【課題】 液体プロセスを用いた成膜を行う際に、成膜面の性質と液状材料の性質との関係に関わらず良好な成膜を行うことを可能とする技術を提供すること。
【解決手段】 薄膜となるべき溶質とこれを溶解するもしくは分散させる溶媒とを含んでなる液状材料を用いて成膜を行う方法であって、対象物(10)の少なくとも成膜面近傍の温度を上記液状材料の凝固点以下に下降させる第１工程と、上記液状材料(12)を上記対象物の成膜面に滴下する第２工程と、前記対象体の成膜面上に上記液状材料が到達した時点で上記液状材料を凝固させる第３工程と、凝固した上記液状材料から上記溶媒(16)を除去する第４工程と、を含む、薄膜形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 ウエーハ上の所定の領域に薬液を塗布することができるとともに、ウエーハに形成されたトレンチなどを確実に充填することが可能な薬液塗布方法及び薬液塗布装置を提供する。
【解決手段】 ステージ２上に被処理ウエーハ１を載置、固定する工程と、前記被処理ウエーハ１表面の所定領域上に、圧力制御手段６、薬液供給手段７を備える密閉空間５を形成する工程と、前記密閉空間５を前記圧力制御手段６により減圧する工程と、前記密閉空間５に前記薬液供給手段７より薬液７ａを供給し、前記被処理ウエーハ１表面の所定領域上に前記薬液７ａを塗布する工程を具備する。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】基板を処理するための方法であって、複数の注入口の一部から基板の表面に流体を塗布する工程と、流体が表面に塗布されている最中に流体を基板の表面から除去する工程とを備える方法が提供される。流体を塗布する工程および流体を除去する工程は、基板の表面上に流体メニスカス部を形成する。 （もっと読む）

【課題】補修部分の研ぎ痕の模様が目立たず、補修部と非補修部における光輝材ムラがみられず、かつ、同一色調を有する外観に優れた塗膜を得ることができる塗膜の補修方法を提供する。
【解決手段】塗膜の補修対象部分３を研ぎ出す工程（Ｉ）、及び、補修用プライマーを補修部に塗装してプライマー塗膜５を形成する工程（ＩＩ）を含む塗膜の補修方法であって、上記補修用プライマーは、硫酸バリウムを含有することを特徴とする塗膜の補修方法。 （もっと読む）

【課題】 インクジェット塗布方法などにより基板に塗布液の液滴を噴射して塗布した後、その塗布液を加熱して乾燥させる際に、良好な膜厚分布の固化物や膜を得ることのできる液滴噴射塗布方法を提供する。
【解決手段】 複数の溶媒を含有する塗布液の液滴を被塗布材の表面に噴射して塗布した後、前記被塗布材の表面に塗布された塗布液を、前記複数の溶媒の各沸点温度に応じて加熱温度を順次に上昇させながら加熱して乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】改良された動的スプレーシステムと、それを高速製造環境内で使用するための方法を提供する。
【解決手段】改良された動的スプレーノズルシステムは、粉末／ガス調整チャンバ８０の第１端部に接続されているガス／粉末交換チャンバ４９と、集束発散超音波ノズル５４とを備えており、超音波ノズルは、喉部５８によって発散区画から分離されている集束区画を有しており、発散区画は第１部分５９Ａと第２部分５９Ｂを備えており、集束区画は、粉末／ガス調整チャンバの第１端部とは反対側の第２端部に接続されている。本方法は、本開示のノズルシステムを、ノズルを詰まらせないようにしながら粒子温度を最大に高めることができる硬い粒子を加えて使用すること；所望の非常に速い送り速度と整合するように粒子供給速度を制御すること；及び基板を洗浄し粒子の結合性を高めるために基板を予加熱すること、を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、金属粉体の組み合わせおよびこれらの金属粉体の混合比率により、独特の表面形状および色調や輝き等を出すことができる金属粉体塗装方法および金属粉体塗装部材に関するものである。
【解決手段】 本発明の金属粉体塗装方法は、下地材上に３ｍｍないし０．０１ｍｍからなる粒径の金属粉体の混合物を塗布することにより下地材を覆っている。前記塗布工程は、少なくとも１種類の前記金属粉体に合成樹脂部材が混合されている。前記合成樹脂部材は、前記３ｍｍないし０．０１ｍｍからなる粒径の金属粉体の周りに付着することで、金属粉体を互いに接着するとともに、下地材にも接着する。その後、乾燥工程は、前記合成樹脂部材を乾燥することで、前記金属粉体、合成樹脂部材を前記下地材上により強固に接着させる。 （もっと読む）

【課題】 真空プロセスを経ることなく低コストで、曲面又は傾斜面を有する基材の表面に均一な膜厚の反射防止膜を形成する方法を提供する。
【解決手段】 霧化した塗布液を曲面又は傾斜面を有する基材に付着させることにより基材上に均一の厚さの反射防止膜を形成する方法において、塗布液に界面活性剤を配合することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 １００ｎｍ以下のパターニングが可能なナノインプリントを用いたリソグラフィーに適用できる１００ｎｍ以下でも均一な厚みの薄膜形成ができ、それをナノインプリントに応用できるようパターンの形成方法とそのような方法を実現することができるパターン形成用電解質膜の製造装置を提供する。
【解決手段】 基板の上に、樹脂層を形成する工程と、前記樹脂層に、パターンの形成されたモールドを押しつける工程と、前記モールドを前記基板から引き離す工程と、を備えたパターンの形成方法において、樹脂層を形成する工程として基板に２層以上の電解質膜を吸着させることを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 薄膜塗布基板の製造過程において、乾燥工程では、平坦性の高い基板を得ることができるように、基板上の塗布膜を均一な速度で蒸発させているにもかかわらず、基板上に液体材料を塗布して薄膜を形成する工程から塗布された液体材料の薄膜を乾燥させる工程への搬送中に液体材料が自然乾燥してしまうことによって、乾燥後の基板の平坦性が低下してしまう。
【解決手段】 薄膜塗布基板の製造過程において、基板上に液体材料を塗布して薄膜を形成する工程から、塗布された液体材料の薄膜を乾燥させる工程に、基板を、薄膜の乾燥を抑制する雰囲気下に保持して搬送する方法およびそのための装置が提供される。 （もっと読む）