【課題】容量性負荷に対して階段状の高電圧パルスを与えることができ、段数や各段の電圧変化量、各段の時間幅を様々に変更することが可能な回路を提供する。
【解決手段】駆動回路１Ａは、階段波及び矩形波の何れかを出力端１１から選択的に出力して容量性負荷５２を駆動する回路であって、定電圧ＶＨを供給する高電圧電源４１と、出力端１１と高電圧電源４１との間に直列接続されたＦＥＴ２１と、出力側コイルがＦＥＴ２１のゲートに接続された変圧器２２と、変圧器２２の入力側コイルに容量素子２３を介して接続された入力端１２ａと、定電圧ＶＨより低い定電圧ＶＬを供給する高電圧電源４２と、出力端１１と高電圧電源４２との間に直列接続されたＦＥＴ３１と、出力側コイルがＦＥＴ３１のゲートに接続された変圧器３２と、変圧器３２の入力側コイルに容量素子３３を介して接続された入力端１２ｂとを備える。 （もっと読む）

【課題】単列構成で、パルスレーザ光の１パルス当り又は単位時間当りのエネルギーを抑えながら大きな出力を達成できる極端紫外光源用ドライバレーザを提供する。
【解決手段】このドライバレーザは、レーザ光をターゲットに照射することによりターゲットをプラズマ化して極端紫外光を発生させる極端紫外光源装置において用いられるドライバレーザであって、レーザ媒質としてＣＯ_２を用いて、時間と共に強度が増加するパルスレーザ光を生成する発振段レーザ装置と、発振段レーザ装置から出力されるパルスレーザ光を、時間と共に減少する増幅率で増幅することにより、レーザ光のパルス幅を伸長する少なくとも１つの増幅器を含む増幅段装置とを具備する。 （もっと読む）

【課題】産業アプリケーションに適する全ファイバ型チャープパルス増幅レーザシステムを構築する。
【解決手段】モジュール式超高速パルスレーザシステムは、モジュールとして構築され、個々に予備テストされた構成要素で組み立てられる。個々のモジュールは、発振器、前置増幅器とパワー増幅器ステージ、非線形増幅器、及び伸長器と圧縮器を含む。個々のモジュールは、一般的に単純なファイバスプライスによって接続される。 （もっと読む）

【課題】周期構造のパターニングの自由度を損なうことなく、作成作業時間の短縮化を図ることができる、生産性に優れる周期構造の作成方法および周期構造の作成装置を提供する。
【解決手段】主走査を行う主走査用偏向器５と副走査を行う副走査用偏向器６とを同時に連続的に動作させながら、パルスレーザ光源１の繰返し周波数と主走査用偏向器５の主走査周波数の関係が、整数比の関係か、整数比の関係から一定数を加減した関係になるように保って、レーザ照射スポットをレーザ照射済みスポットの一部を含むようにオーバーラップ位置を制御して二次元的に走査する。 （もっと読む）

【課題】光強度を向上したレーザ装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】第１のレーザと、第２のレーザと、外部共振器と、制御部と、を備えたレーザ装置が提供される。前記第１のレーザは、第１のレーザ光を出射する。前記第２のレーザは、第２のレーザ光を出射する。前記外部共振器は、前記第１のレーザ光と前記第２のレーザ光とが入射される。前記制御部は、前記外部共振器の共振波長を制御して前記第１のレーザ光に共振させ、前記第２のレーザを制御して前記第２のレーザ光を前記外部共振器に共振させる。 （もっと読む）

【課題】 最も硬い結晶面（１１１）面でＣａＦ₂ 結晶をカットし、この結晶面を表面粗さの小さな高精度研磨を行うことにより、潜傷を少なくし、レーザ照射によるＣａＦ₂ 結晶の表面損傷を防止する。そして、Ｐ偏光のフレネル反射率を小さくし、真性複屈折による偏光純度の悪化を防止するＣａＦ₂ 結晶を用いたガスレーザ装置を提供する。
【解決手段】 ガスレーザ装置は、レーザチャンバ１１と、レーザチャンバ１１の一方の側とその反対側に設置された光共振器と、レーザチャンバ内部に封入されたレーザガスと、レーザガスを励起する励起部と、レーザチャンバに設けられ、入射平面がフッ化カルシウム結晶の（１１１）結晶面に平行であり、励起されたレーザガスから発生するレーザ光の入射平面への入射角度は、２４．９°から６８．７３°の角度範囲内であり、フッ化カルシウム結晶が［１１１］軸を中心に回転され、真性複屈折が極小となる領域に設置される２つのウィンドウ１２，１３と、を備える ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】戻り光の光量が所定の光量を超えているか否かを正確に判定できるレーザ加工装置、及びレーザ発振装置を提供すること。
【解決手段】信号用レーザ光を増幅する主増幅部と、増幅したレーザ光Ｌを出射するレーザ出射部の間に設けられ、主増幅部から第１の光路Ｌ１を通って入射されるレーザ光Ｌをレーザ出射部側の第２の光路Ｌ２へ出射する一方で、第２の光路Ｌ２を通って入射される戻り光を第１の光路Ｌ１とは異なる第３の光路Ｌ３へ出射する偏波無依存型の光アイソレータ５０と、光アイソレータ５０から第３の光路Ｌ３へ出射された戻り光を検出し、検出した戻り光の光量に応じた検出信号を出力する受光素子５７と、受光素子５７が出力する検出信号に基づいて戻り光の光量が所定の光量を超えているか否かを判定する制御部を備えた。 （もっと読む）

【課題】汎用的な曲率誤差をもった凸レンズおよび凹ミラーを用いて、０．５ｍｒａｄ以下の平行なレーザビームを実現する。
【解決手段】レーザ出力を取り出す出力鏡と、入射したレーザビームが入射角４５度で反射された後、所定の方向へビームを伝送するように配置された放物面鏡とを備え、位置可変機構によって前記放物面鏡への入射ビーム径に対して出射ビーム径を所定の範囲で可変することが可能であり、前記放物面鏡からの出射ビームによって成される外部光軸方向は前記位置可変機構による位置変化によっても略一定であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レーザ光源装置において、凹面ミラーの簡易な位置決めにより、レーザの出力を良好に維持しつつ、他の光学素子に必要とされる光軸調整マージンを抑制可能とする。
【解決手段】励起用レーザ光を出力する半導体レーザ３１と、励起用レーザ光により励起されて赤外レーザ光を出力するレーザ媒体３４と、赤外レーザ光の波長を変換して高調波のレーザ光を出力する波長変換素子３５と、波長変換素子に対向する凹面３６ａを有し、レーザ媒体とともに共振器を構成する凹面ミラー３６と、凹面ミラーを支持する凹面ミラー支持部６１とを備え、この凹面ミラー支持部は、波長変換素子からのレーザ光を通過させる開口部６１ｂと、波長変換素子からのレーザ光の光軸と直交すると共に、開口部の一端側の周囲に形成されて凹面ミラーの凹面側が当接する外面６１ａとを有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】簡便にパルス光を整形することができるパルス整形装置、パルス整形方法、及びそれを用いた電子銃を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様にかかるパルス整形装置は、パルス光の直交する偏光成分間に時間遅延を与える複屈折素子１２３と、複屈折素子１２３からのパルス光のパルス形状を調整する可変ミラー４０と、複屈折素子１２３から出射したパルス光の直交する偏光成分の一方を他方の偏光成分から取り出すＰＢＳ１２５と、可変ミラー４０によりパルス形状を調整するために、ＰＢＳ１２５によって取り出された一方の偏光成分に応じた測定を行うビームモニタ５５と、を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】高いパルス伸長率と圧縮率を有する生産性の良いファイバチャープパルス増幅器システムを提供することにある。
【解決手段】コア領域と、コアを取り囲む材料クラッド領域と、材料クラッド領域を実質的に取り囲む空気クラッドと、空気クラッドを取り囲む層とを備える偏光保持空気クラッドファイバであって、ファイバの偏光保持動作は、空気クラッドファイバ中に応力誘起複屈折を生成し前記材料クラッド領域の完全に内部に配置され材料クラッド領域により完全に取り囲まれている応力形成領域を組み込むことにより達成される、偏光保持空気クラッドファイバを提供する。 （もっと読む）

【課題】安定したレーザ光を得る。
【解決手段】レーザシステムは、パルスレーザ光を出力するマスタオシレータと、該マスタオシレータから出力された前記パルスレーザ光を増幅する増幅装置と、前記マスタオシレータと前記増幅装置とを制御するコントローラとを備えてもよい。前記マスタオシレータは、励起光を出力するポンピングレーザと、前記励起光によってレーザ発振するシードレーザと、前記シードレーザから出力されたパルスレーザ光を前記励起光によって増幅する増幅器と、前記シードレーザと前記増幅器との間の光路上に設置された少なくとも１つの光シャッタと、を備えてもよい。前記コントローラが、前記光シャッタを通過したパルスレーザ光が前記増幅装置を通過する際に該増幅装置が放電するように、前記光シャッタの開閉と前記増幅装置の放電とを制御してもよい。 （もっと読む）

【課題】ファイバレーザ装置の出力光に含まれる信号増幅光や背景光の検出精度を向上する。
【解決手段】ＴＡＰカプラ１４３は、光増幅ファイバから出射される出力光の一部を分岐して、サンプリング光を抽出し、光ディテクタ１４６は、抽出されたサンプリング光を光電変換して、サンプリング光の光量（強度）に応じた検出信号を生成する。マルチプレクサ２０５は、信号増幅光が出力される期間を含む第１の期間における検出信号である信号光抽出信号、および、第１の期間を除く第２の期間における検出信号である背景光抽出信号を抽出する。本発明は、例えば、ファイバレーザ装置に適用できる。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の安定性を向上する。
【解決手段】光学装置は、レーザ光のビーム伝播経路上に配置された光学モジュールと、前記ビーム伝播経路上に配置され、前記レーザ光のビーム伝播経路を調節するアクチュエータ部と、前記ビーム伝播経路上に配置され、前記ビーム伝播経路を検出する計測部と、 前記計測部によって検出された前記レーザ光のビーム伝播経路の検出結果に基づいて、前記アクチュエータ部を制御する制御部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】導波路型レーザの利得係数が非常に高い場合に、ＡＳＥが発生するが、このＡＳＥの発生を抑え、一方で、レーザ光の発振、増幅には損失を与えない、固体レーザ装置を得る。
【解決手段】導波路型固体レーザ装置の励起媒質１の対向する２辺に施された全反射膜４，５に、レーザ光路２を伝播するレーザ光の入射角に対する反射率依存性を持たせて、レーザ光の最大入射角α以下の範囲の入射角においては、全反射膜４，５の反射率を高い反射率とし、レーザ光の最大入射角αよりも大きい範囲の入射角においては、全反射膜４，５の反射率を低下させることにより、反射時のＡＳＥ光の損失を高くしてＡＳＥの発生を抑制し、一方で、レーザ光には大きな損失を与えることなく、発振、増幅させることができる。 （もっと読む）

【課題】波長変換部から高出力で出力光を出射する際に、出力される高調波のビーム径の変動の少ないレーザ光源装置を提供する。
【解決手段】直線偏光されたレーザ光を出力する基本波レーザ光源と前記レーザ光を波長変換して高調波レーザ光を出力する周期的分極反転構造を有する波長変換部とを備えるレーザ光源装置において、前記直線偏光されたレーザ光のうち前記波長変換部の分極反転方向に垂直な方向と一致する偏光成分のみを通過するように、前記基本波レーザ光源と前記波長変換部との間に前記偏光分離素子を配置するレーザ光源装置。 （もっと読む）

【課題】 高いパルス伸長率と圧縮率を有する生産性の良いファイバチャープパルス増幅器システムを提供することにある。
【解決手段】 短光パルスを発生する種パルス光源、パルスを伸長する伸長器、及び複数の鎖状につながった偏光を保持しているファイバ区分とからなり、その偏光保持ファイバの少なくとも１つは増幅器であるチャープパルス増幅システムにより、課題が達成される。 （もっと読む）

【課題】励起用光源装置の出力を高めた場合であっても蛍光層の発光効率の低下を抑制可能な照明装置を提供する。
【解決手段】本発明の照明装置１０１は、第１の光Ｌａを射出する第１の光源装置１０ａと、第２の光Ｌｂを射出する第２の光源装置１０ｂと、第１の光Ｌａ及び第２の光Ｌｂによって励起される蛍光層４２と、
第１の光Ｌａの少なくとも一部と第２の光Ｌｂの少なくとも一部とが蛍光層４２上において互いに重なりあい且つ蛍光層４２上に形成される第１の光Ｌａのビームスポットのうち光強度が最も大きい第１の高強度領域と蛍光層４２上に形成される第２の光Ｌｂのビームスポットのうち光強度が最も大きい第２の高強度領域とが蛍光層４２上において互いに離間して配置されるように、第１の光Ｌａと第２の光Ｌｂとを蛍光層４２に照射する集光光学系２０と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】レーザ光を効率的に増幅する。
【解決手段】ＥＵＶ光源装置は、レーザ装置と、前記レーザ装置から出力されたレーザ光を入力して所定のターゲット物質に集光し、該レーザ光の集光によって励起した前記所定のターゲット物質から放射した極端紫外光を集光しつつ出力するチャンバと、を備える。レーザ装置は、スラブ型増幅装置と、前記光を出力するマスタオシレータと、前記スラブ型増幅装置から出力された光を増幅する増幅器と、を備える。スラブ型増幅装置は、自由空間軸と導波軸とを有する第１スラブ型増幅器と、前記第１スラブ型増幅器の入力段に配置され、該第１スラブ型増幅器に入力する光の偏光方向および断面形状の少なくとも一方を変換する第１ビーム調節部と、を備える。 （もっと読む）