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国際特許分類[C03C17/02]の内容

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【課題】強剛材または強化材、拡散防止層、抽出防止層、酸化保護層、電気絶縁層を基質に付与出来る新規な微小複合物の提供。
【解決手段】粒状、綿状、片形、板形、箔形、シート、積層体または成形品の形状のガラスまたは鉱物よりなる群から選択される基質および前記基質と接触する微小複合物により特徴づけられ、a)コロイド状無機粒子と、b)1種もしくはそれ以上のシランを、存在する加水分解可能な基1モル当り0.1〜0.45モル%の水を用いるゾル−ゲル法にて微小複合ゾルの生成、微小複合ゾルのさらなる加水分解と縮合、更に水を追加しての微小複合ゾルの活性化、およびその後の硬化により表面改質された複合材料。 (もっと読む)


【課題】成膜装置やプラズマ処理装置内でのパーティクルの発生を防止し、ハロゲン系ガスを用いたドライ洗浄におけるアルミニウムによる汚染を抑えることのできるガラス部材を提供する。
【解決手段】基材10上に石英ガラス溶射による、幅5〜300μm、高さ2〜200μmの、球状及び/又は釣鐘状の島状突起12を設け、該突起12に含まれるAlの濃度が20〜1000ppm、Feの濃度が2ppm以下であるガラス部材を提供する。 (もっと読む)


【課題】入射光を回折する回折部が形成されたガラス基板を備える回折素子であって、従来にない構成を有する回折素子とその製造方法とを提供する。
【解決手段】入射光を回折する回折部が形成されたガラス基板を備える回折素子であって、ガラス基板はAgおよびAgよりも貴な金属から選ばれる少なくとも1種の元素(元素X)を含み、回折部が、以下の(a)および(b)に示す元素Xの分布により、ガラス基板の内部に形成されている素子とする。(a)回折部に、元素Xの濃度が相対的に高い領域Aと、当該濃度が相対的に低い領域Bとが形成されている。(b)領域Aは、ガラス基板における所定の方向へ伸びており、回折部における当該所定の方向とは垂直な断面を見たときに、領域Aの少なくとも一部が領域Bをマトリクスとして周期的に配列している。 (もっと読む)


【課題】着色の程度が互いに異なる領域を含むガラス物品の製造方法であって、金属微粒子による着色の程度の低減をより低いエネルギーで実現できる製造方法を提供する。
【解決手段】電圧を印加するガラス物品が、ガラス板とガラス板上に形成された薄膜とを含み、ガラス板の導電率が薄膜の導電率より大きく、薄膜が金属微粒子を含有し、電圧を印加するための陽極および陰極の間に薄膜およびガラス板を配置しながらガラス物品に電圧を印加して、電圧印加領域において、薄膜中の金属微粒子の少なくとも一部をイオン化する。ガラス板の導電率を薄膜の導電率よりも大きくするために、互いに異なる導電率を発現する組成を有するガラス板および薄膜としてもよく、例えば、ガラス板がアルカリ金属元素を含み、かつ、ガラス板におけるアルカリ金属元素の含有率を、薄膜におけるアルカリ金属元素の含有率よりも高くしてもよい。 (もっと読む)


【課題】ピットやスクラッチのような凹欠点を有する基板表面を平滑化する方法の提供。
【解決手段】凹欠点を有するガラス基板表面を平滑化する方法であって、乾式成膜法を用いて前記凹欠点を有するガラス基板表面に、流動点Tfが150℃以上前記ガラス基板の歪点Ts(℃)以下のガラス質材料からなる膜を形成する工程、および前記ガラス質材料からなる膜を前記Tf以上前記Ts以下の温度で加熱処理して、前記ガラス質材料からなる膜が欠点を埋めるように流動できるような状態とした後、前記ガラス質材料からなる膜を冷却することにより、前記凹欠点を有するガラス基板表面を平滑化する方法。 (もっと読む)


本発明は表面を構造化する方法、すなわち、剛性ガラス要素(1)及び該ガラス要素(1)に付着された少なくとも一つの層(1a)を含む製品の平表面上にサブミクロンスケールの横方向の特性寸法を有するパターン(feature)のアレイを少なくとも一つ形成する方法に関し、構造化は前記層(1a)上で行われ、塑性変形又は粘塑性変形による表面構造化はマスク(10)と呼ばれる構造化された要素との圧力下での接触によって行われ、構造化は製品の表面と平行な連続的な運動及び製品の表面の平面に平行な軸の周りのマスクの運動によって行われる。本発明はさらに、構造化された表面を持つガラス製品、及びその使用に関する。 (もっと読む)


【課題】半導体等の製造におけるプラズマ処理装置(プラズマクリーニング装置、アッシング装置、スパッタ装置)等プラズマを用いる装置に使用する部材はプラズマによるエッチングによる消耗や、パーティクル発生による製品の汚染、歩留まり生産性低下等の問題があった。
【解決手段】少なくともSi、O及び、3a族元素又は2a族とZrとから構成された耐蝕性溶射膜が表面にコーティングされた真空装置用部材は、プラズマに対する耐蝕性が高く、パーティクルの発生が少なく、このような耐蝕性部材は、例えば、窒化ケイ素、シリカ及び3a族酸化物粉末と、ジルコニア粉末との混合粉末を基材に対して溶射することによって製造することができる。 (もっと読む)


【課題】
安価でプラズマ耐食性、特にF系プラズマガスに対する耐食性に優れた半導体製造用治具として用いられる石英ガラス部材を提供する。
【解決手段】
半導体製造用治具として用いられる石英ガラス部材であって、ノンドープ石英ガラス部材と、当該石英ガラス部材の所定部位にドープ石英ガラス材料を用いて形成されたドープ石英ガラス部分と、から構成されるようにした。前記ドープ石英ガラス部分が、ドライエッチング工程のプラズマガスに被曝する部分に構成されることが好ましい。 (もっと読む)


積層板は、フュージョン成形された光学表面を持つ表面層および表面層に機械的支持を与えるコア層を有してなる。コア層は、表面層よりも高い弾性率を有する。積層板を形成する方法は、第1の粘性流動性材料を第1のオーバーフロー流路に供給し、ファイヤー・ポリッシュの品質の少なくとも1つの未接触表面を有する第1の板状流れを形成するように制御された様式で第1の粘性流動性材料をオーバーフローさせ、第1の板状流れを第2の材料と合体させることによりファイヤー・ポリッシュの品質の少なくとも1つの未接触表面を有する積層流れを形成し、積層流れを積層板に引き出す各工程を有してなる。
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【課題】 植物の成長を促進または抑制する効果が得られる光条件の環境を形成することができると共に、優れた耐候性、耐紫外線性および機械的強度を有する植物成長制御用光透過材料、並びに、植物成長制御用透光性材料およびその製造方法の提供。
【解決手段】 植物成長制御用光透過材料(植物成長促進用光透過材料または植物成長抑制用光透過材料)は、植物育成空間の光条件を調整するための光透過材料であって、低融点ガラスよりなる基材中に遷移金属イオンよりなる光吸収材がドープされてなり、光合成有効光量子束透過率が50%以上であり、かつ波長領域700〜800nmの近赤外光の光量子束に対する波長領域600〜700nmの赤色光の光量子束の比が、成長促進用では0.9以下とされ、成長抑制用では1.3以上とされる。 (もっと読む)


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