【課題】電気化学デバイス用電解液に好適に用いられる含フッ素アルキルスルホン化合物を高収率で製造する方法、および該化合物を含有する電気化学デバイス用電解液を提供する。
【解決手段】下式（１）で示される含フッ素アルキルスルフィド化合物を、タングステン酸塩触媒の存在下、酸化剤を用いて酸化する下式（２）で示される含フッ素アルキルスルホン化合物の製造方法。




（式中、Ｒ^１は炭素数０〜３の直鎖状または分岐状のアルキレン基を示し、Ｒ^２は炭素数１〜５の直鎖状または分岐状のアルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】例えば、trans-1,2-ビス（フェニルスルホニル）エチレン等を合成できる化合物を、簡単、かつ、低廉なコストで、生産性良く製造する方法を提供することである。
【解決手段】下記一般式［Ｉ］で表される化合物と下記一般式［ＩＩ］で表される化合物との反応工程Ａと、前記反応工程Ａによる生成物が酸化される酸化工程Ｂとを具備し、前記酸化工程Ｂは、酸化触媒および相間移動触媒の存在下で行われる反応方法。
一般式［Ｉ］ ＣＲＨＸ−ＣＲＸ_２
一般式［ＩＩ］ ＰｈＳＭ （もっと読む）

【課題】例えばtrans-1,2-ビス（フェニルスルホニル）エチレンの高純度品を提供する。
【解決手段】一般式［Ｉ］で表される化合物［ＰｈＯ_２Ｓ−ＣＲ＝ＣＲＸ］［一般式［Ｉ］中、Ｐｈは置換基を有することもあるフェニル基である。ＲはＨ、Ｘ又はアルキル基である。全てのＲは同一でも異なっていても良い。Ｘは反応性基である。］と一般式［ＩＩ］で表される化合物［（ＰｈＳＯ_２）_ｋＭ］［一般式［ＩＩ］中、Ｐｈは置換基を有することもあるフェニル基である。ｋは１又は２である。ＭはＨ又は金属原子である。］との反応であって、前記反応は相間移動触媒の存在下で行われる。 （もっと読む）

【課題】融点が比較的低く、熱的安定性に優れ、さらに水の溶解度が低く、高い分解電圧特性を有する非プロトン性極性溶媒に有用な新規のスルホン化合物を提供する。また、該スルホン化合物の製造方法、および該スルホン化合物を用いて製造される電気化学デバイス用電解液を提供する。
【解決手段】式（１）で表されるスルホン化合物。
［化１］


式（１）中、Ｒは炭素数１〜６のアルキル基を示す。 （もっと読む）

【課題】エネルギー貯蔵デバイスの電解液に好適に使用可能な、新規な含フッ素スルホンを提供する。
【解決手段】下記式（１）：
[化１]


（式中、Ｒ^１は酸素原子が挿入されていてもよい炭素数１〜７のアルキル基又は炭素数１〜７のフルオロアルキル基である。Ｒ^２は、−ＣＦ_２ＣＸＹＨ（式中、ＸおよびＹは、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、臭素原子、ヨウ素原子、炭素数１〜５のフルオロアルキル基又は炭素数１〜５のフルオロアルコキシ基である。）で表わされる基である。）で表されることを特徴とする含フッ素スルホンである。 （もっと読む）

【課題】より優れた除草剤を提供する。
【解決手段】
【化１】
式（Ｉ）；


[式中、ｙは２であり、Ａはジアルコシキメチル（但し、アルコキシは炭素数１〜６のアルコキシである）であり、Ｒ^１はハロゲンであり、Ｒ^２は炭素数１〜６のアルキルスルホニルであり、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８は各々水素原子であり、Ｑは水素原子又はベンゾイルである］で表されるトリケトン系化合物又はその塩。 （もっと読む）

【課題】光学活性エポキシ化合物及び光学活性スルホキシド化合物の製造方法、並びに該方法に用いる配位子、錯体及び該錯体の製造方法の提供。
【解決手段】下記式（２１ａ）、式（２１ｂ）、式（２２）等


で表される構造を有する光学活性チタンサレン錯体、光学活性チタンサラレン錯体及び光学活性チタンサラン錯体と、当該錯体を触媒として用いるオレフィン化合物又はスルフィド化合物の不斉酸化反応による、光学活性エポキシ化合物又は光学活性スルホキシド化合物の製造方法、並びに該方法に用いる配位子、錯体及び該錯体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】医薬品等の合成中間体として有用な４−ハロフェニルアルキルスルホンを工業的に有利な簡便な方法で高収率で製造する方法を提供する。
【解決手段】フェニルアルキルスルフィドとハロゲンとを反応させて、式（２）；


（式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）で表される４−ハロフェニルアルキルスルフィドを得て、引き続き、酸化剤と反応させる式（３）；


で表される４−ハロフェニルアルキルスルホンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】（フルオロアルキルチオ）酢酸エステルの新規な製造方法を提供すること。
【解決手段】式（１）で示されるチオグリコール酸エステル（式中、Ｒは水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表わし、Ｒ^１は炭素数１〜４のアルキル基を表わす。）と式（２）で示されるフルオロオレフィン（式中、Ｒ^２は炭素数１〜５のフルオロアルキル基を表わす。）とを、ラジカル発生剤存在下に反応させることを特徴とする式（３）で示される（フルオロアルキルチオ）酢酸エステル（式中、Ｒ、Ｒ^１およびＲ^２は上記と同一の意味を表わす。）の製造方法。
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