【課題】糖残基とアクリル基との間にスルフィド結合を有するアルキレン鎖を含む新規のアクリル（メタクリル）エステル含有糖誘導体及びその製造方法を提供する
【解決手段】アクリル（メタクリル）エステル含有アルコールと、糖又はグリコシドとを酸触媒及び重合禁止剤の存在下で反応させ、一般式（１）；
【化３】


（式中のＧ−Ｏ−は保護基を有しない糖残基を示す。Ａはスルフィド結合を有するアルキレン鎖を示す。Ｒ１は水素又はメチル基を示す。）で示されるアクリル（メタクリル）エステル含有グリコシド誘導体を製造する。 （もっと読む）

【課題】医農薬・機能性物質の原料として有用な（置換プロピルスルファニル）−アルキルアルコールを、環境問題を解決して安全且つ効率良く製造することのできる方法の提供。
【解決手段】式（１）（式中のＸは、ハロゲン、水酸基、アルキルエーテル基、芳香族エーテル基、ベンジルエーテル基、トリアルキルシリルエーテル基、アルキルエステル基またはアルキルアミド基を示す。）で表わされるアリル化合物を、アゾ化合物存在下、式（２）（式中のＡは、アルキレン基を示す。）で表されるヒドロキシメルカプト化合物と反応させることを特徴とする、式（３）で表される（置換プロピルスルファニル）−アルキルアルコールの製造方法。




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【課題】 本発明は、大掛かりな装置を用いることなく高収率で、工業的に安価で簡便なジチオール化合物の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 下記一般式（１）で表されるジハロゲン化合物と下記一般式（２）で表される水硫化物を相間移動触媒の存在下で反応させる（式中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｙはヘテロ原子及び／又は反応に関与しない炭化水素基であり、その炭素水素基中にヘテロ原子又は環構造を含有していてもよい、Ｍはアルカリ金属を表す。）。
Ｘ−ＣＨ_２−Ｙ−ＣＨ_２−Ｘ・・・（１）
ＭＳＨ・・・（２） （もっと読む）

【課題】効率のよい２−ヒドロキシ−４−（メチルチオ）酪酸の製造方法を提供すること。
【解決手段】銅化合物の存在下、４−（メチルチオ）−２−オキソ−１−ブタノールと、酸素と、水または１級アルコールとを反応させる２−ヒドロキシ−４−（メチルチオ）酪酸またはそのエステルの製造方法。該製造方法に用いる４−（メチルチオ）−２−オキソ−１−ブタノールは、チアゾリウム塩および塩基の存在下、３−メチルチオプロピオンアルデヒドとホルムアルデヒドとを反応させることにより、容易に製造できる。 （もっと読む）

【課題】 従来技術の難点を解消し、半導体製造の微細なパターン形成に用いられ、従来品を上回る高感度なポジ型感光性樹脂、その製造方法及び当該ポジ型感光性樹脂を含むレジスト組成物を提供する。
【解決手段】 本発明のポジ型感光性樹脂は、エチレン性二重結合を有する２種以上の重合性化合物を重合させることにより得られる共重合体であって、酸によって切断される結合を含む３価以上の多価チオールの存在下に重合して得られ、該多価チオールに由来すると共に、酸によって切断される結合を含む構造を有してなることを特徴とし、その製造方法は、エチレン性二重結合を有する２種以上の重合性化合物を、一般式（２）
【化１８】


で表される多価チオールの存在下で重合させることを特徴する。 （もっと読む）

【課題】高屈折率を有するフェノール誘導体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】下記式で代表されるフェノール誘導体。
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【課題】本発明は、直鎖アルキル鎖を有する化合物またはこれを含む組成物の物性を改変するための化学物質改質剤、当該化学物質改質剤を用いた改質化合物及び改質組成物の製造方法、並びに当該改質組成物の製造方法によって得られた改質化合物及び改質組成物を提供する。本発明は新規ジカルボン酸ジエステル化合物を提供する。
【解決手段】以下の一般式（１）
Ｒ^１−(ＣＨ_２)_ｉ−Ｏ−[(ＣＨ_２)_ｊ−Ｏ]_ｋ−(ＣＨ_２)_ｌ−Ｒ^２ （１）
（一般式（１）中、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立して水素原子、ヒドロキシル基、メルカプト基、ハロゲン原子、アクリロイルオキシ基、カルボキシル基、アミノ基、シアノ基、又は、ビニル基を示し、ｉ及びｌはそれぞれ独立して２以上２０以下の整数であり、ｊは２以上１２以下の整数であり、ｋは０以上７以下の整数であって、ｉ、ｊ、ｋ及びｌが一定の関係を満たす。）で表される構造を有する化学物質改質剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】エチレオキシドと硫化水素から、良好な収率で２−メルカプトエタノールを製造する。
【解決手段】式（１）


（式中、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれアルキレン基又はアルキリデン基を表し、ｎは１以上の整数を表す。）で示される構造単位を有する樹脂の存在下に、エチレンオキシドと硫化水素とを反応させる。反応溶媒としては、炭化水素が好ましく用いられる。硫化水素の使用量は、チオジエタノール〔S(CH₂CH₂OH)₂〕の副生を抑制する点から、エチレンオキシドに対して、好ましくは１．３〜３モル倍である。 （もっと読む）

【課題】イオン透過が良好な電子デバイス用基板、その製造方法、それらに用いられる化合物、化合物の製造方法および電子デバイス用基板に用いられる化合物を含む重合開始剤を提供すること。
【解決手段】本発明は、下記一般式（１）
【化１】


（式中、Ｘは水素原子または保護基を示し、Ｙ^１は酸素原子、アルキレン基または−Ｎ（Ｒ^１）−を示し（Ｒ^１はアルキル基を示す。）、Ｚ^１は重合開始基を示し、ｎ^１は１〜４であり、ｍ^１は１〜１５である。）
で表される化合物およびその製造方法ならびに表面２１に、金属および／または金属酸化物を有する基板２と、前記一般式（１）で表される化合物を有する下地層３とを有する電子デバイス用基板１およびその製造方法を提供することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】チオエーテル基を有するモノマーを高収率で製造することができるチオエーテル基を有するモノマーの製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）エチレン性不飽和二重結合を有する酸ハロゲン化物と、（Ｂ）チオエーテル基を有するアルコールを反応させて、チオエーテル基を有するモノマーを製造する、モノマーの製造方法において、前記酸ハロゲン化物と、前記アルコールとの反応を、ｐＫａが３．０以上８．０以下の塩基存在下で行うことを特徴とするチオエーテル基を有するモノマーの製造方法である。 （もっと読む）