本発明は、窒素と酸素（Ｎ，Ｏ）原子或いは酸素と酸素（Ｏ，Ｏ）原子により配位結合された、即ちアミノアルコール類、（ヒドロキシイミノ）ジカルボン酸類、ヒドロキシピラノン類、トリフルオロ酢酸、トリフリック酸又は無機酸からの誘導体である、二座又は多座配位子を有する、バナジウム錯体（酸化状態が＋４又は＋５である）を、温和条件の下、一酸化炭素の存在下或いは非存在下、及びトリフルオロ酢酸（CF₃COOH）中のペルオキソ二硫化塩（K₂S₂O₈）の存在下に、メタンの酢酸への直接ワンポット転化の際の触媒として、一般式（Ｉ）に基づいて使用する。 （もっと読む）

本発明は、一般式（Ｉ）のフェニルアルキルカルボン酸を製造する方法に関し、ここで同一または異なるＲ１およびＲ２が互いに独立して、−（Ｃ₁−Ｃ₄）−アルキルを表し、Ｚが水素原子または−（ＣＨ２）ｎ−ＣＨ３であり（ここで、ｎ＝０〜９）、そしてＲ３が−Ｃ（Ｏ）−（Ｃ１−Ｃ４）−アルキル（これはＣｌまたはＢｒによって置換されているか、または非置換である）、または−Ｃ（Ｏ）−（Ｃ３−Ｃ６）−シクロアルキルであり、式（ＩＩ）の化合物（ここで、ＸがＣｌまたはＢｒまたはＯＨであり、かつＲ４がＲ２に定義される通りであり、残りはＸと一緒になってＣ＝Ｃ二重結合を表す）を濃硫酸、フッ化水素または過酸の存在下、一酸化炭素と反応させ、続いて、水または式ＣＨ３−（ＣＨ２）ｎ−ＯＨ（ｎ＝０〜９）のアルコールを添加することを包含する。
【化１】

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微孔質シリカゲルの合成および合成ガスからのＣ_２酸素化物合成のための触媒の製造に対するその適用につき開示する。ゾルゲルプロセスにより生成されかつ塩基性溶液中で加熱され、次いで乾燥および／または焼成されるシリカゲルの小粒子は、かくして触媒支持体として微孔質シリカを形成する。塩基性溶液はアルカリ金属およびアンモニウムの水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩、蟻酸塩および酢酸塩の１種または混合溶液とすることができる。得られる微孔質シリカにはロジウム塩および他の遷移元素塩（プロモータ先駆体として）の溶液を含浸させ、次いで乾燥および／または焼成し、かくして微孔質シリカ支持されたロジウム系触媒を形成する。ロジウム塩はＲｈＣｌ_３もしくはＲｈ（ＮＯ_３）_３とすることができる。プロモータ先駆体は水可溶解の遷移金属塩、稀土類金属塩、アルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩とすることができる。得られる触媒は、緩和なプロセス条件下におけるＣＯの水素化によるＣ_２−酸素化物の合成にて高い活性および選択率を示す。 （もっと読む）

ＣＯの水素化によるＣ_２−酸化物の合成のための触媒につき開示する。この触媒はＲｈ−Ｍｎ−Ｆｅ−Ｍ_１−Ｍ_２／ＳｉＯ_２、特にＭｎ−Ｆｅ−Ｍ_１−およびＭ_２並びに添加剤で構成される。Ｍ_１はＬｉもしくはＮａとすることができる一方Ｍ_２はＲｕもしくはＩｒとすることができる。Ｒｈの含有量は０．１〜３重量％であり、Ｍｎ／Ｒｈの重量比は０．５〜１２であり、Ｆｅ／Ｒｈの重量比は０．０１〜０．５であり、Ｍ_１／Ｒｈの重量比は０．０１〜１であり、Ｍ_２／Ｒｈの重量比は０．１〜１．０である。触媒は、各成分の対応化合物の溶液を所望量にてＳｉＯ_２のキャリヤに含浸させて作成され、次いで２８３〜４７３Ｋにて乾燥する。使用に先立ち、触媒は水素または水素含有ガスにより５７３〜６７３Ｋにて少なくとも１時間にわたり、４７３〜６７３Ｋにおける２〜２０時間の乾燥の後もしくは焼成の後に還元される。これら触媒はＣＯおよびＨ_２をエタノール、アセトアルデヒド、酢酸および他のＣ_２−酸素化物まで高変換率および高選択率にて緩和な条件下に変換することができる。 （もっと読む）