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国際特許分類[C07C317/48]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 有機化学 (230,229) | 非環式化合物または炭素環式化合物 (64,036) | スルホン;スルホキシド (806) | スルホンまたはスルホキシド基とカルボキシル基が同じ炭素骨格に結合しているもの (252) | 炭素骨格がさらにニトロまたはニトロソ基の一部でない単結合の窒素原子で置換されたもの (43)

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【課題】システインプロテアーゼ、特にカテプシンB、K、L、F及び/又はSを阻害するの阻害剤であり、これらのプロテアーゼにより介在される疾患の治療において有用である化合物を提供する。
【解決手段】例えば、下記構造式の化合物。
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【課題】光学活性α−アミノ酸誘導体の製造に際して、外部添加の塩基を必要としない技術を提供する。
【解決手段】M(OR1)2(但し、Mはアルカリ土類金属元素、R1はアルキル基)とMに結合をする配位子を構成する下記の式[I]で表される構造の化合物又はその鏡像体である金属触媒。式[I]


[但し、式[I]中、R2は脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基で、全てのR2は同一でも異なっていても良く、R3はH、脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基で、全てのR3は同一でも異なっていても良く、R4はH、アルキル基、アリール基、炭素との結合原子がヘテロ原子である置換基またはシアノ基である。] (もっと読む)


GABAB受容体リガンドである式(I)のγ-アミノ酪酸誘導体、かかる誘導体を含む医薬組成物、ならびにかかる誘導体およびその医薬組成物を疾患を治療するために用いる方法を開示する。R5は-COOH、-SOOH、および-P(O)(OH)R8から選ばれ、ここでR8は水素およびC1-4アルキルから選ばれる。
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本発明は、2-Nハロ-4-メチルスルホニル-酪酸、例えば2-Nクロロ-4-メチルスルホニル-酪酸の化合物、又はその医薬として許容される塩、若しくはその溶媒和物に関する。更に、本発明は、それを必要とする対象に、2-Nハロ-4-メチルスルホニル-酪酸を投与することにより、炎症、又は炎症に関連する障害、ウイルス感染、疼痛、又は皮膚状態(skin condition)を処置する方法に関する。 (もっと読む)


ロイコトリエンCシンターゼの阻害が望ましいおよび/または必要である疾患の治療において、特に呼吸器疾患および/または炎症の治療において有用な、式I:


[式中、Y、環A、D、D、D、D、L、Y、L、Y、LおよびYは、説明の中で与えられる意味を有する]
の化合物、および医薬的に許容されるその塩が提供される。
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【課題】優れた物理化学的性質を有し、とりわけバイオアベイラビリティーの改善された、薬理学的に活性なベンゾフェノン誘導体を提供する。
【解決手段】下記の一般式Iで示される新規アミノベンゾフェノン誘導体は、


インターロイキン1β(IL−1β)および腫瘍壊死因子α(TNF−α)の分泌をインビトロで強力に抑制し、それ故、サイトカイン、またはとりわけインターロイキン1β(IL−1β)および腫瘍壊死因子α(TNF−α)の分泌および調節が発病に関与する炎症性疾患の処置に有効である。一般式Iの化合物の生物学的活性を充分に維持しながら、R6で示される置換基を操作して該化合物の物理化学的特性を制御しうる。 (もっと読む)


本発明はシステインプロテアーゼの、特にカテプシンB、K、L、F、及びSの阻害剤であって、ひいてはこれらのプロテアーゼが媒介する疾患の治療に有用な化合物に関する。本発明は、これらの化合物を含有する医薬組成物、及びそれらの調製方法にも関する。 (もっと読む)


【課題】紫外線吸収剤等として有用なアミン類を、安定に且つ高純度で製造する方法を提供する。
【解決手段】例えば下記反応式で例示される様な特定の構造を有するアミンと、アミノブタジエン化合物等を包含する化合物と、を原料として用いた置換反応工程の後に、少なくとも1種の誘電率5以上の有機溶媒(A)と、少なくとも1種の誘電率5未満の有機溶媒(B)と、水との共存下にて、特定のアミン類を抽出して、有機層として分液する抽出・分液工程を少なくとも1回有する、特定のアミン類の製造方法。
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【課題】細菌感染および新生物などの多くのテトラサイクリン化合物反応状態等を治療するために有用な、新規の置換テトラサイクリン化合物を提供する。
【解決手段】下記式の化合物。


式中XはCH、CH−アルキル等を、R、R2’、R、R10、R11、R12は水素等を、Rはジメチルアミノ基等を、Rは水素等を、Rは水素、カルボキシル基、アミノ基、シアノ基、置換していてもよいフェニル基、複素環基等を、Rは水素等を、Rは水素、アルキル基、アミノ基等を表す。 (もっと読む)


【課題】フォトリソグラフィを利用した微細加工を行うために使用される新規なフォトレジスト用化合物、それを用いたフォトレジスト液、およびその液を使用するエッチング方法の提供。
【解決手段】一般式(I)で表される化合物またはその塩であるフォトレジスト用化合物。


[R1およびR2はHまたは置換基、L1〜L3は置換基を有していてもよいメチン基を表し、V1およびV2は少なくとも一方はハメットの置換基定数σpが0.2〜0.9の範囲の置換基、またはV1およびV2が窒素を含有するへテロ環を形成してもよく、nは0または1を表す。] (もっと読む)


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