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国際特許分類[B81B7/02]の内容

処理操作;運輸 (1,245,546) | マイクロ構造技術 (6,196) | マイクロ構造装置またはシステム,例.マイクロマシン装置 (4,227) | マイクロ構造システム (450) | その機能に特に適した,別体の電気的または光学的装置を含むもの,例.マイクロ電気機械装置 (356)

国際特許分類[B81B7/02]に分類される特許

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【課題】流体の大気導入口への干渉を効果的に防止した半導体圧力センサを提供する。
【解決手段】半導体圧力センサは、ケース10と、ケース10内に被測定対象の流体を導入する圧力導入口11と、大気を導入する大気導入口12と、大気圧に対する流体の圧力を測定するセンサチップ20と、を備えている。圧力導入口11及び大気導入口12は、ケース10の同一面側に配設されており、圧力導入口11はケース10の表面に立設された管状の圧力導入部10bに連通しており、大気導入口12は圧力導入部10bに並置された管状の大気圧導入部10cおよびケース10内に連通している。そして、大気圧導入部10cにおける大気導入口12から離間した位置に複数の凹部16が形成されている。 (もっと読む)


【課題】電子デバイスをカプセル化する構造体およびこのような構造体を作る方法を提供する。
【解決手段】少なくとも1つの電子デバイスをカプセル化するための構造体であって、支持体および前記支持体上に提供された少なくとも1つのキャップで囲まれた少なくとも1つの第1キャビティを含み、前記電子デバイスはカプセル化され、少なくとも1つの開口部は、前記キャップを通過し、前記第1キャビティ内部と前記支持体上に配置され前記第1キャビティに隣接する少なくとも1つの第2キャビティに提供されたゲッター材料の少なくとも一部分とを連通し、ゲッター材料の前記部分の少なくとも一部分は、前記支持体上および/または第1キャビティの少なくとも1つの外側壁に接して提供され、前記第1キャビティおよび前記第2キャビティが密封して密封体積をともに形成する、構造体を提供する。 (もっと読む)


【課題】機械的な干渉、過度の湿気、及び損傷を及ぼす可能性がある物質からインターフェロメトリックモジュレータを保護するバックプレートを備えたインターフェロメトリックモジュレータアレイを提供する。
【解決手段】MEMSを基本にしたディスプレイデバイス600であり、インターフェロメトリックモジュレータアレイ604が透明基板を通じて光を反射させるように構成されている。透明基板は、シール606を介してバックプレート608に取り付けられており、バックプレートは、インターフェロメトリックモジュレータアレイを制御するための電子回路を内蔵することができる。バックプレートは、ディスプレイの状態を制御するために使用することができるデバイス構成要素(例えば電子構成要素、等)に関する物理的支持物となることができる。さらに、バックプレートは、デバイスに関する構造上の主支持物として利用することもできる。 (もっと読む)


【課題】向上した熱散逸能力を有するマイクロ電子デバイス構造を提供する。
【解決手段】構造は、基板110にフリップチップ接合される三次元(3D)集積チップアセンブリ105を含む。チップアセンブリは、その上に配置される能動素子144を含むデバイス基板132を含む。キャップ層114は、デバイス基板132に物理的に接合され、能動素子144の周囲の気密シール148を少なくとも部分的に画定する。マイクロ電子デバイス構造は、それを通る複数の熱散逸経路を提供し、その中で生成される熱を散逸させる。 (もっと読む)


【課題】材料コストが安く、しかもパッケージとした際に、薄型化が可能で、異物の発生を抑制可能な電子部品素子搭載用基板及びその製造方法を提供するものである。
【解決手段】一方の面に設けられた内部接続端子と他方の面に設けられた外部接続端子とこれらの接続端子同士を電気的に接続する層間接続とを有する配線基板と、この配線基板の前記一方の面上に接着層を介して配置され、開口を有するキャビティ層と、このキャビティ層上に接着層を介して前記開口を塞ぐように配置される蓋基板とを有し、前記キャビティ層が補強材を有しない基材によって形成される電子部品素子搭載用基板及びその製造方法。 (もっと読む)


【課題】高い信頼性を有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】本発明に係る電子デバイス100は、基体10と、基体10上に載置されている機能素子102と、基体10上に機能素子102を覆って載置されているシリコンの蓋体20と、を含み、蓋体20には、貫通孔40と、貫通孔40を塞ぐ封止部材60と、が設けられ、貫通孔60は、基体10側の第1開口41の面積よりも、第1開口41と反対側の第2開口42の面積の方が大きく、貫通孔40の体積に対する封止部材60の体積の比率は、35%以上87%以下である。 (もっと読む)


【課題】半導体素子と回路素子を縦積みにした半導体装置において、半導体素子と回路素子を結ぶ接続用配線の寄生抵抗を小さくし、さらに接続用配線どうしの短絡が起きにくくする。
【解決手段】基板45の上面にバンプ接合パッド61を設け、回路素子43のバンプ70をバンプ接合パッド61に接続する。バンプ接合パッド61は、パターン配線64によってカバー44との対向面に設けられた基板側接合部69に接続されている。カバー44の下面にはマイクチップ42が実装される。カバー44の、基板45と対向する面には第1の接合用パッド(ボンディング用パッド48、カバー側接合部49)が設けられ、マイクチップ42はボンディングワイヤ50によって第1の接合用パッドに接続される。カバー44の第1の接合用パッドと基板45の基板側接合部69は導電性材料65によって接合されており、その結果マイクチップ42と回路素子43が電気的に接続される。 (もっと読む)


【課題】真空の空洞内にMEMS構造体が封止されたMEMS素子において、封止の気密性が長期間安定に保持されるようにする。
【解決手段】MEMS構造体201が、基板301および積層構造体120により、空洞110内に気密封止されているMEMS素子500において、積層構造体120を構成する、2つの層の間に界面封止層101、102、103を設けて、気体が基板301の表面と平行な方向において、2つの層の界面を通過して空洞110内に侵入することを抑制する。 (もっと読む)


【課題】マイクチップと回路素子を縦積みにした半導体装置の耐ノイズ性を向上させる。
【解決手段】カバー44と基板45を上下に重ね合わせることによってパッケージを形成する。カバー44に設けた凹部46の天面にはマイクチップ42が実装され、基板45の上面には回路素子43が実装される。マイクチップ42はボンディングワイヤ50によってカバー下面のパッド48に接続され、回路素子43はボンディングワイヤによって基板上面のパッドに接続される。カバー下面のパッド48に導通したカバー側接合部49と基板上面のパッドに導通した基板側接合部69は、導電性材料86によって接合される。ボンディング用パッド48及びカバー側接合部49の近傍において、カバー44内には電磁シールド用の導電層55が埋め込まれている。 (もっと読む)


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