フェノール誘導体及びその製造方法
【課題】高屈折率を有するフェノール誘導体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】下記式で代表されるフェノール誘導体。
【解決手段】下記式で代表されるフェノール誘導体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フェノール誘導体及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学用樹脂の重要な特性のひとつに屈折率がある。屈折率を精密に制御することは、光学レンズ、光導波路等に応用する際、必要不可欠である。屈折率の制御には、樹脂中に様々な置換基を導入する手法が広く用いられている。光学樹脂、特に光学特性に優れるアクリル樹脂の高屈折率化は、光導波路や光学レンズ用途に非常に有用である。樹脂の高屈折率化には、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子及び芳香環等の導入が有効とされている（例えば特許文献１）。
【０００３】
新しいポリマー素材はこれまでのように単一機能性ではなく、複合化された多機能性及び高次構造に基づく新しい機能が求められている。
例として、グラフトポリマー、ブロックポリマーは従来のポリマーが単一相であるのに対してミクロ的に多相構造を有するポリマーであり、その組み合わせの多様性等から、柔軟性と多面的な機能を持つポリマーとして今後の展開が期待されている。
【０００４】
また、枝分かれ構造を有する分岐ポリマーは、直鎖状ポリマーと比較して、慣性半径が小さいことから溶液粘度が低く、有機溶媒に対して高い溶解性を示し、末端官能基数が多いことから機能化に有利であるため、様々な分野への応用が可能である。
【０００５】
最近、Ｅ．Ｎｉｃｏｌらはチオール類をジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）により塩形成することでチオレート類を形成し、これを開始剤として用いたチイラン類のアニオン重合を報告しており（非特許文献１）、さらに遠藤らはこのシステムを用いた含硫黄ヘテロアームスターポリマーの合成を報告している（非特許文献２）。
【０００６】
しかしながら、これらの方法はいずれも開始剤に活性エステルもしくは第一級チオールを有していることが条件となり、開始重合においてはさらにその条件が狭くなる。そのため選択可能な開始剤は限られ、汎用性にかける。その他、長時間の反応時間が必要とされることや、開始剤を新たに合成しなければならないことも、大量生産等を考慮したときにデメリットとなる。
【特許文献１】特開平４−０５５４１６号公報
【非特許文献１】E.Nicol, C.B.Plaisance, P.Dony,G.Levesque, Macromol.Chem.Phys.,202,2843 (2001)
【非特許文献２】S.Akane, N.Daisuke, Bungo,E.Takeshi, Macromolecules,37,8823 (2004)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、高屈折率を有するフェノール誘導体及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、硫黄原子を含むフェノール性水酸基について化学修飾の検討を詳細に行い、ポリチオエーテル鎖を伸長することにより、高屈折率樹脂を見出すことができた。
本発明によれば、以下のフェノール誘導体及びその製造方法が提供される。
１．下記式（１）、（２）、（３）、（４）で表されるフェノール誘導体。
【化４】
（式（１）、（２）、（３）、（４）中、ｎは０〜３の整数を表し、ｍは０〜１０００の整数を表し、ｌは４〜１０の整数を表し、ｋは０〜１０００の整数を表す。Ｒ１は水素、−ＯＨ又は炭素数１〜１０の１価のアルキル基を示し、Ｒ２、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ炭素数１〜２０の１価の有機基を示しこれらは同一でも異なっていてもよい。Ｒ３及びＲ４はそれぞれ水素又は炭素数１〜２０の１価の有機基を示し、またＲ３とＲ４は結合してもよく、Ｘは酸素又は硫黄を示し、Ｒ７は酸素原子、硫黄原子又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。Ｒ８及びＲ９はそれぞれ水素又は炭素数１〜２０の１価の有機基を示し、またＲ８とＲ９は結合してもよい。）
２．下記式（５）、（６）、（７）、（８）で表されるフェノキシド塩に、下記式（９）で表されるチイラン誘導体及び／又は下記式（１０）で表される化合物を反応させ、さらにＲ２Ｚ（Ｒ２は式（１）、（２）、（３）、（４）と同じであり、Ｚはハロゲンである。）を反応させる１記載のフェノール誘導体の製造方法。
【化５】
（式中、Ｙはアルカリ金属を表し、ｎは０〜３の整数を表し、ｌは４〜１０の整数を表し、Ｒ１は水素、−ＯＨ又は炭素数１〜１０の１価のアルキル基を示し、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ炭素数１〜２０の１価の有機基を示し、これらは互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ７は酸素原子、硫黄原子又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）
【化６】
（式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８、Ｒ９及びＸは式（１）、（２）、（３）、（４）と同じである。）
３．重合性基を有する１記載のフェノール誘導体。
４．３記載のフェノール誘導体に加熱又は活性エネルギー線照射を行うことによって得られる３次元硬化物。
５．３記載のフェノール誘導体に加熱又は活性エネルギー線照射する４記載の３次元硬化物の製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、高屈折率を有するフェノール誘導体及びその製造方法が提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明のフェノール誘導体は式（１）〜（４）で表される。
【００１１】
式（１）及び（５）中のＲ１は水素、−ＯＨ又は炭素数１〜１０の１価のアルキル基を示す。１価のアルキル基として、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基等のアルキル基がある。Ｒ１は好ましくは水素又は炭素数１〜４のアルキル基である。
【００１２】
式（１）〜（４）中のＲ２は、炭素数１〜２０の１価の有機基であり、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基等のアルキル基や、ビニル基、アリル基等のアルケニル基や、シクロヘキシル基、ノルボルネン基等の飽和又は不飽和環状脂肪族炭化水素基や、フェニル基、ナフチル基等の芳香族基や、エーテル類、エステル類、アミノ類、及びこれらの置換された有機基である。好ましくは炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルキル基で置換された又は無置換のベンジル基又はナフチルアルキレン基（好ましくは炭素数１〜４）である。
【００１３】
式（１）及び（５）中のｎは、０〜３の整数であり、好ましくは１〜３である。
【００１４】
式（２）〜（４）及び（６）〜（８）中のｌは、４〜１０の整数であり、好ましくは４〜６である。
【００１５】
式（１）〜（４）中のＲ３及びＲ４はそれぞれ水素又は炭素数１〜２０の１価の有機基であり、例えば、互いに独立してメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基等のアルキル基や、ビニル基、アリル基等のアルケニル基や、シクロヘキシル基、ノルボルネン基等の飽和又は不飽和環状脂肪族炭化水素基や、フェニル基、ナフチル基等の芳香族基や、エーテル類、エステル類、アミノ類、及びこれらの置換された有機基である。また、Ｒ３とＲ４が結合して、例えばシクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、ノルボルナン環等の環を形成してもよい。好ましくは、Ｒ３は水素又は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ４は炭素数１〜４のアルキル基で置換された又は非置換のフェノキシアルキル（好ましくは炭素数１〜４）基である。
【００１６】
式（２）、（３）、（６）及び（７）中のＲ５及びＲ６は、炭素数１〜２０の１価の有機基であり、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基等のアルキル基や、ビニル基、アリル基等のアルケニル基や、シクロヘキシル基、ノルボルネン基等の飽和又は不飽和環状脂肪族炭化水素基や、フェニル基、ナフチル基等の芳香族基や、エーテル類、エステル類、アミノ類、及びこれらの置換された有機基である。好ましくは炭素数１〜４のアルキル基、イソブチル基、炭素数１〜４のアルキル基で置換された又は無置換のフェニル基である。
【００１７】
式（１）〜（４）中のｍは１〜１０００の整数であり、好ましくは１〜５００である。
式（１）〜（４）のフェノール誘導体の数平均分子量は好ましくは１０００〜５００００である。
【００１８】
式（２）及び（６）中のＲ７は酸素原子、硫黄原子又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。例えば、２価の有機基として、メチレン基、エチレン基、アセチレン基等のアルキレン基、フェニレン基等の芳香族基及びこれらの置換された有機基であり、好ましくは炭素数１〜４のアルキレン基である。
【００１９】
式（１）〜（４）中のＲ８及びＲ９はそれぞれ水素又は炭素数１〜２０の１価の有機基であり、例えば、互いに独立してメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、クロトニル基、アルコキシ基、フェノキシ基、等のアルキル基や、ビニル基、アリル基、アクリロリル基、メタクリロイル基、スチリル基、ｐ−ビニルアリール基、ビニロキシ基等のアルケニル基や、シクロヘキシル基、ノルボルネン基、等の飽和又は不飽和環状脂肪族炭化水素基や、フェニル基、ナフチル基等の芳香族基や、エーテル類、エステル類、及びこれらの置換された有機基であり、また、Ｒ８とＲ９が結合して、例えばシクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、ノルボルナン環等の環を形成してもよい。好ましくは、Ｒ８は水素又は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ９は（メタ）アクリロキシアルキル（好ましくは炭素数１〜４）基である。
【００２０】
式（１）〜（４）中のｋは０〜１０００の整数であり、好ましくは０〜５００である。
【００２１】
式（１）〜（４）で示されるフェノール誘導体は、式（５）〜（８）で示されるフェノキシド塩に、下記式（９）で表されるチイラン誘導体と下記式（１０）で表されるチイラン化合物又はエポキシ化合物の両方もしくは一方を反応させ、さらにＲ２Ｚ（Ｒ２は式（１）、（２）、（３）、（４）と同じであり、Ｚはハロゲンである。）を反応させることで得ることができる。
【化７】
（式中、Ｙはアルカリ金属を表し、ｎは０〜３の整数を表し、ｌは４〜１０の整数を表し、Ｒ１は水素、−ＯＨ又は炭素数１〜１０の１価のアルキル基を示し、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ炭素数１〜２０の１価の有機基を示し、これらは互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ７は酸素原子、硫黄原子又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）
【化８】
（式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８、Ｒ９及びＸは式（１）、（２）、（３）、（４）と同じである。）
【００２２】
式（５）〜（８）で示されるフェノキシド塩に、式（９）及び（１０）で表される化合物を反応させる時、（９）又は（１０）のどちらか一方を反応させることで単独重合体を合成することができる。また、（９）を加え完全に重合を進行させた後、続けて（１０）を加えて重合させることでグラフト共重合体を合成できる。さらに式（９），（１０）を同時に加えることでランダム重合したフェノール誘導体を合成することができる。
【００２３】
Ｙはアルカリ金属であり、例えば、ナトリウム、カリウム等が挙げられる。
【００２４】
式（５）〜（８）で示されるフェノキシド塩はピリジン、トリエチルアミン等の第３級アミン化合物、水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等の金属水酸化物、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物等の塩基を用いて合成される。塩基の量はフェノール水酸基に対し好ましくは１〜１０倍量、より好ましくは１〜３倍量用いる。
【００２５】
反応に用いる溶剤は、ジエチルエーテルやテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類、ジクロロメタンやクロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサンやトルエン等の炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１−メチル−２−ピロリドンやＮ−ジメチルアセトアミド等の非プロトン性極性溶媒、アセトンやシクロヘキサノン等のケトン系溶媒、酢酸エチル等のエステル類を用いることができる。
【００２６】
反応温度は、通常、−７８〜１００℃の間で行うが、好ましくは−５０〜５０℃、より好ましくは０〜４０℃である。反応温度が−７８℃未満だと反応時間が長くなる恐れがあり、また反応温度が１００℃を超えると副反応が起こる恐れがある。
反応は、アンプル封管等、水分を除去できる状態で行うのが望ましい。
【００２７】
Ｒ２Ｚの反応は、塩基触媒下で行うのが好ましい。用いる塩基としては、ピリジン、トリエチルアミン等の第３級アミン化合物、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の金属水酸化物等がある。塩基の量はフェノール水酸基に対し好ましくは１〜２０倍、より好ましくは１０〜１５倍量用いる。
【００２８】
式（１）〜（４）で示される化合物は、好ましくは２重結合や３重結合をもつ不飽和炭化水素基や、アクリル基やメタクリル基、シクロプロパン基やシクロブタン基等の高歪炭化水素基、ビニルエーテル基、ビニルエステル基、エポキシ基やオキセタン基等の環状エーテル基等、ラジカル重合性やカチオン、アニオン重合性等の重合性基を含む。例えばＲ１〜Ｒ８の少なくとも１つが重合性基を含むことができる。
【００２９】
式（１）〜（４）の化合物が重合性基を含む場合、対応する重合触媒を加え加熱又は光等の活性エネルギー線を照射することによって、３次元硬化物を得ることができる。
【００３０】
このとき、式（１）〜（４）で示される化合物と他の物質を混合し、共に硬化させてもよい。例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリオレフィン、シロキサンポリマー等の各種ポリマーを任意の割合でブレンドしてもよい。
【００３１】
さらに、３次元硬化物の特性を高める目的で、シリカや酸化チタン等無機フィラーや有機フィラーを任意の割合で加えてもよい。
【００３２】
熱ラジカル重合開始剤としては、特に制限されず公知のものが使用できる。代表的なものを例示すると、ベンゾイルパーオキシド、ｐ−クロルベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ｔ−ブチルパーオキシジカーボネート等のパーオキシド、アゾイソブチロニトリル等のアゾ化合物である。熱ラジカル重合開始剤の使用量は、重合条件や開始剤の種類、重合性モノマーの種類や組成によって異なるため一概に限定できないが、重合性基に対して０．０１〜１０当量％の範囲で用いるのが好適である。重合温度及び重合時間は、重合開始剤の種類と量や重合性モノマーの種類によって大きく変化するので限定できないが、２〜４０時間で重合が完結するように条件を選ぶのが好ましい。
【００３３】
また紫外線、可視光、あるいは放射線等の活性エネルギー線を用いたラジカル重合の開始剤としては、特に制限されず公知のものが使用できる。代表的なものとして、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンジルメチルケタール、２−イソプロピルチオキサントン等が用いられる。これらの重合開始剤は、重合性基に対して０．００１〜５当量％の範囲で用いるのが一般的である。
【００３４】
熱カチオン重合開始剤としては、特に制限されず公知のものが使用できる。代表的なものを例示すると、塩化アルミニウム、４塩化スズ、４塩化チタン等が用いられる。熱カチオン重合開始剤の使用量は、重合条件や開始剤の種類、重合性モノマーの種類や組成によって異なるため一概に限定できないが、重合性基に対して０．０１〜１０当量％の範囲で用いるのが好適である。重合温度及び重合時間は、重合開始剤の種類と量や重合性モノマーの種類によって大きく変化するので限定できないが、２〜４０時間で重合が完結するように条件を選ぶのが好ましい。
【００３５】
また紫外線、可視光、あるいは放射線等の活性エネルギー線を用いたカチオン重合の開始剤としては、特に制限されず公知のものが使用できる。代表的なものとして、スルホニウム塩類、ヨードニウム塩類等が用いられる。これらの重合開始剤は、重合性基に対して０．００１〜５当量％の範囲で用いるのが一般的である。
【００３６】
アニオン重合開始剤としては、特に制限されず公知のものが使用できる。代表的なものを例示すると、水酸化カリウムや水酸化ナトリウム、金属リチウム等が用いられる。
【００３７】
以上の触媒に、各種増感剤や助触媒を加えてもよい。また、３次元硬化物の物性を制御するために、酸化防止剤、金属不活性化剤、紫外線吸収剤、難燃剤、安定剤、レベリング剤等の各種添加剤を加えてもよい。
【実施例】
【００３８】
以下、実施例により本発明について詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。
実施例１
下記式（１１）で示される化合物（以下（１１）と略す）を下記の方法で合成した。
【化９】
摺り付き試験管に、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．０１５ｇ（０．１ｍｍｏｌ）と、１−メチル−２−ピロリドン５ｍｌを秤とり、窒素置換し０℃のアイスバスでＮａＨ ０．００２９ｇ加え１時間攪拌させナトリウムフェノキシドを得た。その後、３−フェノキシプロピレンスルフィド（以下スルフィドＡという）０．４９８６ｇ（３．０ｍｍｏｌ）を室温で滴下し、２時間攪拌し、トリエチルアミン０．０３０３ｇ（０．３ｍｍｏｌ）とヨードメタン０．２１２７ｇ（１．５ｍｍｏｌ）をそれぞれ加え、室温で３時間攪拌した。反応終了後、ＴＨＦで希釈し、水で１回再沈精製し、続いてメタノールで１回再沈精製を行い、（１１）を黄色固体として０．４７６５ｇ（収率８６％）得た。
【００３９】
得られた化合物の分子量をサイズ排除クロマトグラフィー（ＳＥＣ）法で測定したところ、数平均分子量２．１８ｘ１０４、分散度２．２６であった。ＳＥＣ法の測定条件は以下の通りであった。
（ａ）サイズ排除クロマトグラフィー（ＳＥＣ）：東ソー株式会社製、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＳＥＣ）ＨＬＣ−８０２０型
（ｂ）カラム：ＴＳＫｇｅｌＧ１０００Ｈ（東ソー株式会社製）
（ｃ）展開溶媒：テトラヒドロフラン
（ｄ）標準物質：ポリスチレン
【００４０】
また、１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、２．１０ｐｐｍに末端のメチル基に起因するピークと１．２９ｐｐｍに開始剤におけるｔ−ブチル基のＣＨ３に起因するピークを確認したことから、このポリマーは末端にｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル骨格とメチル基を有していることが明らかになった。また、１Ｈ−ＮＭＲの結果より重合度ｍは３０と算出された。
【００４１】
得られた化合物について以下の方法で屈折率を測定した。
ポリマー２０ｍｇを、テトラヒドロフラン２ｍｌに溶解させ、この溶液０．２ｍｌをシリコンウエハー上に滴下し、スピンコータ（浅沼製作所株式会社製）により塗布した。次いで、この溶液が塗布されたシリコンウエハーを室温で２４時間減圧乾燥後、エリプソメータ（ガードナー社製、１１５Ｂ型）により波長６３２．８ｎｍにおける屈折率測定を５回行い、最大値と最小値を除いた３回の測定値の平均を屈折率とした。結果を表１に示す。
【００４２】
さらに、表１に示すようにｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールの量を変えて同様の条件で反応を行い、評価した。結果を表１に示す。
【００４３】
実施例２
下記式（１２）で示される化合物（以下（１２）と略す）を下記の方法で合成した。
【化１０】
【００４４】
摺り付き試験管に、ビスフェノールＡ ０．０１１４ｇ（０．０５ｍｍｏｌ）と、１−メチル−２−ピロリドン５ｍｌを秤とり、窒素置換し０℃のアイスバスでＮａＨ ０．００２９ｇ加え１時間攪拌させナトリウムフェノキシドを得た。その後、スルフィドＡ ０．４９８６ｇ（３．０ｍｍｏｌ）を室温で滴下し、２時間攪拌し、トリエチルアミン０．０３０３ｇ（０．３ｍｍｏｌ）とヨードメタン０．２１２７ｇ（１．５ｍｍｏｌ）をそれぞれ加え、室温で３時間攪拌した。反応終了後、ＴＨＦで希釈し、水で１回再沈精製し、続いてメタノールで１回再沈精製を行い、（１２）を黄色固体として０．５２３０ｇ（収率９５％）得た。
【００４５】
得られた化合物の分子量をＳＥＣ法で実施例１と同じ条件で測定したところ、数平均分子量１．５５ｘ１０４、分散度４．７３であった。
また、１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、２．１０ｐｐｍに末端のメチル基に起因するピークと１．２９ｐｐｍに開始剤におけるｔ−ブチル基のＣＨ３に起因するピークを確認したことから、このポリマーは末端にｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル骨格とメチル基を有していることが明らかになった。
また、表１に示すようにビスフェノールＡの量を変えて同様の条件で反応を行い、得られた化合物について実施例１と同じ方法で数平均分子量、重合度、分散度、屈折率及び硫黄含有量を測定した。結果を表１に示す。
【００４６】
実施例３
下記式（１３）で示される化合物（以下（１３）と略す）を下記の方法で合成した。
【化１１】
【００４７】
摺り付き試験管に、４−４’−４”−トリスヒドロキシフェニルエタン ０．０１０２ｇ（０．０３ｍｍｏｌ）と、１−メチル−２−ピロリドン５ｍｌを秤とり、窒素置換し０℃のアイスバスでＮａＨ ０．００２９ｇ加え１時間攪拌させナトリウムフェノキシドを得た。その後、３−フェノキシプロピレンスルフィド（以下スルフィドＡという）０．４９８６ｇ（３．０ｍｍｏｌ）を室温で滴下し、２時間攪拌し、トリエチルアミン０．０３０３ｇ（０．３ｍｍｏｌ）とヨードメタン０．２１２７ｇ（１．５ｍｍｏｌ）をそれぞれ加え、室温で３時間攪拌した。反応終了後、ＴＨＦで希釈し、水で１回再沈精製し、続いてメタノールで１回再沈精製を行い、（１３）を黄色固体として０．５１６３ｇ（収率９４％）得た。
【００４８】
得られた化合物の分子量をＳＥＣ法で実施例１と同じ条件で測定したところ、数平均分子量３．１３ｘ１０４、分散度３．００であった。
また、１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、２．１０ｐｐｍに末端のメチル基に起因するピークと１．２９ｐｐｍに開始剤におけるメチル基に起因するピークを確認したことから、このポリマーは骨格と末端にメチル基を有していることが明らかになった。
また、表１に示すように４−４’−４’’−トリスヒドロキシフェニルエタンの量を変えて同様の条件で反応を行い、得られた化合物について実施例１と同じ方法で数平均分子量、重合度、分散度、屈折率及び硫黄含有量を測定した。結果を表１に示す。
【００４９】
実施例４
下記式（１４）で示される化合物（以下（１４）と略す）を下記の方法で合成した。
【化１２】
【００５０】
摺り付き試験管に、式（１５）で表される化合物（以下（１５）と略す） ０．００６８ｇ（０．０１２５ｍｍｏｌ、ｌ＝４）と、１−メチル−２−ピロリドン５ｍｌを秤とり、窒素置換し０℃のアイスバスでＮａＨ ０．００２９ｇ加え１時間攪拌させナトリウムフェノキシドを得た。その後、スルフィドＡ ０．４９８６ｇ（３．０ｍｍｏｌ）を室温で滴下し、２時間攪拌し、トリエチルアミン０．０３０３ｇ（０．３ｍｍｏｌ）とヨードメタン０．２１２７ｇ（１．５ｍｍｏｌ）をそれぞれ加え、室温で３時間攪拌した。反応終了後、ＴＨＦで希釈し、水で１回再沈精製し、続いてメタノールで１回再沈精製を行い、（１４）を黄色固体として０．４８５８ｇ（収率８９％）得た。
【００５１】
得られた化合物の分子量をＳＥＣ法で実施例１と同じ条件で測定したところ、数平均分子量１．８４ｘ１０４、分散度２．０７であった。
また、１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、２．１０ｐｐｍに末端のメチル基に起因するピークと１．２９ｐｐｍに開始剤におけるｔ−ブチル基のＣＨ３に起因するピークを確認したことから、このポリマーは骨格と末端にメチル基を有していることが明らかになった。
さらに、表１に示すように（１５）の量を変えて同様の条件で反応を行い、得られた化合物について実施例１と同じ方法で数平均分子量、重合度、分散度、屈折率及び硫黄含有量を測定した。結果を表１に示す。
【００５２】
【表１】
【００５３】
実施例５
下記式（１６）で示される化合物（以下（１６）と略す）を下記の方法で合成した。
【化１３】
【００５４】
摺り付き試験管に、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．０１５ｇ（０．１ｍｍｏｌ）と、１−メチル−２−ピロリドン５ｍｌを秤とり、窒素置換し０℃のアイスバスでＮａＨ ０．００２９ｇ加え１時間攪拌させナトリウムフェノキシドを得た。その後、シクロへキセンスルフィド（以下スルフィドＢという）０．３４２６ｇ（３．０ｍｍｏｌ）を室温で滴下し、２時間攪拌し、トリエチルアミン０．０３０３ｇ（０．３ｍｍｏｌ）とヨードメタン０．２１２７ｇ（１．５ｍｍｏｌ）をそれぞれ加え、室温で３時間攪拌した。反応終了後、ＴＨＦで希釈し、水で１回再沈精製し、続いてメタノールで１回再沈精製を行い、（１６）を黄色固体として０．３４６３ｇ（収率８７％）得た。
【００５５】
得られた化合物の分子量をＳＥＣ法で測定したところ、数平均分子量１．７ｘ１０４、分散度１．７９であった。
また、１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、６．７６〜７．２４ｐｐｍに末端に開始剤における芳香環のピークを確認したことから、このポリマーは末端にｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル骨格を有していることが明らかになった。また、
さらに、表２に示すようにｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールの量を変えて同様の条件で反応を行い、実施例１と同じ方法で得られた化合物について数平均分子量、重合度、分散度、屈折率及び硫黄含有量を測定した。結果を表２に示す。
【００５６】
実施例６
下記式（１７）で示される化合物（以下（１７）と略す）を下記の方法で合成した。
【化１４】
【００５７】
摺り付き試験管に、ビスフェノールＡ ０．０１１４ｇ（０．０５ｍｍｏｌ）と、１−メチル−２−ピロリドン５ｍｌを秤とり、窒素置換し０℃のアイスバスでＮａＨ ０．００２９ｇ加え１時間攪拌させナトリウムフェノキシドを得た。その後、スルフィドＢ ０．３４２６ｇ（３．０ｍｍｏｌ）を室温で滴下し、２時間攪拌し、トリエチルアミン０．０３０３ｇ（０．３ｍｍｏｌ）とヨードメタン０．２１２７ｇ（１．５ｍｍｏｌ）をそれぞれ加え、室温で３時間攪拌した。反応終了後、ＴＨＦで希釈し、水で１回再沈精製し、続いてメタノールで１回再沈精製を行い、（１７）を黄色固体として０．３１９５ｇ（収率８１％）得た。
【００５８】
得られた化合物の分子量をＳＥＣ法で測定したところ、数平均分子量２．３８ｘ１０４、分散度１．４７であった。
また、１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、６．７６〜７．２４ｐｐｍに末端に開始剤における芳香環のピークを確認したことから、このポリマーは骨格にビスフェノールＡを有していることが明らかになった。
さらに、表２に示すようにビスフェノールＡの量を変えて同様の条件で反応を行い、得られた化合物について実施例１と同じ方法で数平均分子量、重合度、分散度、屈折率及び硫黄含有量を測定した。結果を表２に示す。
【００５９】
実施例７
下記式（１８）で示される化合物（以下（１８）と略す）を下記の方法で合成した。
【化１５】
【００６０】
摺り付き試験管に、４−４’−４”−トリスヒドロキシフェニルエタン ０．０１０２ｇ（０．０３ｍｍｏｌ）と、１−メチル−２−ピロリドン５ｍｌを秤とり、窒素置換し０℃のアイスバスでＮａＨ ０．００２９ｇ加え１時間攪拌させナトリウムフェノキシドを得た。その後、スルフィドＢ ０．３４２６ｇ（３．０ｍｍｏｌ）を室温で滴下し、２時間攪拌し、トリエチルアミン０．０３０３ｇ（０．３ｍｍｏｌ）とヨードメタン０．２１２７ｇ（１．５ｍｍｏｌ）をそれぞれ加え、室温で３時間攪拌した。反応終了後、ＴＨＦで希釈し、水で１回再沈精製し、続いてメタノールで１回再沈精製を行い、（１８）を黄色固体として０．３６９７ｇ（収率９４％）得た。
【００６１】
得られた化合物の分子量をＳＥＣ法で測定したところ、数平均分子量１．１６ｘ１０４、分散度１．４７であった。
また、１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、６．７６〜７．２４ｐｐｍに末端に開始剤における芳香環のピークを確認したことから、このポリマーは骨格にトリスヒドロキシフェニルエタンを有していることが明らかになった。
また、表２に示すように４−４’−４’’−トリスヒドロキシフェニルエタンの量を変えて同様の条件で反応を行い、得られた化合物について実施例１と同じ方法で数平均分子量、重合度、分散度、屈折率及び硫黄含有量を測定した。結果を表２に示す。
【００６２】
実施例８
下記式（１９）で示される化合物（以下（１９）と略す）を下記の方法で合成した。
【化１６】
【００６３】
摺り付き試験管に、（１５） ０．００６８ｇ（０．０１２５ｍｍｏｌ、ｌ＝４）と、１−メチル−２−ピロリドン５ｍｌを秤とり、窒素置換し０℃のアイスバスでＮａＨ ０．００２９ｇ加え１時間攪拌させナトリウムフェノキシドを得た。その後、シクロへキセンスルフィド（以下スルフィドＢという）０．３４２６ｇ（３．０ｍｍｏｌ）を室温で滴下し、２時間攪拌し、トリエチルアミン０．０３０３ｇ（０．３ｍｍｏｌ）とヨードメタン０．２１２７ｇ（１．５ｍｍｏｌ）をそれぞれ加え、室温で３時間攪拌した。反応終了後、ＴＨＦで希釈し、水で１回再沈精製し、続いてメタノールで１回再沈精製を行い、（１９）を黄色固体として０．３３１４ｇ（収率８５％）得た。
【００６４】
得られた化合物の分子量をＳＥＣ法で測定したところ、数平均分子量１．３２ｘ１０４、分散度２．００であった。
また、１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、開始剤に起因するピークを確認することができなかった。しかし、実施例５〜７で開始剤骨格を有しているポリマーが生成できたことから、（１９）の骨格を有したポリスルフィドが得られたものと考えられる。
さらに、表２に示すように（１５）の量を変えて同様の条件で反応を行い、得られた化合物について実施例１と同じ方法で数平均分子量、重合度、分散度、屈折率及び硫黄含有量を測定した。結果を表２に示す。
【００６５】
【表２】
【００６６】
実施例９
下記式（２０）で示される化合物（以下（２０）と略す）を下記の方法で合成した。
【化１７】
【００６７】
摺りつき試験管に、式（２１）で表される化合物（以下（２１）と略す）０．０１６２ｇ（０．０１２５ｍｍｏｌ）、Ｎ−ジメチルホルムアミド２ｍｌを量り取り、窒素置換した後、０℃のアイスバスで水素化ナトリウム０．００２４ｇ（０．１ｍｍｏｌ）を加え１時間攪拌した。その後、スルフィドＡ ０．４９８９ｇ（３ｍｍｏｌ）を−４０℃でゆっくり滴下し２時間攪拌後、トエチルアミン０．０３０３ｇ（０．３ｍｍｏｌ）と１−クロロメチルナフタレン０．２６４９ｇ（１．５ｍｍｏｌ）加え室温で１時間攪拌した。反応終了後、クロロホルムで希釈しメタノールで再沈精製を２回行い、黄色固体の（２０）を得た。
【００６８】
得られた化合物の分子量をＳＥＣ法で測定したところ、数平均分子量５．７５ｘ１０４、分散度１．８２であった。
得られたポリマーの構造確認はＩＲ、１Ｈ−ＮＭＲで行い、末端にｔ−ブチルフェノール骨格とナフタレン骨格を有するポリスルフィドであることが判明した。また、１Ｈ−ＮＭＲの結果より重合度ｍは３０と算出された。
また、表３に示すようにスルフィドＡの量を変えて同様の条件で反応を行ったところ表３の値が得られた。
【００６９】
【表３】
【産業上の利用可能性】
【００７０】
本発明のフェノール誘導体は、チオエーテル鎖を伸長することにより、硫黄含有量が調整可能であることから、屈折率調整可能であり、さらに高屈折率を有する。この樹脂を用いることにより光学レンズ、光学フィルム、光学フィルムを用いた液晶表示装置等の用途に適用することができる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フェノール誘導体及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学用樹脂の重要な特性のひとつに屈折率がある。屈折率を精密に制御することは、光学レンズ、光導波路等に応用する際、必要不可欠である。屈折率の制御には、樹脂中に様々な置換基を導入する手法が広く用いられている。光学樹脂、特に光学特性に優れるアクリル樹脂の高屈折率化は、光導波路や光学レンズ用途に非常に有用である。樹脂の高屈折率化には、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子及び芳香環等の導入が有効とされている（例えば特許文献１）。
【０００３】
新しいポリマー素材はこれまでのように単一機能性ではなく、複合化された多機能性及び高次構造に基づく新しい機能が求められている。
例として、グラフトポリマー、ブロックポリマーは従来のポリマーが単一相であるのに対してミクロ的に多相構造を有するポリマーであり、その組み合わせの多様性等から、柔軟性と多面的な機能を持つポリマーとして今後の展開が期待されている。
【０００４】
また、枝分かれ構造を有する分岐ポリマーは、直鎖状ポリマーと比較して、慣性半径が小さいことから溶液粘度が低く、有機溶媒に対して高い溶解性を示し、末端官能基数が多いことから機能化に有利であるため、様々な分野への応用が可能である。
【０００５】
最近、Ｅ．Ｎｉｃｏｌらはチオール類をジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）により塩形成することでチオレート類を形成し、これを開始剤として用いたチイラン類のアニオン重合を報告しており（非特許文献１）、さらに遠藤らはこのシステムを用いた含硫黄ヘテロアームスターポリマーの合成を報告している（非特許文献２）。
【０００６】
しかしながら、これらの方法はいずれも開始剤に活性エステルもしくは第一級チオールを有していることが条件となり、開始重合においてはさらにその条件が狭くなる。そのため選択可能な開始剤は限られ、汎用性にかける。その他、長時間の反応時間が必要とされることや、開始剤を新たに合成しなければならないことも、大量生産等を考慮したときにデメリットとなる。
【特許文献１】特開平４−０５５４１６号公報
【非特許文献１】E.Nicol, C.B.Plaisance, P.Dony,G.Levesque, Macromol.Chem.Phys.,202,2843 (2001)
【非特許文献２】S.Akane, N.Daisuke, Bungo,E.Takeshi, Macromolecules,37,8823 (2004)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、高屈折率を有するフェノール誘導体及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、硫黄原子を含むフェノール性水酸基について化学修飾の検討を詳細に行い、ポリチオエーテル鎖を伸長することにより、高屈折率樹脂を見出すことができた。
本発明によれば、以下のフェノール誘導体及びその製造方法が提供される。
１．下記式（１）、（２）、（３）、（４）で表されるフェノール誘導体。
【化４】
（式（１）、（２）、（３）、（４）中、ｎは０〜３の整数を表し、ｍは０〜１０００の整数を表し、ｌは４〜１０の整数を表し、ｋは０〜１０００の整数を表す。Ｒ１は水素、−ＯＨ又は炭素数１〜１０の１価のアルキル基を示し、Ｒ２、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ炭素数１〜２０の１価の有機基を示しこれらは同一でも異なっていてもよい。Ｒ３及びＲ４はそれぞれ水素又は炭素数１〜２０の１価の有機基を示し、またＲ３とＲ４は結合してもよく、Ｘは酸素又は硫黄を示し、Ｒ７は酸素原子、硫黄原子又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。Ｒ８及びＲ９はそれぞれ水素又は炭素数１〜２０の１価の有機基を示し、またＲ８とＲ９は結合してもよい。）
２．下記式（５）、（６）、（７）、（８）で表されるフェノキシド塩に、下記式（９）で表されるチイラン誘導体及び／又は下記式（１０）で表される化合物を反応させ、さらにＲ２Ｚ（Ｒ２は式（１）、（２）、（３）、（４）と同じであり、Ｚはハロゲンである。）を反応させる１記載のフェノール誘導体の製造方法。
【化５】
（式中、Ｙはアルカリ金属を表し、ｎは０〜３の整数を表し、ｌは４〜１０の整数を表し、Ｒ１は水素、−ＯＨ又は炭素数１〜１０の１価のアルキル基を示し、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ炭素数１〜２０の１価の有機基を示し、これらは互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ７は酸素原子、硫黄原子又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）
【化６】
（式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８、Ｒ９及びＸは式（１）、（２）、（３）、（４）と同じである。）
３．重合性基を有する１記載のフェノール誘導体。
４．３記載のフェノール誘導体に加熱又は活性エネルギー線照射を行うことによって得られる３次元硬化物。
５．３記載のフェノール誘導体に加熱又は活性エネルギー線照射する４記載の３次元硬化物の製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、高屈折率を有するフェノール誘導体及びその製造方法が提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明のフェノール誘導体は式（１）〜（４）で表される。
【００１１】
式（１）及び（５）中のＲ１は水素、−ＯＨ又は炭素数１〜１０の１価のアルキル基を示す。１価のアルキル基として、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基等のアルキル基がある。Ｒ１は好ましくは水素又は炭素数１〜４のアルキル基である。
【００１２】
式（１）〜（４）中のＲ２は、炭素数１〜２０の１価の有機基であり、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基等のアルキル基や、ビニル基、アリル基等のアルケニル基や、シクロヘキシル基、ノルボルネン基等の飽和又は不飽和環状脂肪族炭化水素基や、フェニル基、ナフチル基等の芳香族基や、エーテル類、エステル類、アミノ類、及びこれらの置換された有機基である。好ましくは炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルキル基で置換された又は無置換のベンジル基又はナフチルアルキレン基（好ましくは炭素数１〜４）である。
【００１３】
式（１）及び（５）中のｎは、０〜３の整数であり、好ましくは１〜３である。
【００１４】
式（２）〜（４）及び（６）〜（８）中のｌは、４〜１０の整数であり、好ましくは４〜６である。
【００１５】
式（１）〜（４）中のＲ３及びＲ４はそれぞれ水素又は炭素数１〜２０の１価の有機基であり、例えば、互いに独立してメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基等のアルキル基や、ビニル基、アリル基等のアルケニル基や、シクロヘキシル基、ノルボルネン基等の飽和又は不飽和環状脂肪族炭化水素基や、フェニル基、ナフチル基等の芳香族基や、エーテル類、エステル類、アミノ類、及びこれらの置換された有機基である。また、Ｒ３とＲ４が結合して、例えばシクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、ノルボルナン環等の環を形成してもよい。好ましくは、Ｒ３は水素又は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ４は炭素数１〜４のアルキル基で置換された又は非置換のフェノキシアルキル（好ましくは炭素数１〜４）基である。
【００１６】
式（２）、（３）、（６）及び（７）中のＲ５及びＲ６は、炭素数１〜２０の１価の有機基であり、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基等のアルキル基や、ビニル基、アリル基等のアルケニル基や、シクロヘキシル基、ノルボルネン基等の飽和又は不飽和環状脂肪族炭化水素基や、フェニル基、ナフチル基等の芳香族基や、エーテル類、エステル類、アミノ類、及びこれらの置換された有機基である。好ましくは炭素数１〜４のアルキル基、イソブチル基、炭素数１〜４のアルキル基で置換された又は無置換のフェニル基である。
【００１７】
式（１）〜（４）中のｍは１〜１０００の整数であり、好ましくは１〜５００である。
式（１）〜（４）のフェノール誘導体の数平均分子量は好ましくは１０００〜５００００である。
【００１８】
式（２）及び（６）中のＲ７は酸素原子、硫黄原子又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。例えば、２価の有機基として、メチレン基、エチレン基、アセチレン基等のアルキレン基、フェニレン基等の芳香族基及びこれらの置換された有機基であり、好ましくは炭素数１〜４のアルキレン基である。
【００１９】
式（１）〜（４）中のＲ８及びＲ９はそれぞれ水素又は炭素数１〜２０の１価の有機基であり、例えば、互いに独立してメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、クロトニル基、アルコキシ基、フェノキシ基、等のアルキル基や、ビニル基、アリル基、アクリロリル基、メタクリロイル基、スチリル基、ｐ−ビニルアリール基、ビニロキシ基等のアルケニル基や、シクロヘキシル基、ノルボルネン基、等の飽和又は不飽和環状脂肪族炭化水素基や、フェニル基、ナフチル基等の芳香族基や、エーテル類、エステル類、及びこれらの置換された有機基であり、また、Ｒ８とＲ９が結合して、例えばシクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、ノルボルナン環等の環を形成してもよい。好ましくは、Ｒ８は水素又は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ９は（メタ）アクリロキシアルキル（好ましくは炭素数１〜４）基である。
【００２０】
式（１）〜（４）中のｋは０〜１０００の整数であり、好ましくは０〜５００である。
【００２１】
式（１）〜（４）で示されるフェノール誘導体は、式（５）〜（８）で示されるフェノキシド塩に、下記式（９）で表されるチイラン誘導体と下記式（１０）で表されるチイラン化合物又はエポキシ化合物の両方もしくは一方を反応させ、さらにＲ２Ｚ（Ｒ２は式（１）、（２）、（３）、（４）と同じであり、Ｚはハロゲンである。）を反応させることで得ることができる。
【化７】
（式中、Ｙはアルカリ金属を表し、ｎは０〜３の整数を表し、ｌは４〜１０の整数を表し、Ｒ１は水素、−ＯＨ又は炭素数１〜１０の１価のアルキル基を示し、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ炭素数１〜２０の１価の有機基を示し、これらは互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ７は酸素原子、硫黄原子又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）
【化８】
（式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８、Ｒ９及びＸは式（１）、（２）、（３）、（４）と同じである。）
【００２２】
式（５）〜（８）で示されるフェノキシド塩に、式（９）及び（１０）で表される化合物を反応させる時、（９）又は（１０）のどちらか一方を反応させることで単独重合体を合成することができる。また、（９）を加え完全に重合を進行させた後、続けて（１０）を加えて重合させることでグラフト共重合体を合成できる。さらに式（９），（１０）を同時に加えることでランダム重合したフェノール誘導体を合成することができる。
【００２３】
Ｙはアルカリ金属であり、例えば、ナトリウム、カリウム等が挙げられる。
【００２４】
式（５）〜（８）で示されるフェノキシド塩はピリジン、トリエチルアミン等の第３級アミン化合物、水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等の金属水酸化物、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物等の塩基を用いて合成される。塩基の量はフェノール水酸基に対し好ましくは１〜１０倍量、より好ましくは１〜３倍量用いる。
【００２５】
反応に用いる溶剤は、ジエチルエーテルやテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類、ジクロロメタンやクロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサンやトルエン等の炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１−メチル−２−ピロリドンやＮ−ジメチルアセトアミド等の非プロトン性極性溶媒、アセトンやシクロヘキサノン等のケトン系溶媒、酢酸エチル等のエステル類を用いることができる。
【００２６】
反応温度は、通常、−７８〜１００℃の間で行うが、好ましくは−５０〜５０℃、より好ましくは０〜４０℃である。反応温度が−７８℃未満だと反応時間が長くなる恐れがあり、また反応温度が１００℃を超えると副反応が起こる恐れがある。
反応は、アンプル封管等、水分を除去できる状態で行うのが望ましい。
【００２７】
Ｒ２Ｚの反応は、塩基触媒下で行うのが好ましい。用いる塩基としては、ピリジン、トリエチルアミン等の第３級アミン化合物、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の金属水酸化物等がある。塩基の量はフェノール水酸基に対し好ましくは１〜２０倍、より好ましくは１０〜１５倍量用いる。
【００２８】
式（１）〜（４）で示される化合物は、好ましくは２重結合や３重結合をもつ不飽和炭化水素基や、アクリル基やメタクリル基、シクロプロパン基やシクロブタン基等の高歪炭化水素基、ビニルエーテル基、ビニルエステル基、エポキシ基やオキセタン基等の環状エーテル基等、ラジカル重合性やカチオン、アニオン重合性等の重合性基を含む。例えばＲ１〜Ｒ８の少なくとも１つが重合性基を含むことができる。
【００２９】
式（１）〜（４）の化合物が重合性基を含む場合、対応する重合触媒を加え加熱又は光等の活性エネルギー線を照射することによって、３次元硬化物を得ることができる。
【００３０】
このとき、式（１）〜（４）で示される化合物と他の物質を混合し、共に硬化させてもよい。例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリオレフィン、シロキサンポリマー等の各種ポリマーを任意の割合でブレンドしてもよい。
【００３１】
さらに、３次元硬化物の特性を高める目的で、シリカや酸化チタン等無機フィラーや有機フィラーを任意の割合で加えてもよい。
【００３２】
熱ラジカル重合開始剤としては、特に制限されず公知のものが使用できる。代表的なものを例示すると、ベンゾイルパーオキシド、ｐ−クロルベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ｔ−ブチルパーオキシジカーボネート等のパーオキシド、アゾイソブチロニトリル等のアゾ化合物である。熱ラジカル重合開始剤の使用量は、重合条件や開始剤の種類、重合性モノマーの種類や組成によって異なるため一概に限定できないが、重合性基に対して０．０１〜１０当量％の範囲で用いるのが好適である。重合温度及び重合時間は、重合開始剤の種類と量や重合性モノマーの種類によって大きく変化するので限定できないが、２〜４０時間で重合が完結するように条件を選ぶのが好ましい。
【００３３】
また紫外線、可視光、あるいは放射線等の活性エネルギー線を用いたラジカル重合の開始剤としては、特に制限されず公知のものが使用できる。代表的なものとして、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンジルメチルケタール、２−イソプロピルチオキサントン等が用いられる。これらの重合開始剤は、重合性基に対して０．００１〜５当量％の範囲で用いるのが一般的である。
【００３４】
熱カチオン重合開始剤としては、特に制限されず公知のものが使用できる。代表的なものを例示すると、塩化アルミニウム、４塩化スズ、４塩化チタン等が用いられる。熱カチオン重合開始剤の使用量は、重合条件や開始剤の種類、重合性モノマーの種類や組成によって異なるため一概に限定できないが、重合性基に対して０．０１〜１０当量％の範囲で用いるのが好適である。重合温度及び重合時間は、重合開始剤の種類と量や重合性モノマーの種類によって大きく変化するので限定できないが、２〜４０時間で重合が完結するように条件を選ぶのが好ましい。
【００３５】
また紫外線、可視光、あるいは放射線等の活性エネルギー線を用いたカチオン重合の開始剤としては、特に制限されず公知のものが使用できる。代表的なものとして、スルホニウム塩類、ヨードニウム塩類等が用いられる。これらの重合開始剤は、重合性基に対して０．００１〜５当量％の範囲で用いるのが一般的である。
【００３６】
アニオン重合開始剤としては、特に制限されず公知のものが使用できる。代表的なものを例示すると、水酸化カリウムや水酸化ナトリウム、金属リチウム等が用いられる。
【００３７】
以上の触媒に、各種増感剤や助触媒を加えてもよい。また、３次元硬化物の物性を制御するために、酸化防止剤、金属不活性化剤、紫外線吸収剤、難燃剤、安定剤、レベリング剤等の各種添加剤を加えてもよい。
【実施例】
【００３８】
以下、実施例により本発明について詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。
実施例１
下記式（１１）で示される化合物（以下（１１）と略す）を下記の方法で合成した。
【化９】
摺り付き試験管に、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．０１５ｇ（０．１ｍｍｏｌ）と、１−メチル−２−ピロリドン５ｍｌを秤とり、窒素置換し０℃のアイスバスでＮａＨ ０．００２９ｇ加え１時間攪拌させナトリウムフェノキシドを得た。その後、３−フェノキシプロピレンスルフィド（以下スルフィドＡという）０．４９８６ｇ（３．０ｍｍｏｌ）を室温で滴下し、２時間攪拌し、トリエチルアミン０．０３０３ｇ（０．３ｍｍｏｌ）とヨードメタン０．２１２７ｇ（１．５ｍｍｏｌ）をそれぞれ加え、室温で３時間攪拌した。反応終了後、ＴＨＦで希釈し、水で１回再沈精製し、続いてメタノールで１回再沈精製を行い、（１１）を黄色固体として０．４７６５ｇ（収率８６％）得た。
【００３９】
得られた化合物の分子量をサイズ排除クロマトグラフィー（ＳＥＣ）法で測定したところ、数平均分子量２．１８ｘ１０４、分散度２．２６であった。ＳＥＣ法の測定条件は以下の通りであった。
（ａ）サイズ排除クロマトグラフィー（ＳＥＣ）：東ソー株式会社製、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＳＥＣ）ＨＬＣ−８０２０型
（ｂ）カラム：ＴＳＫｇｅｌＧ１０００Ｈ（東ソー株式会社製）
（ｃ）展開溶媒：テトラヒドロフラン
（ｄ）標準物質：ポリスチレン
【００４０】
また、１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、２．１０ｐｐｍに末端のメチル基に起因するピークと１．２９ｐｐｍに開始剤におけるｔ−ブチル基のＣＨ３に起因するピークを確認したことから、このポリマーは末端にｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル骨格とメチル基を有していることが明らかになった。また、１Ｈ−ＮＭＲの結果より重合度ｍは３０と算出された。
【００４１】
得られた化合物について以下の方法で屈折率を測定した。
ポリマー２０ｍｇを、テトラヒドロフラン２ｍｌに溶解させ、この溶液０．２ｍｌをシリコンウエハー上に滴下し、スピンコータ（浅沼製作所株式会社製）により塗布した。次いで、この溶液が塗布されたシリコンウエハーを室温で２４時間減圧乾燥後、エリプソメータ（ガードナー社製、１１５Ｂ型）により波長６３２．８ｎｍにおける屈折率測定を５回行い、最大値と最小値を除いた３回の測定値の平均を屈折率とした。結果を表１に示す。
【００４２】
さらに、表１に示すようにｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールの量を変えて同様の条件で反応を行い、評価した。結果を表１に示す。
【００４３】
実施例２
下記式（１２）で示される化合物（以下（１２）と略す）を下記の方法で合成した。
【化１０】
【００４４】
摺り付き試験管に、ビスフェノールＡ ０．０１１４ｇ（０．０５ｍｍｏｌ）と、１−メチル−２−ピロリドン５ｍｌを秤とり、窒素置換し０℃のアイスバスでＮａＨ ０．００２９ｇ加え１時間攪拌させナトリウムフェノキシドを得た。その後、スルフィドＡ ０．４９８６ｇ（３．０ｍｍｏｌ）を室温で滴下し、２時間攪拌し、トリエチルアミン０．０３０３ｇ（０．３ｍｍｏｌ）とヨードメタン０．２１２７ｇ（１．５ｍｍｏｌ）をそれぞれ加え、室温で３時間攪拌した。反応終了後、ＴＨＦで希釈し、水で１回再沈精製し、続いてメタノールで１回再沈精製を行い、（１２）を黄色固体として０．５２３０ｇ（収率９５％）得た。
【００４５】
得られた化合物の分子量をＳＥＣ法で実施例１と同じ条件で測定したところ、数平均分子量１．５５ｘ１０４、分散度４．７３であった。
また、１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、２．１０ｐｐｍに末端のメチル基に起因するピークと１．２９ｐｐｍに開始剤におけるｔ−ブチル基のＣＨ３に起因するピークを確認したことから、このポリマーは末端にｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル骨格とメチル基を有していることが明らかになった。
また、表１に示すようにビスフェノールＡの量を変えて同様の条件で反応を行い、得られた化合物について実施例１と同じ方法で数平均分子量、重合度、分散度、屈折率及び硫黄含有量を測定した。結果を表１に示す。
【００４６】
実施例３
下記式（１３）で示される化合物（以下（１３）と略す）を下記の方法で合成した。
【化１１】
【００４７】
摺り付き試験管に、４−４’−４”−トリスヒドロキシフェニルエタン ０．０１０２ｇ（０．０３ｍｍｏｌ）と、１−メチル−２−ピロリドン５ｍｌを秤とり、窒素置換し０℃のアイスバスでＮａＨ ０．００２９ｇ加え１時間攪拌させナトリウムフェノキシドを得た。その後、３−フェノキシプロピレンスルフィド（以下スルフィドＡという）０．４９８６ｇ（３．０ｍｍｏｌ）を室温で滴下し、２時間攪拌し、トリエチルアミン０．０３０３ｇ（０．３ｍｍｏｌ）とヨードメタン０．２１２７ｇ（１．５ｍｍｏｌ）をそれぞれ加え、室温で３時間攪拌した。反応終了後、ＴＨＦで希釈し、水で１回再沈精製し、続いてメタノールで１回再沈精製を行い、（１３）を黄色固体として０．５１６３ｇ（収率９４％）得た。
【００４８】
得られた化合物の分子量をＳＥＣ法で実施例１と同じ条件で測定したところ、数平均分子量３．１３ｘ１０４、分散度３．００であった。
また、１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、２．１０ｐｐｍに末端のメチル基に起因するピークと１．２９ｐｐｍに開始剤におけるメチル基に起因するピークを確認したことから、このポリマーは骨格と末端にメチル基を有していることが明らかになった。
また、表１に示すように４−４’−４’’−トリスヒドロキシフェニルエタンの量を変えて同様の条件で反応を行い、得られた化合物について実施例１と同じ方法で数平均分子量、重合度、分散度、屈折率及び硫黄含有量を測定した。結果を表１に示す。
【００４９】
実施例４
下記式（１４）で示される化合物（以下（１４）と略す）を下記の方法で合成した。
【化１２】
【００５０】
摺り付き試験管に、式（１５）で表される化合物（以下（１５）と略す） ０．００６８ｇ（０．０１２５ｍｍｏｌ、ｌ＝４）と、１−メチル−２−ピロリドン５ｍｌを秤とり、窒素置換し０℃のアイスバスでＮａＨ ０．００２９ｇ加え１時間攪拌させナトリウムフェノキシドを得た。その後、スルフィドＡ ０．４９８６ｇ（３．０ｍｍｏｌ）を室温で滴下し、２時間攪拌し、トリエチルアミン０．０３０３ｇ（０．３ｍｍｏｌ）とヨードメタン０．２１２７ｇ（１．５ｍｍｏｌ）をそれぞれ加え、室温で３時間攪拌した。反応終了後、ＴＨＦで希釈し、水で１回再沈精製し、続いてメタノールで１回再沈精製を行い、（１４）を黄色固体として０．４８５８ｇ（収率８９％）得た。
【００５１】
得られた化合物の分子量をＳＥＣ法で実施例１と同じ条件で測定したところ、数平均分子量１．８４ｘ１０４、分散度２．０７であった。
また、１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、２．１０ｐｐｍに末端のメチル基に起因するピークと１．２９ｐｐｍに開始剤におけるｔ−ブチル基のＣＨ３に起因するピークを確認したことから、このポリマーは骨格と末端にメチル基を有していることが明らかになった。
さらに、表１に示すように（１５）の量を変えて同様の条件で反応を行い、得られた化合物について実施例１と同じ方法で数平均分子量、重合度、分散度、屈折率及び硫黄含有量を測定した。結果を表１に示す。
【００５２】
【表１】
【００５３】
実施例５
下記式（１６）で示される化合物（以下（１６）と略す）を下記の方法で合成した。
【化１３】
【００５４】
摺り付き試験管に、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．０１５ｇ（０．１ｍｍｏｌ）と、１−メチル−２−ピロリドン５ｍｌを秤とり、窒素置換し０℃のアイスバスでＮａＨ ０．００２９ｇ加え１時間攪拌させナトリウムフェノキシドを得た。その後、シクロへキセンスルフィド（以下スルフィドＢという）０．３４２６ｇ（３．０ｍｍｏｌ）を室温で滴下し、２時間攪拌し、トリエチルアミン０．０３０３ｇ（０．３ｍｍｏｌ）とヨードメタン０．２１２７ｇ（１．５ｍｍｏｌ）をそれぞれ加え、室温で３時間攪拌した。反応終了後、ＴＨＦで希釈し、水で１回再沈精製し、続いてメタノールで１回再沈精製を行い、（１６）を黄色固体として０．３４６３ｇ（収率８７％）得た。
【００５５】
得られた化合物の分子量をＳＥＣ法で測定したところ、数平均分子量１．７ｘ１０４、分散度１．７９であった。
また、１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、６．７６〜７．２４ｐｐｍに末端に開始剤における芳香環のピークを確認したことから、このポリマーは末端にｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル骨格を有していることが明らかになった。また、
さらに、表２に示すようにｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールの量を変えて同様の条件で反応を行い、実施例１と同じ方法で得られた化合物について数平均分子量、重合度、分散度、屈折率及び硫黄含有量を測定した。結果を表２に示す。
【００５６】
実施例６
下記式（１７）で示される化合物（以下（１７）と略す）を下記の方法で合成した。
【化１４】
【００５７】
摺り付き試験管に、ビスフェノールＡ ０．０１１４ｇ（０．０５ｍｍｏｌ）と、１−メチル−２−ピロリドン５ｍｌを秤とり、窒素置換し０℃のアイスバスでＮａＨ ０．００２９ｇ加え１時間攪拌させナトリウムフェノキシドを得た。その後、スルフィドＢ ０．３４２６ｇ（３．０ｍｍｏｌ）を室温で滴下し、２時間攪拌し、トリエチルアミン０．０３０３ｇ（０．３ｍｍｏｌ）とヨードメタン０．２１２７ｇ（１．５ｍｍｏｌ）をそれぞれ加え、室温で３時間攪拌した。反応終了後、ＴＨＦで希釈し、水で１回再沈精製し、続いてメタノールで１回再沈精製を行い、（１７）を黄色固体として０．３１９５ｇ（収率８１％）得た。
【００５８】
得られた化合物の分子量をＳＥＣ法で測定したところ、数平均分子量２．３８ｘ１０４、分散度１．４７であった。
また、１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、６．７６〜７．２４ｐｐｍに末端に開始剤における芳香環のピークを確認したことから、このポリマーは骨格にビスフェノールＡを有していることが明らかになった。
さらに、表２に示すようにビスフェノールＡの量を変えて同様の条件で反応を行い、得られた化合物について実施例１と同じ方法で数平均分子量、重合度、分散度、屈折率及び硫黄含有量を測定した。結果を表２に示す。
【００５９】
実施例７
下記式（１８）で示される化合物（以下（１８）と略す）を下記の方法で合成した。
【化１５】
【００６０】
摺り付き試験管に、４−４’−４”−トリスヒドロキシフェニルエタン ０．０１０２ｇ（０．０３ｍｍｏｌ）と、１−メチル−２−ピロリドン５ｍｌを秤とり、窒素置換し０℃のアイスバスでＮａＨ ０．００２９ｇ加え１時間攪拌させナトリウムフェノキシドを得た。その後、スルフィドＢ ０．３４２６ｇ（３．０ｍｍｏｌ）を室温で滴下し、２時間攪拌し、トリエチルアミン０．０３０３ｇ（０．３ｍｍｏｌ）とヨードメタン０．２１２７ｇ（１．５ｍｍｏｌ）をそれぞれ加え、室温で３時間攪拌した。反応終了後、ＴＨＦで希釈し、水で１回再沈精製し、続いてメタノールで１回再沈精製を行い、（１８）を黄色固体として０．３６９７ｇ（収率９４％）得た。
【００６１】
得られた化合物の分子量をＳＥＣ法で測定したところ、数平均分子量１．１６ｘ１０４、分散度１．４７であった。
また、１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、６．７６〜７．２４ｐｐｍに末端に開始剤における芳香環のピークを確認したことから、このポリマーは骨格にトリスヒドロキシフェニルエタンを有していることが明らかになった。
また、表２に示すように４−４’−４’’−トリスヒドロキシフェニルエタンの量を変えて同様の条件で反応を行い、得られた化合物について実施例１と同じ方法で数平均分子量、重合度、分散度、屈折率及び硫黄含有量を測定した。結果を表２に示す。
【００６２】
実施例８
下記式（１９）で示される化合物（以下（１９）と略す）を下記の方法で合成した。
【化１６】
【００６３】
摺り付き試験管に、（１５） ０．００６８ｇ（０．０１２５ｍｍｏｌ、ｌ＝４）と、１−メチル−２−ピロリドン５ｍｌを秤とり、窒素置換し０℃のアイスバスでＮａＨ ０．００２９ｇ加え１時間攪拌させナトリウムフェノキシドを得た。その後、シクロへキセンスルフィド（以下スルフィドＢという）０．３４２６ｇ（３．０ｍｍｏｌ）を室温で滴下し、２時間攪拌し、トリエチルアミン０．０３０３ｇ（０．３ｍｍｏｌ）とヨードメタン０．２１２７ｇ（１．５ｍｍｏｌ）をそれぞれ加え、室温で３時間攪拌した。反応終了後、ＴＨＦで希釈し、水で１回再沈精製し、続いてメタノールで１回再沈精製を行い、（１９）を黄色固体として０．３３１４ｇ（収率８５％）得た。
【００６４】
得られた化合物の分子量をＳＥＣ法で測定したところ、数平均分子量１．３２ｘ１０４、分散度２．００であった。
また、１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、開始剤に起因するピークを確認することができなかった。しかし、実施例５〜７で開始剤骨格を有しているポリマーが生成できたことから、（１９）の骨格を有したポリスルフィドが得られたものと考えられる。
さらに、表２に示すように（１５）の量を変えて同様の条件で反応を行い、得られた化合物について実施例１と同じ方法で数平均分子量、重合度、分散度、屈折率及び硫黄含有量を測定した。結果を表２に示す。
【００６５】
【表２】
【００６６】
実施例９
下記式（２０）で示される化合物（以下（２０）と略す）を下記の方法で合成した。
【化１７】
【００６７】
摺りつき試験管に、式（２１）で表される化合物（以下（２１）と略す）０．０１６２ｇ（０．０１２５ｍｍｏｌ）、Ｎ−ジメチルホルムアミド２ｍｌを量り取り、窒素置換した後、０℃のアイスバスで水素化ナトリウム０．００２４ｇ（０．１ｍｍｏｌ）を加え１時間攪拌した。その後、スルフィドＡ ０．４９８９ｇ（３ｍｍｏｌ）を−４０℃でゆっくり滴下し２時間攪拌後、トエチルアミン０．０３０３ｇ（０．３ｍｍｏｌ）と１−クロロメチルナフタレン０．２６４９ｇ（１．５ｍｍｏｌ）加え室温で１時間攪拌した。反応終了後、クロロホルムで希釈しメタノールで再沈精製を２回行い、黄色固体の（２０）を得た。
【００６８】
得られた化合物の分子量をＳＥＣ法で測定したところ、数平均分子量５．７５ｘ１０４、分散度１．８２であった。
得られたポリマーの構造確認はＩＲ、１Ｈ−ＮＭＲで行い、末端にｔ−ブチルフェノール骨格とナフタレン骨格を有するポリスルフィドであることが判明した。また、１Ｈ−ＮＭＲの結果より重合度ｍは３０と算出された。
また、表３に示すようにスルフィドＡの量を変えて同様の条件で反応を行ったところ表３の値が得られた。
【００６９】
【表３】
【産業上の利用可能性】
【００７０】
本発明のフェノール誘導体は、チオエーテル鎖を伸長することにより、硫黄含有量が調整可能であることから、屈折率調整可能であり、さらに高屈折率を有する。この樹脂を用いることにより光学レンズ、光学フィルム、光学フィルムを用いた液晶表示装置等の用途に適用することができる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）、（２）、（３）、（４）で表されるフェノール誘導体。
【化１】
（式（１）、（２）、（３）、（４）中、ｎは０〜３の整数を表し、ｍは０〜１０００の整数を表し、ｌは４〜１０の整数を表し、ｋは０〜１０００の整数を表す。Ｒ１は水素、−ＯＨ又は炭素数１〜１０の１価のアルキル基を示し、Ｒ２、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ炭素数１〜２０の１価の有機基を示しこれらは同一でも異なっていてもよい。Ｒ３及びＲ４はそれぞれ水素又は炭素数１〜２０の１価の有機基を示し、またＲ３とＲ４は結合してもよく、Ｘは酸素又は硫黄を示し、Ｒ７は酸素原子、硫黄原子又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。Ｒ８及びＲ９はそれぞれ水素又は炭素数１〜２０の１価の有機基を示し、またＲ８とＲ９は結合してもよい。）
【請求項２】
下記式（５）、（６）、（７）、（８）で表されるフェノキシド塩に、
下記式（９）で表されるチイラン誘導体及び／又は下記式（１０）で表される化合物を反応させ、
さらにＲ２Ｚ（Ｒ２は式（１）、（２）、（３）、（４）と同じであり、Ｚはハロゲンである。）を反応させる請求項１記載のフェノール誘導体の製造方法。
【化２】
（式中、Ｙはアルカリ金属を表し、ｎは０〜３の整数を表し、ｌは４〜１０の整数を表し、Ｒ１は水素、−ＯＨ又は炭素数１〜１０の１価のアルキル基を示し、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ炭素数１〜２０の１価の有機基を示し、これらは互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ７は酸素原子、硫黄原子又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）
【化３】
（式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８、Ｒ９及びＸは式（１）、（２）、（３）、（４）と同じである。）
【請求項３】
重合性基を有する請求項１記載のフェノール誘導体。
【請求項４】
請求項３記載のフェノール誘導体に加熱又は活性エネルギー線照射を行うことによって得られる３次元硬化物。
【請求項５】
請求項３記載のフェノール誘導体に加熱又は活性エネルギー線照射する請求項４記載の３次元硬化物の製造方法。
【請求項１】
下記式（１）、（２）、（３）、（４）で表されるフェノール誘導体。
【化１】
（式（１）、（２）、（３）、（４）中、ｎは０〜３の整数を表し、ｍは０〜１０００の整数を表し、ｌは４〜１０の整数を表し、ｋは０〜１０００の整数を表す。Ｒ１は水素、−ＯＨ又は炭素数１〜１０の１価のアルキル基を示し、Ｒ２、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ炭素数１〜２０の１価の有機基を示しこれらは同一でも異なっていてもよい。Ｒ３及びＲ４はそれぞれ水素又は炭素数１〜２０の１価の有機基を示し、またＲ３とＲ４は結合してもよく、Ｘは酸素又は硫黄を示し、Ｒ７は酸素原子、硫黄原子又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。Ｒ８及びＲ９はそれぞれ水素又は炭素数１〜２０の１価の有機基を示し、またＲ８とＲ９は結合してもよい。）
【請求項２】
下記式（５）、（６）、（７）、（８）で表されるフェノキシド塩に、
下記式（９）で表されるチイラン誘導体及び／又は下記式（１０）で表される化合物を反応させ、
さらにＲ２Ｚ（Ｒ２は式（１）、（２）、（３）、（４）と同じであり、Ｚはハロゲンである。）を反応させる請求項１記載のフェノール誘導体の製造方法。
【化２】
（式中、Ｙはアルカリ金属を表し、ｎは０〜３の整数を表し、ｌは４〜１０の整数を表し、Ｒ１は水素、−ＯＨ又は炭素数１〜１０の１価のアルキル基を示し、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ炭素数１〜２０の１価の有機基を示し、これらは互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ７は酸素原子、硫黄原子又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）
【化３】
（式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８、Ｒ９及びＸは式（１）、（２）、（３）、（４）と同じである。）
【請求項３】
重合性基を有する請求項１記載のフェノール誘導体。
【請求項４】
請求項３記載のフェノール誘導体に加熱又は活性エネルギー線照射を行うことによって得られる３次元硬化物。
【請求項５】
請求項３記載のフェノール誘導体に加熱又は活性エネルギー線照射する請求項４記載の３次元硬化物の製造方法。
【公開番号】特開２００８−３１１３４（Ｐ２００８−３１１３４Ａ）
【公開日】平成２０年２月１４日（２００８．２．１４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−２２１４２６（Ｐ２００６−２２１４２６）
【出願日】平成１８年８月１５日（２００６．８．１５）
【新規性喪失の例外の表示】特許法第３０条第１項適用申請有り 主催者名 学校法人 神奈川大学 発表日 平成１８年２月１６日
【出願人】（０００００４４５５）日立化成工業株式会社 (4,649)
【出願人】（５９２２１８３００）学校法人神奈川大学 (243)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年２月１４日（２００８．２．１４）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年８月１５日（２００６．８．１５）
【新規性喪失の例外の表示】特許法第３０条第１項適用申請有り 主催者名 学校法人 神奈川大学 発表日 平成１８年２月１６日
【出願人】（０００００４４５５）日立化成工業株式会社 (4,649)
【出願人】（５９２２１８３００）学校法人神奈川大学 (243)
【Ｆターム（参考）】
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