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国際特許分類[B01J37/20]の内容

国際特許分類[B01J37/20]に分類される特許

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【課題】 チタン化合物と硫黄化合物とをあらかじめ混合する工程や硫黄化合物の残留分等を除去するための再加熱処理工程、あるいはスパッタリング等の成膜工程等を必要としない、可視光領域での光触媒作用を有する硫黄ドープ酸化チタンの簡便な製造方法を提供すること。
【解決手段】 酸化チタンを硫化水素ガスの存在下に加熱し、該酸化チタンに硫黄のドーピングを行う、可視光領域での光触媒作用を有する硫黄ドープ酸化チタンの製造方法であり、該酸化チタンはアナターゼ型結晶構造を有するものが好ましい。 (もっと読む)


本発明は、炭化水素質原料ストリームを、バルク二元金属触媒を用いる水素処理によって品質向上するための方法に関する。より詳しくは、本発明は、硫黄および窒素を、燃料または潤滑油の原料などの炭化水素原料から除去するための接触水素化方法に関する。触媒は、少なくとも一種の第VIII族金属および少なくとも一種の第VIB族金属を含むバルク触媒である。この触媒は水熱調製される。 (もっと読む)


本発明は、1種以上の第1のVIII族金属と1種以上の第1のVIB族金属を含む第1の金属酸化物粒子を作製し、1種以上の第2のVIII族金属と1種以上の第2のVIB族金属を含み、第1および第2の金属酸化物粒子中のVIB族およびVIII族金属の組成が異なる、別々に作製された第2の金属酸化物粒子を作製し、第1および第2の金属酸化物粒子を合体して、賦型の前および/または間にバルク触媒組成物を形成し、そして第1および第2の金属酸化物粒子を合体して、賦型バルク触媒を形成する段階を含んでなる、1種以上のVIII族金属と2種以上のVIB族金属を含む金属酸化物粒子を含んでなる賦型バルク触媒を作製するための方法に関する。本発明は、硫化もしくは非硫化の形の方法により入手可能である賦型バルク触媒および水素化処理におけるこれらの使用に更に関する。 (もっと読む)


本発明は、特にVIB族金属に対するVIII族金属に対する比較的低いモル比で水素化脱硫において改善された活性を有するバルク触媒に関する。このバルク触媒は、1種以上のVIB族金属と1種以上のVIII族金属を含み、1種以上のVIB族金属を含む化合物と、1種以上のVIII族金属を含む化合物を水熱条件においてプロトン性液体の沸騰温度以上の反応温度で、好ましくはオートクレーブ中で大気圧以上の反応圧力で反応させる段階を含んでなる方法により入手可能な金属酸化物粒子を含んでなる。本発明は、対応する硫化触媒と、上記のバルク触媒の作製方法と、炭化水素フィードストックの水素化処理、特に水素化脱硫および水素化脱窒素への上記の触媒の使用とにも関する。 (もっと読む)


本発明は、1種以上のVIII族金属およびVIB族金属モリブデンを含み、10モル%未満(VIB族金属の全量に対して)の第2のVIB族金属を含み、ならびに10モル%未満(VIB族金属の全量に対して)の量のV族金属を含む少なくとも60重量%金属酸化物粒子を含んでなるものであって、六方晶系準安定結晶構造が不活性結晶構造に変化する温度以下、好ましくは450℃以下の温度で焼成を受け、33−35゜および58−61゜2θにおいて反射を有するX線回折パターンを特徴とする準安定六方晶系相を有するバルク触媒に関する。好ましくは、主反射は2.5未満の半値全幅(FWHM)を有する。本発明は、更に、このバルク触媒の製造と、対応する硫化触媒と、水素化処理、特に炭化水素フィードストックの水素化脱硫および水素化脱窒素における上記の触媒または硫化触媒の使用に関する。 (もっと読む)


本発明は、周期律表の第VIII族からの少なくとも1つの非貴金属と第VIB族からの少なくとも1つの金属を有する触媒組成物を調製する方法に関する。本発明はまた、軽質留分及び中間留分の水素化処理に伴う反応において、好ましくは、水素化脱硫(HDS)、水素化脱窒素(HDN)、及び水素化脱芳香族(HDA)を含む、炭化水素ストリームの水素化処理に伴う反応において、高い比活性を有する、上記のように生産される触媒組成物に関する。 (もっと読む)


【課題】 メタン含有排ガスに含まれる一酸化炭素の除去を効率的に行うことができるメタン含有排ガス浄化方法を提供する。
【解決手段】 耐火性無機酸化物に、白金、ロジウム、及びイリジウムから成る群から選ばれる少なくとも2種以上の貴金属と、硫黄とを担持した三元触媒に、理論空燃比に調整されたメタン含有排ガスを接触させるメタン含有排ガス浄化方法。 (もっと読む)


本発明は、使用前にニッケルを含む水素化触媒を「現場外」で処理する方法であって、3工程、すなわち、触媒を少なくとも1種の硫黄含有化合物または試剤と接触させる工程(選択性向上工程)、250℃超の温度で水素により触媒を処理する工程(還元と称される工程)および触媒の不動態化工程を行うことからなる方法に関する。 (もっと読む)


本発明は、水素処理触媒を活性化するための方法および活性化された触媒の水素処理のための使用に関する。より詳細には、水素処理触媒は、一酸化炭素の存在下に活性化されている。CO処理によって活性化された触媒は活性が改善されている。 (もっと読む)


本発明は、水素処理触媒を活性化するための方法および活性化された触媒の水素処理のための使用に関する。より詳細には、水素処理触媒は、一酸化炭素の存在下に活性化されている。CO処理によって活性化された触媒は活性が改善されている。 (もっと読む)


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