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国際特許分類[B41F17/14]の内容

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【課題】膜厚ムラの少ない、高品位の高分子有機EL素子を安価に生産できる有機EL用印刷機を提供する。
【解決手段】回転式の版胴11と、版胴11に装着された凸版12と、版胴11の下方に設置された支持基台13と、支持基台13上に移動可能に設置された定盤14と、この定盤14上に載置された被印刷基板15と、凸版12の表面に発光層用のインキを供給するインキ供給手段16と、このインキ供給手段16にインキを定期的に供給するインキ補充手段17とを備える。さらに、版胴11の周りで被印刷基板15との間に閉塞空間を仕切る版カバー21と、前記閉塞空間に溶剤ガスを供給する供給手段と、前記閉塞空間から溶剤ガスを回収する回収手段と、前記供給手段と前記回収手段を制御することで印刷時に前記閉塞空間の溶剤ガスの分圧を一定に保つ制御手段とを備えている。 (もっと読む)


【課題】インキの節液、乾燥防止、インキの滞留による印刷ムラを抑制した、高精細な印刷パターンを形成することが可能な凸版印刷装置を提供する。
【解決手段】被印刷基板に微細パターンを印刷する凸版印刷装置であって、凸版が設置された回転式の版胴と、前記被印刷基板を載置する基板定盤と、前記凸版の表面にインキを供給するアニロックスロールと、前記アニロックスロールにインキを供給するためのインキチャンバーを備えた凸版印刷装置において、前記インキチャンバーは、前記アニロックスロール下部の表面形状に沿った一定間隙で近接するトレー形状であり、且つ、前記インキチャンバーの幅方向全体の円弧内面に、前記アニロックスロールの回転方向に対して、中央下部から外側上部に向かう溝加工が施されている。 (もっと読む)


【課題】被印刷基材に、高精細かつ平坦性の高い画像パターンが形成される画像形成方法、その画像形成方法を実施するための画像形成装置およびその画像形成方法により製造される画像パターン、を提供する。
【解決手段】画像形成方法は、基板10の主表面10aにインキ層20を形成する工程と、インキに対して反撥性を有するインキ撥液部32と、インキに対して親和性を有するインキ親液部34とがパターニングされた転写面30aを有する転写ブランケット30と、基板10とを、インキ層20を介して互いに接触させつつ押圧する工程と、転写ブランケット30と基板10とを離間させることによって、インキ親液部34に接していたインキを基板10から転写ブランケット30に転写させる工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】膜厚の大きく異なる薄膜状の被印刷物を、高生産性を維持したまま製造することが可能な薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】本発明の一態様に係る薄膜形成装置は、外周面に転写パターンが形成された印刷版31を有する印刷ロール30と、少なくとも2つのパターンの異なるエリア11,12に分割されたインキセル15を外周面に有し、薄膜形成溶液5を印刷版31に転写するアニロックスロール10と、アニロックスロール10に担持された薄膜形成溶液5の表面を平坦化する平坦化手段20と、被印刷体2を載置し、印刷版31が担持する薄膜形成溶液5を被印刷体2に転移させるように搬送する印刷ステージ40と、印刷版31に転写するアニロックスロール10のエリア11、12を調整する位置調整機構60とを具備する。 (もっと読む)


【課題】印刷法を用いて被印刷基板に欠陥のない画像パターンを形成するに当たり、高度な欠陥識別システムが不要で、容易に高精度な欠陥修正が可能で、被印刷基板のロスが少ない検査・修正技術を備える印刷方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、ブランケット上にインキ液を塗布し、該インキ液を予備乾燥し予備乾燥インキ膜を形成する工程、画像パターンを凹部とした凸版を予備乾燥インキ膜に押し当て引き離すことで当接部位の乾燥インキ膜を該凸版の凸部に転移させ、前記ブランケット上に画像パターンを残置する工程、残置した画像パターンを被印刷基板に転写する工程、とを有する印刷方法において、前記予備乾燥インキ膜を形成する工程に引き続き、予備乾燥インキ膜の欠陥部位を検出し修正する工程、を含むことを特徴とする印刷方法。 (もっと読む)


【課題】ブランケットへのパターン転写と基板へのパターン転写との両方で良好な転写を行うこと。
【解決手段】本発明は、凹部11aが形成された硬質の基材11と基材11より軟らかいPDMS層12とが貼り合わされ、凹部11aの位置のPDMS層12の厚さが他より厚く設けられたブランケット1を用い、PDMS層12の表面にインク2を塗布する塗布工程と、形成するパターンの位置に凹部3aが設けられた版3を用い、版3の凹部3aとブランケット1の凹部11aとの位置を合わせるようにして版3とブランケット1とを互いに向かい合わせて加圧接触させ、版3の凹部3aに対応するインク2をブランケット1側に残して転写させる第1転写工程と、ブランケット1と基板とを互いに向かい合わせるとともに、これらを加圧接触させることにより、ブランケット1上に残っているインク2を基板上に転写させる第2転写工程とを有する転写パターン形成方法である。 (もっと読む)


【課題】パターンの粗密や押圧条件、塗布インキの溶液特性によらず、高精細かつ平坦性に優れた画像パターンを形成することが可能な画像パターン形成方法を提供する。
【解決手段】画像パターン形成方法は、転写ブランケット1の主表面1aにインキ材料を塗布するインキ塗布工程と、前記インキ塗布工程を経た前記主表面1aを、インキ親液部5とインキ撥液部4とが所望のパターンで互いに区分された印刷版3に密着させることによって、前記主表面1aに塗布された前記インキ材料のうち前記インキ親液部5に対応する領域に塗布されていたものを前記印刷版3に転写させる部分的インキ除去工程と、前記部分的インキ除去工程を経た前記主表面1aを被印刷基材に密着させることによって、前記主表面1a上に残存している前記インキ材料を前記被印刷基材の表面に転写するインキ転写工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】高精細有機ELを凸版印刷で製造する装置であって、基板を剥離する際 除電ガスによる有機界面の汚染・発光特性の劣化を防ぎつつ、ガラス基板15の静電気によるESD、ESA、EMIを防ぎ搬送することのできる高精細有機EL製造用凸版印刷装置およびそれによって製造される高精細有機EL素子を提供する。
【解決手段】配置された基板15を吸引により固定するための通孔12を備えたステージ14と、ステージ14上で基板15に有機機能層を形成するための凸版印刷機構と、ステージ14に形成された通孔12に接続された除電ガス発生機構17と、通孔12から除電ガスを放出時に、ガラス基板15をステージ14より突き上げるリフトピン11とを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】従来の凹版オフセット印刷装置の問題点を解決すべくなされたものであって、グラビアロールの熱膨張及び形状に起因する印刷精度の低下を防止することができ、高精度の微細印刷が可能である微細印刷装置を提供すること。
【解決手段】印刷対象物となる基材を載置する基材テーブルと、表面に印刷パターンに対応する凹部が形成された印版部材を載置する印版テーブルと、表面に一様に供給されたインキを前記印版部材の凹部を除く表面に転写するとともに、該転写後に表面に残ったインキを前記基材表面に転写するブランケットロールと、前記ブランケットロール表面に対してインキを供給するインキ供給ロールを備えており、前記印版部材がガラス板からなることを特徴とする微細印刷装置。 (もっと読む)


【課題】原版に供給されたインキをブランケットロールを介して基材に転写する微細印刷装置において、ブランケットロール表面に残留したインキをムラ無く確実に除去することができ、長期間に亘って高い印刷精度を維持することができるブランケット表面のクリーニング機構を備えた微細印刷装置を提供すること。
【解決手段】原版に供給されたインキをブランケットロールを介して基材に転写する微細印刷装置であって、前記転写後にブランケットロール表面に残存したインキを除去するクリーニング機構を有しており、前記クリーニング機構は、表面に粘着剤層を有するクリーニングフィルムと、該クリーニングフィルムをその表面を前記ブランケットロール表面に接触させながら移動させるフィルム駆動機構とを備えていることを特徴とする微細印刷装置。 (もっと読む)


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