【課題】従来よりも実用性と一般性に優れたＢ２Ｂ制御システムを提供する。
【解決手段】制御装置は、バッチ反応プロセスを制御するＰＩＤコントローラを実現するカスケード制御実行部６と、反応プロセスモデルを記憶するモデル記憶部１と、モデル調整部７と、反応プロセスモデルを線形近似した伝達関数モデルを用いてＰＩＤコントローラのＰＩＤパラメータを調整する制御パラメータ調整部５とを備える。モデル調整部７は、冷媒入口温度Ｔ_ciの実績データを平滑化して反応プロセスモデルの入力として与え、反応プロセスモデルの出力である反応温度Ｔ_ravの時系列データと反応温度Ｔ_rの実績データとの２乗誤差を算出し、２乗誤差が最小になる、反応プロセスモデルの適応パラメータを非線形最適化により求め、適応パラメータを用いて反応プロセスモデルのモデルパラメータを調整する。 （もっと読む）

【課題】不動作時間が優勢なプロセスループにおいて、および定常状態までのプロセス時間の中でプロセスモデル不一致にされるプロセスループにおいて、ＰＩＤコントローラと同じか優れた制御性を有し、プロセス制御システムの分散コントローラの中で容易に実現できる適応コントローラを提供する。
【解決手段】ＭＰＣ制御モデルを生成するためにプロセスモデルを使用してＭＰＣコントローラアルゴリズムを作成し、ＭＰＣコントローラがオンラインで動作している間にＭＰＣコントローラにダウンロードする。シングルループＭＰＣコントローラに適用可能であり、１または２という制御層付きのＭＰＣコントローラで特に有効であるこの技法により、プロセスモデルを変更し、プロセスの通常の動作中にＭＰＣコントローラを含む適応ＭＰＣ制御ブロック３８を適応させることができる。 （もっと読む）

【課題】簡便で、かつ、わかりやすい形で、フィードバック制御系の制御パラメータをより望ましい状態に調整する。
【解決手段】導出部２０は、ＰＩＤ制御系の制御パラメータを含む制御則に従う目標値と操作量と制御量との関係式に基づいて、目標値と等価であり、操作量の時系列データと制御量の時系列データとの線形結合である一般化出力を導出する。参照モデル設定部２１は、目標値を入力とし制御量を出力とする参照モデルの入力に対する応答が所望のものとなるように、参照モデルの伝達関数を設定する。最適化部２２は、フィードバック制御系における実際の制御量が参照モデルの出力に追従するように、最適化手法を用いて一般化出力における線形結合の各係数を調整することにより、ＰＩＤ制御系の制御パラメータを最適化する。 （もっと読む）

【課題】プロセス制御データを収集するための方法、装置、および製造物品を開示する。
【解決手段】プロセス制御データを収集するための例示的方法は、測定されるパラメータおよび測定サンプリングレートを記述する電子デバイス記述を登録することと、その測定サンプリングレートに基づいてパラメータを測定することと、測定されたパラメータを代表するデータをデータ構造に保存することと、データの要求、データと関連付けられる状態、またはデータと関連付けられるイベントのうちの少なくとも１つに応答して、プロセス制御ネットワークを介して、データ構造内のデータを第１のプロセス制御デバイスに転送させることと、を含む。 （もっと読む）

【課題】下流側に流量変動が発生した場合においても、高応答かつ高精度に圧力制御を行うことができる圧力レギュレータを提供する。
【解決手段】圧力レギュレータ４１は、サーボ弁１１によって、気体供給源１０から供給される気体の等温化圧力容器１３への流入流量を規制し、等温化圧力容器１３内の圧力を一定に保持する。ここで、サーボ弁１１を操作する圧力制御手段（コンピュータ４６）は、圧力計１４で計測した等温化圧力容器１３内の圧力をフィードバック制御する圧力制御系をメインループとし、その内側に、流入流量を制御する流入流量制御系を構成すると共に、圧力微分計１５で計測した等温化圧力容器１３内の圧力微分値に基づいて等温化圧力容器１３における流入流量と流出流量との差である流入出流量差を推定するオブザーバを構成し、推定した流入出流量差を流入流量制御系にフィードバックするモデル追従制御系を構成する。 （もっと読む）

【課題】バッチモデルについて、オンラインバッチ処理の現在の動作状態に関する確かな決定を可能にするバッチモデルおよび分析システムを提供する。
【解決手段】単純で計算上安価な技法を使用して、進行中、現在実行中またはオンラインのバッチ処理から収集されたデータをバッチプロセス用に形成されたバッチモデルと整合させる。このデータ整合技法により、潜在構造射影（ＰＬＳ）および主成分分析（ＰＣＡ）技法といった他の統計処理技法がオンラインバッチデータに適用され、現在実行中のバッチの品質に関する分析が実行できるようになる。これらの分析が、ユーザがバッチモデルに基づいて現時点におけるバッチの品質、およびバッチランの終了時に所望のバッチ出力品質基準に達する可能性を決定できるようにする有用な情報を、バッチオペレータ等のユーザに提供する。 （もっと読む）

【課題】
目標値と目標値の重みをキーボードから入力する必要が無く、局所解からの脱出を容易にし、パラメーターの入力による計算結果のグラフ表示・グラフの変形による最適化結果のパラメーター表示の双方向オペレーションを可能にする最適化シミュレーション技術を提供する。
【解決手段】
初期パラメーターに基づきプログラムは関数の計算をおこない、計算結果をグラフ表示する。プログラムは、ユーザーがグラフをマウスなどのポインティング装置を用いて所望の形状に近づくように変形させることができる機能を持つ。さらにマウスカーソルがグラフのデーター点を通過した回数に応じて最適化に使用する重みを増やす機能を持つ。プログラムは、変形されたグラフのデーター点を目標値として、最適化手法を用いてパラメーターを最適化する。最適化後のパラメーターを初期パラメーターとして上記手順を繰り返し、所望の目標値に近づけていく。 （もっと読む）

【課題】生産量の急変や製品種の変更に対して、その時点で精度の高い需要用役量予測を行い、その予測によって無駄なく必要な用役を供給し、省エネとＣＯ₂削減を行うことを目的とする。
【解決手段】生産設備に必要な用役を供給する用役設備を制御するための指令値を作成するプラント運転監視制御システムにおいて、生産設備で生産される被生産物に与えられるべき時間経過に対する物性値を定めた製造処方と、被生産物の生産開始時刻、生産終了時刻生産量および生産開始時刻から生産終了時刻の間に生産される被生産物の生産量を定めた生産計画に基づいて、時刻経過に対して被生産物を生産するにあたり必要十分な用役の需要量を示した用役需要量パターンを生成する。このように得られた用役需要量パターンを用いて、用役設備に対する指令値を算出し用役設備を制御することを特徴とする。 （もっと読む）

ケミカルループシステム最適化制御システムは、ケミカルループにおいて１つ以上のパラメータを測定するための１つ以上のセンサを備える。センサはケミカルループ内に位置する導管に又はその内部に設置される。センサは、導管内の固体の量を表す１つ以上のデータ信号を生成する。制御システムは、センサと通信を行うデータ取得システムと、データ取得システムと通信を行う制御部とを備える。データ取得システムはデータ信号を受信し、制御部は制御信号を生成する。制御部は、ケミカルループ内に位置する１つ以上のバルブと通信する。バルブはケミカルループ内の固体の流れを調節するように構成されている。
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【課題】制御量を目標値とする、という目標に加えて、制御量を目標値以下若しくは以上とする、または、制御量を極力小さくするという目標を同時に実現する。
【解決手段】プロセスモデルに基づいて、被制御量の変化を予測し、操作量を変化させるモデル予測制御装置１０であって、被制御量の予測式を用いて、被制御量の変化の予測値を算出する予測部１１と、算出した予測値および目標値からの被制御量の超過分を示す変数または目標値からの被制御量の不足分を示す変数の少なくとも一方を含む評価関数を用いて、被制御量が目標値以下となるように、操作量を決定し、被制御量が目標値以上となるように、操作量を決定し、被制御量が目標値となるように、操作量を決定し、被制御量が最小化するように、操作量を決定し、または、被制御量が最大化するように、操作量を決定する操作量決定部１２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】制限フロー構成要素によって生成される圧力低下に基づいて、フロー速度を測定するための流体フロー測定および制御デバイスを提供する。
【解決手段】本発明のデバイスは、流体入り口および流体出口を有する比例フローバルブ１０、ならびにこの比例バルブ１０を調節するためのアクチュエータ１７を備える。この制限フロー要素１５は、この比例フローバルブ１０と連絡状態にある流体入り口および流体出口を備え、制限フロー構成要素の流体入り口と出口との間での圧力低下を生成する。このデバイスはまた、圧力低下を測定するための手段２４，２５、圧力低下に基づいてフロー速度を計算するための手段１６、ならびに測定された圧力低下に応じて比例フローバルブ１０を通じて流体のフローを制御するために圧力低下測定手段２４，２５、およびアクチュエータ１７と連絡する制御手段（示さず）を備える。 （もっと読む）

【課題】 実績ある従来のモデル式を活かし、品質管理における信頼性を維持しながら、予測精度を向上させるプラント制御装置を提供する。
【解決手段】 入出力関係を汎化した所定のモデル式を用いて、複数の入力データから出力データＲを予測するモデル予測手段１０１と、モデル予測手段１０１からの出力データＲを近似データＲ´に補正するＧＭＤＨ補正手段１０２と、を備え、ＧＭＤＨ補正手段１０２は、入力データからＧＭＤＨ手法を用いて補正値を推定する構成としてある。 （もっと読む）

【課題】プロセス制御システムの制御ループタイミングを調整する方法及び装置を提供する。
【解決手段】本方法は、プロセス制御システム内の第１のプロセス制御装置を利用して生成される第１の入力信号を受信する工程と、第１の入力信号が、制御ループの第１の予定時間枠の間に受信されたか否かをプロセス制御システム内で判定する工程と、後に続く入力信号が、後に続く制御ループの予定時間枠の間に受信されるように、第１のプロセス制御装置から受信される後に続く入力信号のタイミングをプロセス制御システム内で調整する工程であって、後に続く入力信号のタイミングは、第１の入力信号が受信された時間に少なくとも基づいている、タイミングを調整する工程と、を含んでいる。 （もっと読む）

方法は、第１の入力データを１又は複数の第１のプロセス制御システムのコンポーネント(２１０〜２１２)から受信するステップ（５０２）を含む。方法はさらに、第２の入力データを１又は複数のプロセス制御システムのコンポーネント(２０２ａ〜２０２ｏ、２０４ａ〜２０４ｎ、２０６ａ〜２０６ｐ、２０８ａ〜２０８ｍ)から受信するステップを含む。さらにまた、方法は、反復プロセスを実行するステップを含み、該ステップは、第１の入力データを用いて少なくとも１つの目標数量への１又は複数の調整を特定するステップ（５０６）と、１又は複数の調整を用いて１又は複数の寄与値を特定するステップ（５０８）と、１又は複数の寄与値及び第２の入力データを用いて、１又は複数の推定される生産収率を特定するステップ（５１０）とを含む。各目標数量は、製造される少なくとも１つの中間製品又は最終製品に関連する。各寄与値は、各最終製品に対する中間製品の寄与に基づく。各推定される生産収率は、製造される中間製品及び最終製品の１つの期待数量に関連する。
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【課題】制御装置の調整パラメータを進行するために使用される連続的にスケジュールされるプロセスモデルパラメータを決定する適応プロセス制御装置を提供する。
【解決手段】状態に基づく適応ＰＩＤ制御装置は、プラントの種々の稼動領域における適応調整を実行するために使用される、適切なプロセスモデルを決定するための新しい技術を使用し、特に、当該の種々のプラント稼動領域または点において連続的にスケジュールされるプロセスモデルパラメータの更新を可能にする、プロセスモデルパラメータ決定技術を使用する。この連続的にスケジュールされるプロセスモデルパラメータ更新方法の使用により、プロセスの稼動領域または稼動点における変更に基づいて実行される適応調整手順中に、当該ＰＩＤ制御装置で使用される調整パラメータ間でのより円滑な遷移が実現されるため、全体的な制御が向上する。 （もっと読む）

【課題】実プラントの特性を精度よく模擬するダイナミックシミュレータを作成することが出来るパラメータ調整装置を提供する。
【解決手段】プラントの複数の制御量と、プラントの運転から与えられる複数の操作量とから、前記操作量の投与の結果として得られる制御量を数学的モデルで演算するダイナミックシミュレータ１１と、実プラント２０で与えた操作量に関連して実測された制御量の実測値と、ダイナミックシミュレータ１１に実操作量を入力して求めた演算値との偏差が小さくなるように、ダイナミックシミュレータ内のパラメータを調整するパラメータ演算装置１４とを備える。 （もっと読む）

多変量モデルを用いて製造工程（バッチ型または連続型）を制御する方法、コントローラ、およびシステムを説明する。従属変数データおよび操作変数データが受信される。従属変数データは、複数のセンサからの非制御工程パラメータの値を代表する。操作変数データは、複数の工程ツールの制御可能工程パラメータの制御または設定点値を代表する。予測動作値、多変量統計量、または両方が、受信したデータに基づいて決定され、製造工程の動作パラメータが、予測スコア、多変量統計量、または両方に基づいて決定される。
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【課題】プロセスモデルのパラメータを変更しシミュレーションを実行した場合、その変更がシミュレーション結果のプラント全域に及ぼす影響を把握しやすいように視覚化し、プロセスモデルのパラメータ調整を支援する装置を提供すること。
【解決手段】実際のプラントに入力されたデータに基づきシミュレーションを実行しながら、前記プラントの出力と前記シミュレーションの結果が一致するようにパラメータを調整するパラメータ調整支援装置において、前記シミュレーションの結果を保存するシミュレーション結果データベースと、前記シミュレーションの結果と前記プラントの出力一致度を時系列的に計算する適合率計算部と、この適合率計算部の計算結果に基づき適合率の変化量を計算し、この計算結果を大きさ順に並べる適合率変化量計算整列部とを有することを特徴とするもの。 （もっと読む）

【課題】低速な走査サイクルを用いる制御システムは、補償制御信号を生成するコントローラと測定デバイスとの間の往復通信時間よりも継続時間が短い高周波プロセス変動に対して補償することができない。
【解決手段】測定デバイスは、比較的に高い周波数でプロセス変数を測定し、測定されたデータの一部（たとえば、低周波数データ）を標準コントローラへ送信する。この標準コントローラは、測定されたプロセスパラメータを任意の公知の方法で制御するための制御信号を生成する。モデリングルーチンは、高周波データを分析し、プロセス変数内の高周波ノイズの数学的モデルを作製する。次いで、結果として得られた数学的モデルは、コントローラによって生成された制御信号が被制御デバイスに対して搬送されるまたは被制御デバイスによって用いられるまえに、当該制御信号を変更するために、補償ルーチンにより用いられうる。 （もっと読む）

【課題】制御系の相互干渉を低減するとともに、容易に制御系の調整を行うことができるプラントワイド多変数連携非干渉制御方法を提供する。
【解決手段】原料から目的物を生産するプロセスの制御を可能とする相互に干渉する要素を有する複数の操作弁と、プロセスの状態を表す変数を検知し、検知した値に応じた信号を操作弁に与える制御部とを備え、制御部からの信号を受けた各操作弁の弁開度操作により、プロセスの状態を制御するプラントの制御方法において、制御部は、操作弁の弁開度と、その弁開度に応じて変化するプロセスの状態を表す変数との関係を、定常状態での方程式で構築し、当該方程式により操作弁ごとに導出した解析解式に基づいて、操作弁の目標の弁開度であるＣＶ値を算出し、検知した値に応じた操作弁の現状の弁開度であるＣＶ値を算出するとともに、２つのＣＶ値の偏差ｅを算出し、偏差ｅに基づいてプロセスの状態をフィードバック制御する。 （もっと読む）