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国際特許分類[C03C10/04]の内容

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【課題】面内磁気記録方式および垂直磁気記録方式の何れにおいても、高密度記録のためのランプロード方式にも十分対応し得る良好な表面特性を兼ね備え、高速回転化に耐え得る高強度を有し、各ドライブ部材に合致する熱膨張特性や耐熱性をも兼ね備えた、溶融温度が低く生産性の高い情報記録媒体用ディスク基板用等の無機組成物を提供する。
【解決手段】α−石英(α−SiO)、二珪酸リチウム(LiSi)、モノ珪酸リチウム(LiSiO)からなる群より選ばれる1種または2種以上の結晶相を含む無機組成物。或いは、少なくともモノ珪酸リチウム(LiSiO)の結晶相を含む無機組成物。そして、これらの無機組成物に含有される結晶相を示す粒子の平均粒子径は1μm以下である。また、無機組成物のリング曲げ強度が300MPa以上であり、研磨加工後の表面粗度Ra(算術平均粗さ)が10Å以下である。 (もっと読む)


【課題】基板表面における表面粗さ、微小うねりを所定の範囲・関係にすることによって、所望のグライド高さを達成する。
【解決手段】ガラス基板の記録再生用領域における任意のガラス表面において、554.34μm×617.87μmの矩形領域を選択し、光を用いて該領域を走査し、基板面からの反射光と基準面からの反射光とを合成し、合成点に生じた干渉縞より、2μm〜500μmの波長の凹凸を抽出した表面形状を微小うねりとし、前記ガラス基板の記録再生用領域において、5μm×5μmの矩形領域を選択し、該領域の凹凸を原子間力顕微鏡で測定して得られる表面形状を表面粗さとしたときに、 前記微小うねりの最大高さの平均値が3.5nm以下であって、且つ、前記表面粗さの最大高さが6nm以下であること。 (もっと読む)


【課題】 未結晶化ガラス製の歯冠成形体を結晶化させるための加熱工程において変形が少なく、得られた歯冠補綴物においてスプルー部の切断痕の外観に高度に優れ、且つ簡便な方法で実施でき、多数の未結晶化ガラス製の歯冠成形体を並列的に結晶化させることも容易な、結晶化ガラス製歯冠補綴物の製造方法を開発すること。
【解決手段】 歯冠鋳造型を用いて、ディオプサイド系結晶化ガラス等の原料ガラスである未結晶化ガラス製の歯冠成形体を鋳造した後、該未結晶化ガラス製の歯冠成形体を歯冠鋳造型から取り出し、結合するスプルー部を切り取った後、上記未結晶化ガラスの結晶化温度で安定な石膏等の硬化性材料の硬化体中に包埋させた状態で加熱して結晶化させることを特徴とする結晶化ガラス製歯冠補綴物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】建築材料に必要な特性を向上させた、高級感のある新規な外観を有する模様入りガラス物品とその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の模様入り結晶化ガラス物品1は、析出結晶量が5〜50質量%の結晶化ガラスの基層2と、結晶化ガラスと非晶質ガラスとが反応して基層2の一面の実質的に全表面を覆う反応層3aと、その表面積の20〜80%を分散して覆う非晶質ガラス部3bによる透光面部3dとが模様を形成してなる表層3を有する。また、本発明の製造方法は、耐火容器内に、結晶性ガラス小体を集積して集積層とし、その実質的に全表面を覆って、かつ焼成後の表層3に、集積層の上面の結晶性ガラス小体との反応による反応層3aによる光散乱面部3cが部分的に出現する量の非晶質ガラス小体を分散させて積層体とし、積層体をガラスの粘度が104から105ポイズを示す温度域で焼成することにより、結晶化ガラス物品1を製造するものである。 (もっと読む)


【課題】 耐熱性、耐光性及び耐候性に優れ、従来の樹脂の劣化による発光ダイオード等のデバイスの発光強度劣化や短寿命化を抑制できる塊状蛍光体及びそれを用いた発光ダイオードを提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の塊状蛍光体は、無機材料のみから構成され、表面粗さ(Ra)が0.05〜3μmの範囲内にあることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高周波領域での比誘電率が6〜10である低誘電率誘電体層が積層された誘電体の製造。
【解決手段】層数が奇数の積層誘電体の製造方法で、偶数番目の原料層が含有するガラス粉末が、モル%で、SiO 23〜35%、B 0〜15%、Al 2〜15%、MgO 30〜50%、CaO 0〜12%、SrO 0〜12%、BaO 0〜4%、ZnO 2〜12%、等からなり、奇数番目の原料層が含有するガラス粉末が、SiO 36〜55%、B 0〜5%、Al 5〜20%、MgO 20〜45%、CaO+SrO 0〜20%、BaO 0〜10%、ZnO 0〜15%、等からなり、隣り合う誘電体層の線膨張係数の差が15×10−7/℃以下である。 (もっと読む)


【課題】長手方向を揃えて複数本積み重ねたときに、同時に高精度にスライス加工することが可能な円柱形状を有する結晶化ガラス体、該結晶化ガラス体を製造する方法、上記結晶化ガラス体から結晶化ガラス基板ブランクを製造する方法、該結晶化ガラス基板ブランクから磁気ディスク基板を製造する方法および該磁気ディスク基板から磁気ディスクを製造する方法を提供する。
【解決手段】ガラス成形体を加熱処理して得られる、長さL[mm]、外径公差 ±0.2mm以下、真直度 5×10−5×L[mm]以下の円柱形状を有することを特徴とする結晶化ガラス体であり、該結晶化ガラス体を製造する方法、上記結晶化ガラス体をスライスして結晶化ガラス基板ブランクを製造する方法、上記結晶化ガラス基板ブランクの主表面を研磨して磁気ディスク基板を製造する方法および上記磁気ディスク基板上に磁気記録層を形成して磁気ディスクを製造する方法である。 (もっと読む)


【課題】模様が大きくて、多様多彩、変化が豊富で、自由である模様付き結晶化ガラス物品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】軟化点よりも高い温度で焼成すると結晶性ガラスの表面から内部に向かって結晶を析出する結晶性ガラスを使用し、離型剤を塗った耐火物型枠10に結晶性ガラス小体12が集積されており、この集積面にS字の形状にカットされた二枚の結晶性ガラス板14A,14Bがカット面をつき合せた状態で敷いて置かれており、この状態で熱処理される。結晶性ガラス板は任意の形状に切り取り、その切り取り面(ガラスの外周端面)同士を密着させる。得られる結晶化ガラス物品は、天然大理石模様、人間模様、動物模様等様々な模様を付けた模様付き結晶化ガラス物品となる。 (もっと読む)


【課題】従来よりも白色度が向上し、従来にない色調を呈する天然大理石様結晶化ガラスとその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の天然大理石様結晶化ガラスは、結晶化ガラス表面のL*a*b*表色系色度における色座標a*及びb*が±1.0以下であって、かつ白色度L*が93.5以上であることを特徴とする。また、本発明の製造方法は複数個の結晶性ガラス小体を、耐火性容器に充填し、軟化点より高い温度で熱処理することにより、20〜50質量%の結晶を析出させて結晶化ガラス表面のL*a*b*表色系色度における白色度L*が93.5以上であり、かつ色座標a*及びb*が±1.0以下である天然大理石様結晶化ガラスを製造するものである。 (もっと読む)


【課題】エリプソメータを用いて薄膜評価を行うために使用される薄膜評価用基準基板及び薄膜評価方法を提供する。
【解決手段】エリプソメータを用いて薄膜評価を行うために使用される薄膜評価用基準基板であって、着色成分を含有する結晶化ガラスにより形成されることを特徴とする薄膜評価用基準基板とその基準基板を用いた薄膜評価方法であり、前記結晶化ガラスの主結晶として、Li2O・2SiO2を含有したり、前記着色成分としてCo、Cr、Ni及びMnの全てを含有し、前記Co、Cr、Niは酸化物CoO、Cr23、NiOとして各々0.3〜1.0重量%含有されており、前記Mnは酸化物MnO2として1.5〜2.5重量%含有されている場合や、前記薄膜評価用基準基板の表面の中心線平均粗さが2.0nm以下を満たすことがある。 (もっと読む)


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