本発明に係るレーザ発振器およびレーザ加工機は、放電電極（１）を構成する絶縁体板（２１）のレーザガス流方向において下流側に、主冷却管である第１の冷却管（２２
）とは別に第２の冷却管（２３）を設置し、前記第１の冷却管（２２）と前記第２の冷却管（２３）を押さえ部材（２９）を介してバネ（２７）によって絶縁体板（２１）に押圧する構造としたものである。このような構造により、冷却管（２２，２３）と絶縁体板（２１）との温度膨張係数の違いから生じる変形量の違いを吸収することが可能であり、絶縁体板（２１）の応力破壊を防止することができるものである。また、絶縁体板（２１）が単純な形状となりコストが抑えられる。 （もっと読む）

【課題】集積回路リソグラフィのような用途において利用される高ピークパワー短パルス持続時間ガス放電レーザシステム、例えばエキシマ又は他のフッ素ガス放電レーザ、例えばフッ素分子ガス放電レーザシステムを提供する。
【解決手段】高ピークパワー短パルス持続時間ガス放電レーザ出力パルスを供給するための装置及び方法が開示され、これは、パルスストレッチャを含むことができ、これは、出力レーザパルスの一部分を光遅延経路を有する光遅延内に迂回させるレーザ出力パルス光遅延開始光学機器と、光遅延の出力をレーザ出力パルス光遅延開始光学機器に送出するように直列に整列した複数の共焦点共振器とを含むことができる。複数の共焦点共振器は、１２パス４ミラー構成を構成する４つの共焦点共振器を含む。複数の共焦点共振器の各々は、曲率半径を有する第１の凹球面ミラーと、同じ曲率半径を有し、その曲率半径だけ離間している第２の凹球面ミラーとを含むことができる。パルスストレッチャは、第１の共焦点共振器セルを含むことができ、この第１の共焦点共振器セルは、第１の凹球面ミラーの面上の第１の点での出力レーザパルスの部分を含むレーザ出力パルス光遅延開始光学機器からの入力ビームを受光して第１の反射ビームを発生させる曲率半径を有する第１の凹球面ミラーと、同じ曲率半径を有してその曲率半径だけ第１の凹球面ミラーから離間し、第２の凹球面ミラーの面上の第１の点で第１の反射ビームを受光して、第１の凹球面ミラーの面上の第２の点に入射する第２の反射ビームを発生させる第２の凹球面ミラーとを含むことができ、第２の反射ビームは、第１の凹球面ミラーにより第１のミラー上の第２の点から反射されて第１の共焦点共振器セルからの出力ビームを形成し、この第１の共焦点共振器セルは、更に、第１の共焦点共振器セルの出力ビームを第２の共焦点共振器セルの入力ビームとして受光する第２の共焦点共振器セルを含むことができる。この装置及び方法は、ビーム送出ユニットの一部を形成することができ、かつ集積回路リソグラフィ光源又は集積回路リソグラフィツールの一部とすることもできる。この装置及び方法は、複数、例えば２つのパルスストレッチャを直列に含むことができ、かつ空間コヒーレンス測定法を含むこともできる。 （もっと読む）

【課題】ガスレーザー装置の動作方法。
【解決手段】ガスレーザー装置の動作時、特にＣＯ_２レーザーを使用することにより、それぞれ所定のパルス（ＬＰＦ１、ＬＰＦ２、ＬＰＦ３）は、動作段階（ＡＰＨ１、ＡＰＨ２、ＡＰＨ３）において基板の特定の加工位置に偏向され、その後レーザー偏向は、ジャンプ段階（ＳＰＨ１、ＳＰＨ２）において、次の加工位置に調整される。レーザー共振器の冷却のばらつきと、レーザーによって開けられた穴の、加工位置の間の不均等な間隔とそれに対応するジャンプ段階の不均等な長さによる穴品質のばらつきを抑えるため、高周波励起エネルギー（ＲＦ）は、ジャンプ段階（ＳＰＨ１、ＳＰＨ２）の間もレーザー共振器に断続的に印加され、共振器のエネルギーレベルが動作段階（ＡＰＨ１、ＡＰＨ２、ＡＰＨ３）の間とほぼ同じ高さに維持されるようになっている。 （もっと読む）