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国際特許分類[C01G3/02]の内容

国際特許分類[C01G3/02]に分類される特許

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【目的】 塩化銅を含むプリント基板のエッチング排液をアルカリ水溶液と反応させ酸化第二銅として有効に回収するにおいて、沈降性の良い均一で大きな粒子径を生成させ、水洗並びに固液分離の時間短縮をなし、高純度の酸化第二銅を安価に大量生産することを目的とする。
【構成】 塩化第二銅を含むプリント基板のエッチング排液を苛性アルカリで中和し、その銅溶液と苛性アルカリ水溶液とを、温度40〜50℃に保持した水溶液中に同時に滴下混合して、その溶液のpHを弱酸性から弱アルカリ性の範囲に維持しながら銅の水和物を生成させ、次いでpH12〜13にし、温度70〜80℃で30分間維持した後、水洗、固液分離することを特徴とする酸化第二銅の製造方法である。 (もっと読む)


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