【課題】基板の表面のデバイス形成領域に処理液による悪影響を与えることなく、基板の周縁部から汚染を良好に除去することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】ブラシ１１に関連して、処理液を吸引するための吸引ノズル７０が設けられている。吸引ノズル７０の先端部は、第１接触面３２と第２接触面３３との境界部分３４に対向する先端面７２と、第１接触面３２および第２接触面３３と当接する当接面７３とを有している。先端面７２には、吸引口７４が形成されている。吸引ノズル７０に接続された吸引管７６は、処理室２の外部へ延びており、その先端は、真空発生装置６０に接続されている。真空発生装置６０が駆動されると、ブラシ１１の内部に含まれる処理液は吸引口７４に吸引され、ブラシ１１の内部に吸引口７４に向かう処理液の流れが形成される。 （もっと読む）

【課題】小さなスペースであってもワークを十分に効率よく洗浄すること。
【解決手段】両端に配置された上下一対の端ロール１ａ，１ｂと、端ロール１ａ，１ｂ間に配置された上下一対の中間ロール２と、ワークＷに洗浄油を吹付けるための洗浄ノズル４ａ，４ｂと、ワークＷに付着したゴミを除去するブラシ３と、を備え、端ロール１ａ，１ｂ及び中間ロール２がそれぞれ回転することによりワークＷが搬送され、端ロール１ａ，１ｂの回転速度を一定とし、端ロール１ａ，１ｂ及び中間ロール２が同時にワークＷを搬送するときの中間ロール２の回転速度を端ロール１ａ，１ｂと同じとし、中間ロール２のみがワークＷを搬送するときの中間ロール２の回転速度を端ロール１ａ，１ｂの回転速度よりも遅くする。 （もっと読む）

【課題】この発明は処理される基板を侍従による撓みが生じないように搬送することができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板を処理する処理装置において、
固定ステーション８と、この固定ステーションの側面に設けられ上記基板を立位状態で搬送する搬送手段１０と、上記固定ステーションの側面を上記搬送手段によって立位状態で搬送される上記基板に所定の処理を行う処理手段１７，１８，１９とを具備する。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ表示装置の蒸着工程における蒸着マスクの洗浄蒸着装置とインラインで行い、蒸着マスクの使用回数を増大させる。
【解決手段】蒸着を終わったマスク２１０はクリーニング準備室２０１に移動し、その後、大気圧であるクリーニング室２０２に移動する。クリーニング室２０２において、マスクにレーザを照射し、これによって生じた衝撃波によってマスク２１０に付着した堆積物を剥離する。剥離した堆積物はクリーナ２０８によって除去される。その後、マスク２１０はフラッシング室２０３に移動し、クリーニング室２０２で除去しきれなかった剥離物をマスク２１０から除去する。その後マスク２１０はマスク排出室２０４に移動し、次の蒸着を行う。 （もっと読む）

【課題】オゾンにより床面の汚れを消臭除菌する汚れ分解装置において、汚れ分解を効率良く行う共に、安全性の向上を図る。
【解決手段】汚れ分解装置１は、筐体２と、筐体２の凹部１０内にオゾンを供給するオゾン発生部４と、凹部１０内の気圧を減圧する減圧部５と、凹部１０内の気圧を測る気圧センサ部６とを備え、使用状態において、筐体２の底面部８と汚れ７０を含む床面６０とを接触させることにより凹部１０が密閉した空間９を形成する。減圧部５は、オゾン発生部４がオゾンの供給を開始する前に、空間９内の気圧を外部の大気圧より低くなるように減圧する。これにより、筐体２の底面部８と床面６０とが強く密着されて空間９の密閉性が良くなるので、オゾン供給後の空間９内からのオゾンの漏出が抑制され、空間９内のオゾン濃度の低下が防止されて床面６０の汚れ分解を効率良く行うことができると共に、安全性が向上する。 （もっと読む）

【課題】汎用性に優れ、充分に使い易く、常に最適な条件で蒸気洗浄や乾燥を行い得る有効適切な蒸気洗浄・乾燥ユニットを提供する。
【解決手段】床面洗浄機であるポリッシャーＰ（あるいは洗浄用具であるデッキブラシやモップ等）に装着される蒸気洗浄・乾燥ユニット１であって、ポリッシャーや洗浄用具の本体部ｃの外形輪郭に沿うフレーム状とされてその外側に配置される下面開放型の蒸気チャンバー３と、蒸気チャンバー内に取り付けられた蒸気管４と、蒸気チャンバーを支持しつつ床面上を転動することにより蒸気チャンバーを移動自在に支持するとともに蒸気噴射口７の床面からの高さ寸法Ｈを規定するキャスター５を具備する。 （もっと読む）

本発明は、スプレーガン（Ｓ）、詳細には、洗浄液用の送り装置（２）に接続された少なくとも１つの洗浄ノズル（１）と、スプレーガン（Ｓ）またはその部品を手動洗浄するための摩擦洗浄器具（３）とを有する、塗装スプレーガン（Ｓ）を洗浄するための洗浄装置に関する。かかるタイプの周知の洗浄装置は、塗料噴霧流路を十分に洗浄することができない。外側表面と塗料噴霧流路の両方の部分を効率的かつ環境的でしっかりと洗浄できる洗浄装置を提供するという目的は、洗浄ノズル（１）を摩擦洗浄器具（３）の近くの上方に配設することで達成される。その結果、洗浄ノズル（１）によって洗浄液をスプレーガン（Ｓ）の中かつ／またはその上に噴霧でき、スプレーガン（Ｓ）、詳細にはスプレーガンノズルを、摩擦洗浄器具（３）を使用した摩擦によって同時に手動洗浄することができる。
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【課題】本発明は、被研磨基板を、シリカ微粒子を含有する研磨液組成物で研磨した後、水で濯いで得られる被洗浄基板に対して好適に用いられ、優れた洗浄性を呈するハードディスク用基板用の洗浄剤組成物、およびそれを用いたＨＤ用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のＨＤ用基板用の洗浄剤組成物は、下記式（１）で表される非イオン性界面活性剤、水溶性アミン化合物、及び水を含有する。Ｒ¹は、炭素数８〜１８のアルキル基，炭素数８〜１８のアルケニル基，炭素数８〜１８のアシル基、又は炭素数１４〜１８のアルキルフェニル基であり、ＥＯはオキシエチレン基、ＰＯはオキシプロピレン基、ｍ及びｎはそれぞれＥＯ及びＰＯの平均付加モル数であり、ｍ＝１〜２０，ｎ＝０〜２０を表す数であり、ＥＯとＰＯの配列はブロックでもランダムでもよい。
Ｒ¹−Ｏ−（ＥＯ）ｍ（ＰＯ）ｎ−Ｈ （１） （もっと読む）

【課題】作業者が窮屈な姿勢をとることなく、立ったままの状態で、補助液を使用しながら床面に付着した付着物の除去作業をスムーズに行うことを可能にする付着物除去用具を提供する。
【解決手段】路面１４に付着したガム等の付着物１５の除去作業を、立ったままで行うことを可能にする付着物除去用具１０であって、一端部にヘラ板１２を備える主ロッド１１と、ヘラ板１２に近接して主ロッド１１に取り付けられた、補助液１３が収容されるポンプ付き容器１７と、ポンプ付き容器１７のポンプヘッド１８に連結して吐出される補助液１３をヘラ板１２の上面側に供給する供給パイプ１９と、主ロッド１１に沿って設けられたガイド部２０に挿通されて主ロッド１１に対してスライド可能に併設され、主ロッド１１の他端部側からの進退操作によってポンプヘッド１８を押圧して補助液１３を吐出させる押圧ロッド２１とによって構成されている。 （もっと読む）

【課題】オゾンガスや紫外線光により汚れを分解して消臭除菌する汚れ分解装置において、汚れの分解状況を容易に安全に確認できるようにする。
【解決手段】汚れ分解装置１は、開口３を有する筐体２と、筐体２の内部空間部１０にオゾンを供給するオゾン発生部４と、筐体２内で開口３に向けて紫外線を出射する紫外線光源部５と、開口３を外部から視認するための窓部６を備える。内部空間部１０の開口３で汚れ面Ｂを含む床面Ａを覆って、前記各部により内部空間部１０内にオゾン及び紫外線を供給・出射して汚れを分解する。窓部６には、紫外線光源部５から出射された紫外線を汚れ面Ｂが吸収することにより励起される可視光を透過し、紫外線をカットする透光部材６１が設けられている。これにより、窓部６から汚れ面Ｂの汚れの分解状況を容易に安全に確認することができる。 （もっと読む）