国際特許分類[C03C8/04]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | ガラス;鉱物またはスラグウール (20,277) | ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着 (12,070) | ほうろう;うわ薬;非フリット添加物をもつフリット組成物である溶融封止剤組成物 (1,088) | フリット組成物,つまり粉末化または粉砕された形にあるもの (479) | 亜鉛を含むもの (201)
国際特許分類[C03C8/04]に分類される特許
21 - 30 / 201
ビスマス系ガラス
【課題】低融点特性を有するにもかかわらず、真空焼成によりガラス組成中のビスマスが還元し難いビスマス系ガラスを創案すること。
【解決手段】本発明のビスマス系ガラスは、ガラス組成として、モル%で、Bi2O3 10〜30%、B2O3 25〜45%、ZnO 5〜20%、SiO2 1〜15%、SrO 5〜20%、BaO 3〜20%、SrO+BaO(SrO、BaOの合量) 10〜35%を含有することを特徴とする。
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高温ガラスソルダー及びその使用
【課題】約1100℃以下のろう付け温度で加工でき、かつろう付け工程の終了後に約900℃までの作動温度で使用できる高温度用ガラスソルダーを提供する。
【解決手段】20℃〜300℃の温度範囲での線熱膨張α(20-300)を8×10-6K-1〜11×10-6K-1の範囲で有し、質量%で10〜45%未満のBaO、0〜25%のSrO(20〜65%のBaO+SrO)、10〜31%のSiO2、2%未満のAl2O3、0〜10%のCs2O、0〜30%のRO、0〜30%のR2O3、0〜20%のR2Oからなるガラスソルダー。(ROはアルカリ土類金属酸化物、R2O3はB2O3等からなる酸化物、R2OはTi2O等の酸化物からなる。)
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半導体被覆用ガラスおよびそれを用いてなる半導体被覆用材料
【課題】環境への負担が小さくかつ表面電荷密度が大きい半導体被覆用ガラスを提供する。
【解決手段】質量%で、ZnO 50〜65%、B2O3 19〜28%、SiO2 7〜15%、Al2O3 3〜12%、Bi2O3 0.1〜5%の組成を含有し、鉛成分を実質的に含有しないことを特徴とする半導体被覆用ガラス。
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光学ガラス、ガラスフリット及びガラス層付き透光性基板
【課題】失透し難く、かつ結晶化し難い光学ガラスを提供すること。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物基準のモル%表示で、P2O5を0〜20%、B2O3を15〜60%、Bi2O3を10〜37%、ZnOを5〜50%、SiO2を0〜20%、Al2O3を0〜10%、ZrO2を0〜5%、Gd2O3を0〜10%、TiO2を0〜15%、Li2OとNa2OとK2Oを合計で0〜5%、MgOとCaOとSrOとBaOを合計で0〜10%含有し、P2O5の含有量をZnOの含有量で割った値が0.48未満であり、P2O5とB2O3の含有量の合量が30〜60%であり、P2O5とB2O3の含有量の合量が50%を超えるときはP2O5の含有量は10%以下であることを特徴とする。
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無鉛ガラス組成物
【課題】黄変現象が効果的に抑制ないしは防止できる無鉛ガラス組成物を提供する。
【解決手段】酸化物のモル%表示で、A)下記の組成;(1)SiO2:19〜26.5%、(2)Al2O3:2〜15%、(3)B2O3:33〜57%、(4)ZnO:2〜16%、(5)MgO及びCaOの少なくとも1種:0.1〜9%、(6)SrO及びBaOの少なくとも1種:0.1〜4%、(7)MgO、CaO、SrO及びBaOの合計:0.2〜13%、(8)Li2O、Na2O及びK2Oの少なくとも1種:9〜17%、(9)ZrO2、TiO2及びLa2O3の少なくとも1種:0〜3%を有し、かつ、B)下記の比率;(1)K2O/(Li2O+Na2O+K2O):0.40〜0.80、(2)(SiO2+B2O3)/(Li2O+Na2O+K2O):4.0〜7.0を有することを特徴とする無鉛ガラス組成物。
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封着材料
【課題】低温で封着可能であり、且つ熱的安定性が良好であるとともに、高温で排気しても軟化変形し難く、しかもソーダガラス板の熱膨張係数にマッチングした封着材料を創案することにより、低圧複層ガラスの内部の気密性を維持しつつ、低圧複層ガラスの信頼性や生産性を高めること。
【解決手段】本発明の封着材料は、ガラス粉末と耐火性フィラーを含有する封着材料において、ガラス粉末を50〜80体積%、耐火性フィラーを20〜50体積%含有し、ガラス粉末が、ガラス組成として、質量%で、Bi2O3 67〜90%、B2O3 2〜12%、ZnO 1〜20%、BaO+CuO+Fe2O3+Sb2O3 0〜20%を含有し、且つ低圧複層ガラスの封着に用いることを特徴とする。
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点火プラグ
【課題】点火プラグが細経化されても、高周波雑音電波の発生を十分に抑制し得る抵抗体
形成用ガラス組成物を創案することにより、点火プラグの信頼性および生産性を高めるこ
と。
【解決手段】本発明の抵抗体形成用ガラス組成物は、ガラス組成として、質量%で、Si
O2 35〜60%、B2O3 25〜55%、Li2O+Na2O+K2O 0〜20%、Z
nO 0.1〜25%を含有することを特徴とする。
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非鉛系ガラス及び複合材料
【課題】 700℃以下の温度で焼成でき、メッキ処理によってオーバーコート層が侵食され難く、しかも、安価な非鉛系ガラス及びそれを用いた複合材料を提供することである。
【解決手段】 本発明の非鉛ガラス系は、実質的にPbO及びBi2O3を含まず、モル百分率で、SiO2 40〜55%、B2O3 13〜29%、Al2O3 7〜17%、ZnO 3〜15%未満、MgO 0〜5%、CaO 0〜5%、SrO 0〜5%未満、BaO 0〜5%未満、MgO+CaO+SrO+BaO 0〜15%、Li2O+Na2O+K2O 5〜20%含有することを特徴とする。
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抵抗体形成用ガラス組成物
【課題】点火プラグが細経化されても、高周波雑音電波の発生を十分に抑制し得る抵抗体形成用ガラス組成物を創案することにより、点火プラグの信頼性および生産性を高めること。
【解決手段】本発明の抵抗体形成用ガラス組成物は、ガラス組成として、質量%で、SiO2 35〜60%、B2O3 25〜55%、Li2O+Na2O+K2O 0〜20%、ZnO 0.1〜25%を含有することを特徴とする。
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ビスマス系非鉛ガラス及び複合材料
【課題】 700℃以下の温度で焼成でき、しかも、メッキ処理によってオーバーコート層が侵食され難いビスマス系非鉛ガラス及びそれを用いた複合材料を提供することである。
【解決手段】 本発明のビスマス系非鉛ガラスは、実質的にPbOを含まず、質量百分率で、Bi2O3 36〜65%、B2O3 10〜30%、SiO2 10超〜30%、Al2O3 5〜20%、MgO+CaO+SrO+BaO 0〜20%、ZnO 0〜2%未満、Li2O+Na2O+K2O 0〜10%含有することを特徴とする。
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