【課題】一定の薄板状の情報記録媒体基板用素材を量産するための円盤状ガラス素材の製造方法を提供すること、前記方法で製造した素材から情報記録媒体用基板ならびに情報記録媒体を製造する方法を提供する。
【解決手段】熔融ガラスから、複数の円盤状ガラス素材を逐次に成形することを含む円盤状ガラス素材の製造方法。前記円盤状ガラス素材に成形される熔融ガラスに含まれる赤外線吸収性イオンの濃度の経時的な変動を抑制して、前記複数の円盤状のガラス素材の板厚の変動が、１０００枚のガラス素材について、基準値に対して±１５％の範囲内になるようにする方法。０．１〜１００ｐｐｍの赤外線吸収性イオンを含むガラスからなる複数の円盤状ガラス素材を成形する際に、前記円盤状ガラス素材に成形される熔融ガラスに含まれる赤外線吸収性イオンの濃度の経時的な変動を抑制して、前記複数の板状のガラス素材の板厚の変動を抑制する方法。 （もっと読む）

【課題】環境にやさしく、半導体電子部品が、常用で１０００℃以上の耐熱性を有する半導体封止用ガラスセラミックス及び半導体電子部品を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の半導体封止用ガラスは、半導体とリード線の一部を被覆封止する半導体封止用ガラスであって、該ガラスが、封止することで結晶相を析出し、且つ、結晶相の割合が５０体積％以上となる性質を有する結晶性ガラス粉末からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】比誘電率が低く、かつ、誘電損失も低く、電気回路基板材料、積層回路基板材料、低温焼成基板材料および高周波回路基板材料として使用することができる結晶化ガラスを提供すること。
【解決手段】結晶相の結晶が、Ｓｒを含有し、結晶の空間群がＰ−４２_１ｍである場合、１ＭＨｚでの比誘電率が９以下で、誘電損失が１０^−２以下である結晶化ガラスを提供できる。なお、結晶相の結晶は、オケルマナイト型であることが好ましい。 （もっと読む）

パネル材又は床材として建築に使用可能な大寸法のシート形状のガラスセラミック素材が得られる製造方法。 （もっと読む）

【課題】色彩による意匠表現の自由度が広く、外観として高級感があり、さらに建築材料の特性を向上させた模様入り結晶化ガラス物品とその製造方法を提供する。
【解決手段】模様入り結晶化ガラス物品１は、結晶化ガラスの基層２と、結晶化ガラスと非晶質ガラスとが反応して基層２の一面の全表面を覆う反応層３ａと、その表面を分散して覆う着色非晶質ガラス部３ｂによる透光面部３ｄとが模様を形成してなる表層３を有している。製造方法は、耐火容器内に、結晶性ガラス小体を集積して集積層とし、その実質的に全表面を覆って、かつ焼成後の表層３に、反応層３ａによる光散乱面部３ｃが部分的に出現する量の非晶質ガラス小体を分散させて積層体とし、積層体をガラスの粘度が１０⁴から１０⁵ポイズを示す温度域で焼成することにより、結晶化ガラス物品１を製造するものであって、着色酸化物を添加して着色した非晶質ガラス部３ｂを形成する。 （もっと読む）

【課題】建築材料に必要な特性を維持し、かつ外観として高級感があり、暗闇で仄かに発光する新規な意匠を有する結晶化ガラス物品とその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の結晶化ガラス物品１は、発光材が配置された結晶化ガラスからなる発光層２と、発光層２の一面に析出結晶量が５〜５０質量％の結晶化ガラスで、可視光線の平均透過率が５〜３０％である透光層３を有し、透光層３が意匠面側に配置されてなる。また、本発明の製造方法は、耐火容器内に、結晶性ガラス小体と発光材との混合物を集積して第１集積層とし、その上に焼成後の析出結晶量が５〜５０質量％になる結晶性ガラス小体を集積して第２集積層として積層体を形成し、該集積体をガラスの粘度が１０⁴から１０⁵ポイズを示す温度域で焼成することにより、結晶化ガラス物品１を製造するものである。 （もっと読む）

本発明は、８５〜１１５×１０^-7／℃の範囲の熱膨張係数を有する高結晶性フリット焼結ガラスセラミック組成物に関する。本発明のガラスセラミックの主結晶相はサイクロケイ酸塩構造を持つ。本発明のガラスセラミックは、金属対金属、金属対セラミックおよびセラミック対セラミックのシール剤、並びに金属とセラミックのための高性能コーティングとして有用である。このガラスセラミックは、その最も広い組成において、３０〜５５％のＳｉＯ₂、５〜４０％のＣａＯ、０〜５０％のＢａＯ、０．１〜１０％のＡｌ₂Ｏ₃、および０〜４０％のＳｒＯを含み、ＣａＯ＋ＢａＯ＋ＳｒＯの合計が３５〜６５質量％の範囲にある。必要に応じて、そのガラスセラミック組成物は、＞０〜１５質量％のＭｇＯおよび＞０〜１０質量％のＺｎＯの群からの少なくとも１種類を含有してもよい。また、必要に応じて、そのガラスセラミック組成物は、少なくとも１種類の遷移金属または希土類金属の酸化物を＞０〜１０質量％含有してもよい。
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【課題】溶融性と耐熱性に優れ、高い線膨張係数を有し、ＥＬ背面基板などに適する結晶性ガラスセラミックス組成物を提供する。
【解決手段】酸化物基準の質量％表示でＳｉＯ₂を１０〜２０質量％、Ａｌ₂Ｏ₃を１〜５質量％、Ｂ₂Ｏ₃を１０〜３０質量％、ＲＯを５０〜７０質量％（但しＲＯはＺｎＯ、ＣａＯ、ＭｇＯ、およびＢａＯからなる群から選ばれる少なくとも１種）、およびＲ_ＢＯ₂を０．５〜３質量％、（但しＲ_ＢＯ₂はＣｅＯ₂、ＳｎＯ₂、ＴｉＯ₂、およびＺｒＯ₂からなる群から選ばれる少なくとも１種）を含有するガラス組成物７１〜９５質量％と無機充填材５〜２９質量％の混合物を８５０〜９５０℃で焼成し結晶化させることを特徴とする結晶性ガラスセラミックス組成物であって、優れた溶融性と耐熱性を有しＥＬ背面基板、ＰＤＰ背面基板、磁気ヘッド基板、磁気ディスク、液晶基板等の各種電気機器分野に用いられる基板材料に好適である。 （もっと読む）

【課題】透明なガラスセラミックプレートと、不透明着色されたガラスセラミック調理プレートを提供する。
【解決手段】主結晶相が高石英混合結晶であり、酸化物換算の組成が質量で示して、４０〜４０００ｐｐｍのＮｄ_２Ｏ_３、Ｌｉ_２Ｏ ３．０−４．５（％、以下同じ）、Ｎａ_２Ｏ ０−１．５、Ｋ_２Ｏ ０−１．５、ΣＮａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０．２−２．０、ＭｇＯ ０−２．０、ＣａＯ ０−１．５、ＳｒＯ ０−１．５、ＢａＯ ０−２．５、ＺｎＯ ０−２．５、Ｂ_２Ｏ_３ ０−１．０、Ａｌ_２Ｏ_３ １９−２５、ＳｉＯ_２ ５５−６９、ＴｉＯ_２ １−３、ＺｒＯ_２ １−２．５、ＳｎＯ_２ ０−０．４、ΣＳｎＯ_２＋ＴｉＯ_２ ＜３、Ｐ_２Ｏ_５ ０−３．０、Ｎｄ_２Ｏ_３ ０．０１−０．４、及びＣｏＯ ０−０．００４とする。さらに必要に応じて、プレートの一面の全表面または表面の一部に、不透明で温度安定な着色コーティングを施して調理プレートとする。 （もっと読む）

【課題】 高周波特性および耐落下衝撃性に優れた誘電体磁器を提供する。
【解決手段】 ３点曲げ強度が２５０ＭＰａ以上であり、ガラスセラミックスを含んで構成され、結晶中にラメラ組織が存在することを特徴とする。さらに、少なくともディオプサイド型結晶とＡｌ_２Ｏ_３結晶とを含み、全体の結晶化度が７０％以上である。ディオプサイド型結晶を含むことで、高周波領域においてＱ値が大きく、高強度であり、耐候性に優れた誘電体磁器を実現することができる。 （もっと読む）