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Fターム[5F092FA09]の内容

ホール/MR素子 (37,442) | 実装 (377) | 磁気遮蔽部材を有するもの (82)

Fターム[5F092FA09]に分類される特許

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【課題】半導体集積回路の内蔵メモリとしてのMRAMへの不正アクセスに対する保護を改善すること。
【解決手段】半導体集積回路(10)は、プロセッサ(1)と不揮発性メモリ(3)とを具備する。不揮発性メモリ(3)は、複数の磁気ランダムアクセスメモリセルと、複数の磁気リードオンリーメモリセルとを含む。複数の磁気ランダムアクセスメモリセルはプロセッサ(1)による通常書き込みによって書き換えが可能とされ、複数の磁気リードオンリーメモリセルはプロセッサ(1)による通常書き込みによって書き換えが不可能とされる。不揮発性メモリ(3)と接続された感知回路(2)は、不揮発性メモリ(3)の不正アクセスによる複数の磁気リードオンリーメモリセルの状態遷移を感知する。状態遷移に応答して、感知回路(2)は不正アクセスの検出結果をプロセッサ(1)に通知する。 (もっと読む)


【課題】抵抗変化素子を備える半導体装置(半導体チップ)のチップ面積を削減すること。
【解決手段】半導体装置(1)は、半導体基板(50)上に形成されたトランジスタ(71)を含む下層回路(70)と、半導体基板(50)の上方の配線層(60)に形成されたメモリセルアレイ(20)と、を備える。メモリセルアレイ(20)の各メモリセル(MC)は、配線層(60)に形成された抵抗変化素子(40)を記憶素子として備る。メモリセルアレイ(20)は、メモリセル(MC)の直下に当該メモリセル(MC)との電気的接続用のビアが形成されていない第1領域(RF)を有している。下層回路(70)は、第1領域(RF)の少なくとも一部とオーバーラップするように配置されている。 (もっと読む)


【課題】読み取り素子のための空間の大きさを縮小することによって、磁気シールドの大きさおよびシールド間の利用可能な空間の大きさを最小化する。
【解決手段】空気ベアリング面(ABS)148に対して設置されたデータ読み取りスタック132は、第1のバッファ層142と第2のバッファ層142との間に取り付けられ、少なくとも一方のバッファ層は、データ読み取りスタックに所定の短絡比を付与する。 (もっと読む)


【課題】外部磁場が半導体チャンネルに侵入することに起因するノイズやエラーを抑制することが可能なスピン伝導素子を提供すること。
【解決手段】磁気抵抗を利用したスピン伝導素子1は、スピンを半導体チャンネルに注入するための第一強磁性体12Aと、スピンを半導体チャンネルから抽出するための第二強磁性体12Bと、第一強磁性体12Aから第二強磁性体12Bまで延びる半導体チャンネル7と、第二強磁性体12B、及びあるいは、半導体チャンネル7を覆う磁気シールドS1と、第二強磁性体12B、及びあるいは、半導体チャンネル7と磁気シールドS1との間に設けられた絶縁膜と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】安定した動作が可能な磁気記憶素子及び不揮発性記憶装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、第1、第2積層部を含む磁気記憶素子が提供される。第1積層部は、第1強磁性層/第1非磁性層/第2強磁性層を含む。第1強磁性層の磁化は面直に固定され、第2強磁性層の磁化方向は面直に可変である。第2積層部は、第3強磁性層/第2非磁性層/第4強磁性層を含む。第3強磁性層の磁化方向は面内方向に可変であり、第4強磁性層の磁化は面直に固定されている。第3強磁性層の位置での第1、第2、第4強磁性層からの漏れ磁界Hs、第3強磁性層の磁気異方性Ku、ダンピング定数α、磁化Ms及び反磁界係数Nzは、Ku≦αMs(8πNzMs−Hs)を満たす。電流によりスピン偏極した電子と、第3強磁性層で発生する回転磁界と、を第2強磁性層に作用させ、第2強磁性層の磁化方向を決定できる。 (もっと読む)


【課題】安定した動作が可能な不揮発性記憶装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、磁気記憶素子と制御部とを備えた不揮発性記憶装置が提供される。磁気記憶素子は積層体を含む。積層体は第1積層部と第2積層部とを含む。第1積層部は、磁化が固定された第1強磁性層と、磁化の方向が可変の第2強磁性層と、第1強磁性層と第2強磁性層との間に設けられた第1非磁性層と、を含む。第2積層部は、積層方向に沿って第1積層部と積層される。第2積層部は、通電される電流によって磁化が回転して発振が生じる第3強磁性層と、磁化が固定された第4強磁性層と、第3強磁性層と第4強磁性層との間に設けられた第2非磁性層と、を含む。制御部は、第2強磁性層の磁化の向きに応じた第3強磁性層の発振の周波数の変化を検出することで、第2強磁性層の磁化の向きを読み出す読み出し部を含む。 (もっと読む)


【課題】書き込み電流の低減およびリテンション特性の向上を図る。
【解決手段】磁気抵抗効果素子は、磁化方向が膜面に対して垂直でかつ可変である第1磁性層31と、前記第1磁性層上に形成されたトンネルバリア層32と、前記トンネルバリア層上に形成され、磁化方向が膜面に対して垂直でかつ不変である第2磁性層40と、を具備する。前記第2磁性層は、垂直磁気異方性の起源となる本体層34と、前記トンネルバリア層と前記本体層との間に形成され、前記本体層よりも高い透磁率を有し、前記本体層よりも大きい平面サイズを有する界面層33と、を備える。前記本体層の側面に、前記本体層よりも高い透磁率を有するシールド層90が形成されている。 (もっと読む)


【課題】磁気抵抗効果素子間の磁気的な干渉作用を遮断し、安定した動作を可能にし、且つ、容易に製造することができる半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態にかかる半導体記憶装置は、半導体基板上にマトリックス状に配列した複数の磁気抵抗効果素子を有し、各磁気抵抗効果素子は、半導体基板上に形成された第1の磁性層と、第1の磁性層上に形成された非磁性層と、非磁性層上に形成された第2の磁性層とからなる積層構造を有し、隣り合う各磁気抵抗効果素子の間には、金属、又は、磁性体材料が分散された絶縁膜が埋め込まれている。 (もっと読む)


【課題】アセンブリ段階において外部磁場から磁気メモリチップを保護する。
【解決手段】主面に磁気メモリ素子および複数のワイヤボンドパッドが形成された磁気メモリチップを準備する。シリコンより高透磁率を有する第1の磁気シールド板を磁気メモリチップの主面に搭載する。磁気メモリチップをリードフレームのダイパッド上に搭載しダイアタッチフィルムにより接着する。磁気メモリチップのワイヤボンドパッドとリードフレームのリードとをワイヤで電気的に接続する。磁気メモリチップ、磁気シールド板、ワイヤ及びリードの一部を樹脂により封止する。複数の磁気メモリチップを有するシリコンウェハを準備し、シリコンウェハの裏面を研削することによりシリコンウェハを所定の厚さまで薄くしてダイアタッチフィルムを張り付けた後にシリコンウェハをダイシングして各々がダイアタッチフィルムをその裏面に有する複数の磁気メモリチップを形成する。 (もっと読む)


【課題】不要な磁束から磁気抵抗素子を保護し、磁気読出しを高めることが可能な磁気シールドを提供する。
【解決手段】磁気素子190は、少なくとも1つの横側方シールド206によって、磁束からシールドされるとともに所定の初期磁化にバイアスされる、磁気的に応答する積層体192を有し、少なくとも1つの横側方シールドは、第1および第2の強磁性層210、212の間に配置される遷移金属層208を有する。 (もっと読む)


【課題】読み出し時の誤書き込みを抑制する磁気素子及び不揮発性記憶装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、第1導電層と、第2導電層と、中間配線と、第1積層部と、第2積層部と、を備えた磁気素子が提供される。中間配線は、第1導電層と第2導電層との間に設けられる。第1積層部は、第1導電層と中間配線との間に設けられる。第1積層部は、第1方向に磁化が固定された第1強磁性層と、第1強磁性層と積層され、磁化の方向が可変である第2強磁性層と、第1強磁性層と第2強磁性層との間に設けられた第1非磁性層と、を含む。第2積層部は、第2導電層と中間配線との間に設けられる。第2積層部は、磁化の方向が可変である第3強磁性層と、第3強磁性層と積層され、第2方向に磁化が固定された第4強磁性層と、第3強磁性層と第4強磁性層との間に設けられた第2非磁性層と、を含む。 (もっと読む)


【課題】書き込み時における磁化反転がより高速に起こる磁気記録素子及び不揮発性記憶装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、積層体を備えた磁気記録素子が提供される。積層体は第1積層部と第2積層部とを含む。第1積層部は、膜面に対して垂直成分を有する第1の方向に磁化が固定された第1の強磁性層と、磁化の方向が膜面垂直な方向に可変である第2の強磁性層と、第1の強磁性層と第2の強磁性層との間の第1の非磁性層と、を含む。第2積層部は、積層軸に沿って第1積層部と積層される。第2積層部は、磁化の方向が膜面平行な方向に可変である第3の強磁性層と、膜面に対して垂直成分を有する第2の方向に磁化が固定された第4の強磁性層と、第3の強磁性層と第4の強磁性層との間の2の非磁性層と、を含む。積層軸を法線とする平面において、第4の強磁性層の外縁は第1積層部の外縁よりも外側の部分を有する。 (もっと読む)


【課題】優れたピンニング強度およびMR比を呈するTMRデバイスを提供する。
【解決手段】本発明のTMRデバイスは、シールド層と、シード層と、反強磁性層と、プラズマ処理部分を含む第2の反平行層と、4Åの厚さを有するルテニウム層と、CoFex 層と、第1の反平行層と、トンネルバリア層と、磁気フリー層と、キャップ層とを順に備える。ここでシールド層は、その磁化容易方向に沿って磁化されており、磁気フリー層は、その磁化困難軸方向に沿って磁化されている。 (もっと読む)


【課題】隣接するビット線同士の短絡が抑制されており、かつ層間絶縁膜が平坦に研磨された半導体装置を提供する。
【解決手段】磁気抵抗素子MRDが複数配置されたメモリセル領域と、平面視においてメモリセル領域の周囲に配置された周辺回路領域とを備える。磁気抵抗素子MRDは、磁化固定層と磁化自由層とトンネル絶縁層とを含んでいる。磁気抵抗素子MRDの上方には、主表面に沿った方向に向けて延びる複数の第1の配線BLを有している。上記周辺回路領域には、第1の配線BLと同一レイヤにより構成される第2の配線BL2と平面視において重なるように、磁化自由層と同一材質の層、トンネル絶縁層と同一材質の層および磁化固定層と同一材質の層が積層された積層構造DMMが配置されている。積層構造DMMは、周辺回路領域にて平面視において隣接する1対の第2の配線BL2の両方と重ならない。 (もっと読む)


【課題】 磁性パターンを有する被検知物を磁気抵抗効果素子から微小距離離間させた非接触状態において、感度良く被検知物の磁性パターンを検出する磁気センサ装置を得る。
【解決手段】 被検知物が搬送される搬送路に平行に第1の磁石と第2の磁石とは磁極の異極同士が対向配置され、前記搬送路における搬送方向の磁界強度と第1の磁石と第2の磁石の対向方向における強度変化が零点を含んだ勾配磁界を形成し、前記搬送路と前記第1の磁石との間に設けられた磁気抵抗効果素子と、この磁気抵抗効果素子を包囲し樹脂で覆った多層基板を備え、前記磁気抵抗効果素子は前記勾配磁界の搬送方向の磁界強度の零点付近の弱磁界強度領域に設けられ、前記被検知物は前記勾配磁界の強磁界強度領域を通過する。 (もっと読む)


【課題】半導体チップを磁気シールド層で被覆しても、バンプを狭いピッチで配置することができるようにする。
【解決手段】半導体チップ100は磁気記憶素子10を有しており、かつ第1面に電極パッドを有している。磁気シールド層400は、少なくとも電極パッドが露出した状態で半導体チップ100を被覆している。半導体チップ100は、バンプ310を介して配線基板200に実装されている。半導体チップ100と配線基板200は、少なくとも一方が凸部を有しており、当該凸部上にバンプ310が設けられている。 (もっと読む)


【課題】演算増幅器、トランジスタ、コンデンサなどのような他の構成要素の内の1つ又はそれ以上を、磁気センサーと同じチップの一部として有する単一チップ設計、特に、チップ上に配置されているセット/リセットドライバー回路を有する設計を提供する。
【解決手段】磁気感知装置と、それを作成する方法及び使用する方法とが開示されている。感知装置は、1つ又は複数の磁気抵抗感知要素と、磁気抵抗感知要素を調整するための1つ又は複数の向き変え要素と、向き変え要素を制御するためのドライバー回路を有する半導体回路と、を有している。磁気抵抗感知要素、向き変え要素、及び半導体回路は、単一のパッケージ内に配置されており、及び/又は単一のチップ上にモノリシックに形成されている。 (もっと読む)


【課題】微小領域からの磁束が検出可能な構造において、量産に適しなおかつ出力を向上することが可能な磁気センサを提供する。
【解決手段】磁気センサ1は、チャンネル7中に第一領域、第二領域、及び、第三領域を有し、第一方向に延びる主チャンネル層7aと、第一領域上に積層された第一強磁性層12Aと、第二領域上に積層された第二強磁性層12Bと、主チャンネル層7aにおける第一領域と第二領域との間の第三領域の側面から主チャンネル層7aの厚み方向と垂直な方向に突出する突出チャンネル層7bと、突出チャンネル層7bの厚み方向の両側、及び、突出チャンネル層7bの第一方向の両側を覆い、かつ、突出チャンネル層7bの突出方向の端面7cを露出させる磁気シールドSとを備える。 (もっと読む)


【課題】書き込みに必要な電流を低減させることができる磁気記録素子および不揮発性記憶装置を提供する。
【解決手段】実施態様によれば、第1積層部と第2積層部とを備えた磁気記録素子が提供される。第1積層部は、膜面に対して垂直な成分を有する第1の方向に磁化が実質的に固着された第1の強磁性層と、磁化の方向が膜面に対して垂直な方向に可変である第2の強磁性層と、第1、第2の強磁性層の間に設けられた第1の非磁性層と、を含む。第2積層部は、磁化の方向が膜面に対して平行な方向に可変である第3の強磁性層と、膜面に対して垂直な成分を有する第2の方向に磁化が実質的に固着された第4の強磁性層と、第3、第4の強磁性層の間に設けられた第2の非磁性層と、を含む。第1の方向は、第2の方向と逆である。 (もっと読む)


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