10と、出力面6から出射される光を受光する検出部4とを備える。そして、集光体10の内周面8の形状は、出力面6の中心線3に対する内周面8の傾斜角11が、出力面6から入力面5に向かうにしたがって単調減少する部分を、少なくとも出力面6よりも入力面5に近い側に有した形状である。 (もっと読む)


【課題】 量子ドット光半導体素子に関し、光吸収用量子ドットのサイズを変更することなく、キャリアの捕獲効率を高める。
【解決手段】 第1の量子ドット1による層から中間層3を隔てて、第1の量子ドット1より横幅が大きく第1の量子ドット1のキャリアに対するエネルギーポテンシャルよりも高いエネルギーポテンシャルを持つ第2の量子ドット2による層を配置し、第1の量子ドット1による層と第2の量子ドット2による層の間隔が第1の量子ドット1の歪みの影響により中間層3の格子間隔が変化している範囲以内とする。 (もっと読む)


【課題】 レンズ媒体の外周部に反射鏡を用いることなく、有効にLED等の光源の迷光成分等を集光し、所望の照度を得ることが可能な非球面レンズを提供する。
【解決手段】 外側頂部3、底部及び光軸に平行方向の側面からなる外周部を有するバルク型のレンズ媒体4と、この底部から外側頂部3に向かってレンズ媒体4の内部に設けられた収納部6とから構成された砲弾型や卵型等のバルク型レンズ20である。レンズ媒体4の内部に設けられた収納部6の凹部天井部2と凹部側壁部5とが第1のレンズ面(2,5)、レンズ媒体4の外側頂部3が第2のレンズ面3として機能する。収納部6の内部に光源1若しくは光検出器が収納される。 (もっと読む)


【課題】光軸方向における光素子の位置を精密に調整することのできる光モジュールの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明にかかる光モジュール100の製造方法は、光素子30を備える光モジュールの製造方法であって、ベース部12と、当該ベース部上に設けられた枠部14とを有する筐体10を準備する工程と、シール部材20を、枠部の上面の一部に設ける工程と、光素子を、ベース部の上方に設ける工程と、枠部の内側および枠部の上面の一部の領域を覆う形状の蓋部材を、シール部材を介して筐体に固定する工程と、を含み、蓋部材固定用治具は、前記蓋部材に対向する第1の部分と、前記枠部の上面の他の一部に対向しかつ上面の高さが前記第1の部分より高い第2の部分とを有し、当該工程では、前記第1の部分によって前記蓋部材を押圧しながら、前記第2の部分を前記枠部の上面に押し当てることにより前記蓋部材の押圧を制限する。 (もっと読む)


【課題】広い温度範囲で高感度の光検知を行うことを可能とする。
【解決手段】埋め込み層16と、埋め込み層16によって埋め込まれた量子ドット15aと、を有する量子ドット構造15と、動作時に、量子ドット構造15に対して垂直方向に流れる電子の量子ドット構造15下流側に、埋め込み層12,14と、禁制帯幅が埋め込み層12,14よりも小さい量子井戸層13aを有する量子井戸構造13が形成されることで、光検知部10aの電子が超えなくてはならない電位障壁の温度依存性が小さくなり、埋め込み層14の高温時の電位障壁が低下する。 (もっと読む)


【課題】センサのリーク電流を減らし、信号強度を上げるためのバリア層の膜厚に関して、信号出力強度への影響と、より最適な範囲を明らかにし、従来よりも出力信号が大きい赤外線センサ構造を提供すること。
【解決手段】GaAs基板10上に形成された、n型ドーピングされたInSb層11と、該InSb層11上に形成された、p型ドーピングされたInSb層(π層)12と、該InSb層12上に形成された、InSb層12よりも高濃度にp型ドーピングされ、かつInSb層11、及びInSb層12よりも大きなバンドギャップを有する材料であるAlxIn1-xSb層13(0<x<1)とを備え、AlxIn1-xSb層13の膜厚が、2nm以上50nm以下である。 (もっと読む)


【課題】蛍光体膜の膜厚が安定した品質を有する放射線画像変換パネルの製造方法の提供、且つ、高感度の放射線画像変換パネル及びそれを用いた放射線検出装置の提供。
【解決手段】放射線を可視光に変換する蛍光体層を有する放射線画像変換パネルの製造法において、該蛍光体層がエアロゾル化室内に充填する前に加熱処理を施した蛍光体原料粒子を基板に高流速のキャリアガスで衝突させて堆積する成膜法(ガスデポジション成膜法(エアロゾル・デポジション成膜法、AD成膜法))を用いて成膜されることを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。 (もっと読む)


【課題】ヘテロ接合を形成する積層構造を有するダイオード型の紫外線センサにおいて、より高い感度を得る。
【解決手段】ZnOを含む酸化物半導体からなる、ZnO層2と、ZnO層2に接するように設けられるものであって、ZnOがNiOに固溶してなる酸化物半導体からなる、(Ni,Zn)O層3と、ZnO層2に電気的に接続される、第1の端子電極5と、(Ni,Zn)O層3に電気的に接続される、第2の端子電極6とを備え、ZnO層2が紫外線7の受光側に位置されるように用いられる。(Ni,Zn)O層3は焼結体からなることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】紫外領域に受光領域を有し、機能層の転位が低減されてなるとともに、受光効率に優れた受光素子を作製する方法を提供する。
【解決手段】サファイア単結晶基材1aの上にAlN層1bを有するテンプレート基板1上に、III族窒化物によって下地層2と機能層3とをMOCVDにて形成することで受光素子10を得る。上端層2cと機能層3とは300nm以下の波長の光を透過させるAlGaNにて形成する。下端層2aは、これよりもAlリッチなAlGaNにて形成する。傾斜組成層2bは、傾斜組成を有し、上下端の組成が上端層2cと下端層2aとに一致するように形成する。下端層2aは、900℃〜1100℃の第1形成温度にて形成し、残りの層は、これに連続して、第1形成温度よりも高い1100℃〜1280℃の第2形成温度にて形成する。Al混晶比が高い機能層3ほど、優れた転位低減効果が得られる。 (もっと読む)


【課題】CdTe材料の放射線感応膜で構成される二次元放射線検出器において、基板に接する側と膜露出側の膜質を均一化し、電荷収集効率を上げ感度向上を図る。
【解決手段】第一の基板2上に放射線感応膜として機能する積層膜を成膜したあと、前記積層膜が露出している膜面に導電性接着層として機能するカーボン厚膜4を介して第二の基板5を貼り付けた後、前記第一の基板2と前記積層膜の内膜質が思わしくない積層膜31を研磨除去して、良好な膜質の積層膜32の膜面を露出させ、該膜面にアクティブマトリクス基板を貼り付けた構造とする。したがって、基板に接する側と膜露出側の膜質を良好で均一なものとすることが可能であり、電荷収集効率を上げ感度向上が期待できる。 (もっと読む)


【課題】光結合効率に優れた光結合素子を提供する。
【解決手段】光結合素子19は、コア部45とクラッド部46とを備える。コア部45は、外径D1の円柱状に形成される。コア部45の両端面には、入射面48及び出射面49を備える。コア部45は、入射面48及び出射面49を結ぶ長さL1の光路を備える。コア部45には、GI型屈折率分布が形成される。クラッド部46は、コア部45の外周に配される。クラッド部46は、コア部45の外周面の屈折率と同一の屈折率を備える。この光結合素子19が、(式1)光路長L1=2π/A0.5、(式2)A=2(N1−N2)/(N1×R1)を満足する。入射面48から入射した光は、コア部45内で集光される。コア部45内で集光された光は、出射面49から出射する。この光結合素子19は、優れた光結合効率を発揮することができる。 (もっと読む)


【課題】高度な量子効果により高感度で赤外線を検知することができ、室温近くの温度条件下においても動作させることが可能な量子型赤外線センサを提供すること。
【解決手段】中心細孔直径が1.5〜5.0nmであるメソ多孔体11と、メソ多孔体11の細孔内に配列された波長3〜15μmの光に対する屈折率が1.7〜2.1の範囲にある金属酸化物12と、金属酸化物12に電気的に接続されている電極13とを備えること特徴とする量子型赤外線センサ。 (もっと読む)


【課題】レンズ媒体の外周部に反射鏡を用いることなく、有効にLED等の光源の迷光成分等を集光し、所望の照度を得ることが可能な非球面レンズを提供する。
【解決手段】外側頂部3、底部及び光軸に平行方向の側面からなる外周部を有するバルク型のレンズ媒体4と、この底部から外側頂部3に向かってレンズ媒体4の内部に設けられた収納部6とから構成された砲弾型や卵型等のバルク型レンズ20である。レンズ媒体4の内部に設けられた収納部6の凹部天井部2と凹部側壁部5とが第1のレンズ面(2,5)、レンズ媒体4の外側頂部3が第2のレンズ面3として機能する。収納部6の内部に光源1若しくは光検出器が収納される。 (もっと読む)


【課題】 R、G、B各々異なる波長の光であっても、発生するキャリアの数を増やして、高い光電効率を有する半導体装置を提供する。
【解決手段】 平面に整列配置され、入射された光の光電変換を行う複数の素子部11B、11G、11Rと、素子部11B、11G、11Rの表面を保護する保護膜12とを有し、各々の素子部11B、11G、11Rへの光の入射強度が最大となるように、光電変換を行う光の波長に応じて、保護膜12を各々異なる膜厚に形成した半導体装置。 (もっと読む)


【課題】高いバイアス電圧を印加することなく、応答速度の低下を回避しつつ光感度の向上が図れる光検出素子を提供することを目的とする。
【解決手段】表面S1aと入射光を検出する光検出領域14aとを有しており光検出領域14aが平面視で光入射方向からみて表面S1aの中央部に設けられたフォトダイオード1aと、表面S1bと入射光を検出する光検出領域14bとを有しており光検出領域14bが平面視で光入射方向からみて表面S1bの中央部に設けられたフォトダイオード1bと、光を反射する反射面39aを有する反射部39とを備え、フォトダイオード1a、フォトダイオード1b及び反射部39は、光検出領域14a、光検出領域14b及び反射面39aが所定の光入射方向に対し重なるように順に配置され、フォトダイオード1aとフォトダイオード1bとは、電気的に並列接続されている。 (もっと読む)


【課題】高感度の光センサを構成する。
【解決手段】透明基板23と、前記透明基板に形成されて前記透明基板の受光側面を介し
て入射された光を受光するPIN型ダイオード17と、前記透明基板の受光側面とは反対
側の面側に設けられて、前記透明基板を通過した光を前記PIN型ダイオードに反射させ
る反射部18と、を具備し、透明基板の受光側面から入射する光の大部分をPIN型ダイ
オードに入射させて、高感度の外光検出が可能にしたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】損失を低減して結合効率を向上させることができる光電気複合基板、及び当該光電気複合基板を備える電子機器を提供する。
【解決手段】光電気複合基板10は、内部に光導波路16が形成された基板11と、基板11の表面11a側に形成されたプリント配線12及び薄型光素子13とを備える。薄型光素子13は、表面に電極が形成されており、少なくとも裏面から光の入出力が可能であって、裏面を基板11の表面11aに密着させて基板11上に搭載されている。プリント配線12は、薄型光素子13の厚みと同程度の厚みの第1配線18と、第1配線18よりも厚みのある第2配線19とからなり、第1配線18と薄型光素子13の電極とが金属配線20により接続されている。 (もっと読む)


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