【課題】半導体製造装置等からの原料ガスからＫｒ、Ｘｅなどを高濃度、高回収率で回収する。
【解決手段】２種以上の成分を含む原料ガスを、１成分に易吸着性で、他成分に難吸着性の吸着剤を充填した下部筒１０Ｂと上部筒１０Ｕとに流し、易吸着分を吸着し、難吸着分を回収する工程、易吸着成分貯留槽２のガスを下部筒１０Ｂに導入し、これの空隙に残る難吸着分を上部筒１０Ｕに導出し、筒１０Ｕにおいて易吸着分を吸着し、筒１０Ｕより難吸着分を回収する工程、下部筒１０Ｂを減圧し、易吸着分を易吸着成分貯留槽２に回収する工程、上部筒１０Ｕを減圧し、吸着ガスを脱着して下部筒１０Ｂに導入し、筒１０Ｂの流出ガスを原料ガス貯留槽１に回収する工程、先に回収した難吸着分を減圧し、パージガスとして上部筒１０Ｕ、下部筒１０Ｂに導入し、易吸着分を脱着して下部筒１０Ｂの流出ガスを回収する工程をシーケンスに従って行う。 （もっと読む）

【課題】処理筒の小型化が可能である除害装置を提供すること。
【解決手段】本発明は、配管１６中に存在する特殊材料ガスを含むパージガスを除害処理する除害装置１０において、配管１６中のパージガスを排出するエジェクタ２２と、エジェクタ２２の排出口に接続されたバッファ容器３４と、バッファ容器３４の出口部に設けられ、又はその出口部に直接接続されたオリフィス４０と、オリフィス４０に接続され、特殊材料ガスを除害処理する薬剤が充填された処理筒２６とを備えることを特徴とする。この構成においては、エジェクタからの高圧のガスをバッファ容器で一旦蓄積し、圧力を下げ、更に、オリフィスでガスの流れを絞って、処理筒に送ることができる。これにより処理筒に対する圧力負荷が緩和され、処理筒内の薬剤を流通するガスの流速を抑えることができ、薬剤の少量化、処理筒の小型化が可能となる。 （もっと読む）

【課題】 有害成分を含む排ガスを処理しないときの消費電力を小さくすることができるようにした排ガスの除害装置及びその除害方法、電子デバイスの製造システムを提供する。
【解決手段】 半導体処理装置から排出された排ガスを反応筒５１内に導入して当該排ガス中に含まれるＣＦ_４等の有害成分を無害化する除害装置であって、反応筒５１内を加熱するハロゲンランプ５２を有する。反応筒５１内の温度を常時高温に維持する必要がなく、有害成分を含む排ガスを処理しないときの除害装置５０の消費電力を小さくすることができる。除害処理コストを低減することが可能である。 （もっと読む）

大気中に存在する人体に悪影響を与える有毒ガスや有害ガス、細菌等を大気中から除去して無害化することができ、処理した場所に被害を与えることが少ない有害物質処理システムを提供する。流体に含まれる有害物質を無害化して処理するために使用される処理システムであって、処理システムが、有害物質を含む流体を吸引する吸引手段１０と、吸引手段１０によって吸引された流体を排出する排出手段２０を備えており、吸引手段１０と排出手段２０の間に、吸引手段１０によって吸引された流体中に含まれる有害物質を処理する有害物質処理手段３０とを備えている。流体を処理する場所や、その場所にいる人に悪影響を与えることなく有害物質を処理することができるし、排出される流体によって周囲の環境が汚染されることを防ぐことができ、二次災害などが生じることを防ぐことができる。
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【解決手段】 焼却設備より排出される燃焼排ガスを、冷却水に直接接触させて冷却する方法において、冷却水中に濃縮されてくる無機塩類の濃度を低減させるために、冷却水の一部を取出して析出・分離装置に送付し、間接熱交換器を用いて冷却水を加温して水分の一部を蒸発させ、無機塩類を析出・分離するに際し、前記焼却設備の運転を維持しながら、温水洗浄により前記熱交換器の性能を回復させる焼却設備における熱交換器の洗浄方法。
【効果】 冷却水の析出・分離装置に使用される熱交換器の性能回復のための洗浄操作を、焼却設備の焼却運転を継続したまま行うことができる。洗浄作業が容易になり、短時間で終了する。 （もっと読む）

本発明の排ガス処理剤は、粒状で、多孔質であり、その表面の一部が水酸化カルシウムとなっている酸化カルシウムからなる排ガス処理剤である。表面積が１ｍ^２／ｇ以上であり、空間率が１０〜５０体積％であることが好ましい。この酸化カルシウムは、粒状の炭酸カルシウムを焼成して得られたものであり、半導体製造装置から排出される排ガスを気体状のまま、この排ガス処理剤に接触させて有害ガス成分を反応させて除去する。 （もっと読む）

この発明の排ガス処理方法では、半導体装置の製造設備内で励起状態にある排ガスを処理部のプラズマ処理部に減圧下で導入し、プラズマ処理部で発生しているプラズマによって励起状態を維持したまま、反応除去部の反応器に導入し、反応器に充填されている粒状酸化カルシウムからなる反応除去剤と反応させて排ガス中の有害ガス成分を除去する。プラズマ処理部に酸素を供給してプラズマの存在下、有害ガス成分を酸化分解したうえ、反応除去剤と反応させてもよい。 （もっと読む）

本発明の装置及び方法は、下部(5)にガス入口(2)、上部(4)にガス出口(3)を有するカラム(1)を使用するものである。粒状炭素は、供給管(7)を通じてカラム(1)に導入される。供給管(7)は移動可能であり、供給管(7)の高さを調節することにより、また、粒状物質をカラム(1)から排出することにより、カラム(1)内の粒状物質層(8)の高さを調節することができ、これにより、オフガスの粒状物質層(8)内での保持時間を一定にすることができる。粒状物質層(8)内でのオフガスの保持時間を一定に維持することにより、オフガスの完全な転換が達成される。 （もっと読む）

【課題】 半導体製造工程等から排出される排ガスを処理して、その中に含まれる有害・汚染物質を実質的に完全に分解除去することができ、かつ安価で二次的汚染も生じない構造を備えた排ガス処理装置を提供する。
【解決手段】 所定間隔をもって平行対向状に配置させた一対のプラズマ電極２０，２１間の真空雰囲気中に、排ガスを導入して、プラズマ電極２０，２１に高周波発振器２２からの高周波電気エネルギを印加すると、プラズマが発生して、排ガス中の構成物質がプラズマ電極２０，２１の電極表面に、プラズマ反応生成物として堆積固化し、この結果、上記排ガス中の有害・汚染物質が分解除去される。上記電極表面は、そこに堆積固化した反応生成物のみを除去し得る構造を備え、これにより、プラズマ電極は廃棄することなく再使用可能である。 （もっと読む）

【目的】 排煙中のセレン（Ｓｅ）の除去及び無害化が容易にできる排煙処理システムに関する。
【構成】 排煙中の有害物を除去する排煙処理システムであって、排煙を３５０℃以下に冷却する冷却手段と、排煙中の粉塵を分離除去する集塵手段と、この集塵手段により分離された粉塵にＳｅ溶出防止剤と加湿液又はＳｅ溶出防止剤の溶液を添加して混合する混合手段と、さらに必要によりこの混合手段でＳｅ溶出防止剤及び加湿液又はＳｅ溶出防止剤の溶液と混合された粉塵を塊状化する塊状化手段とを備えてなることを特徴とする排煙処理システム。
【効果】 従来のシステムに比較して簡略化された設備で、容易にＳｅの除去及び無害化を行うことができる。 （もっと読む）