【課題】ＥＵＶ用またはＥＢ用として有用なレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）を含有するＥＵＶ用又はＥＢ用レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０−１）又は（ａ０−２）で表される基を含む構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、前記基材成分（Ａ）に加えて、光反応型クエンチャー（Ｃ）を含有することを特徴とするＥＵＶ用又はＥＢ用レジスト組成物。式中の基−Ｒ^３−Ｓ^＋（Ｒ^４）（Ｒ^５）は、全体で芳香環を１個のみ有するか又は芳香環を有さない。Ｍ^ｍ＋は、芳香環を１個のみ有するか又は芳香環を有さない。
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【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、レジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光によりｐＫａが０以上である酸を発生する酸発生剤成分（Ｃ）（但し、前記基材成分（Ａ）を除く）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）（但し、前記基材成分（Ａ）及び前記酸発生剤成分（Ｃ）を除く）と、を含み、前記基材成分（Ａ）が、主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有する重合体（Ａ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】低温度下での反応条件にもかかわらず、高収率で芳香族ヒドロキシカルボン酸を製造でき、環境負荷の少ない芳香族ヒドロキシカルボン酸の製造方法を提供すること。
【解決手段】媒体中で芳香族ヒドロキシ化合物のアルカリ金属塩と二酸化炭素とを反応させる工程を含む芳香族ヒドロキシカルボン酸の製造方法において、芳香族ヒドロキシ化合物のアルカリ金属塩１モルに対して、１種以上のアルコール化合物および／またはエーテル化合物０．０１〜１．０モルを存在させて反応を行う工程を含むことを特徴とする、芳香族ヒドロキシカルボン酸の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】ＭＥＥＦ性能及びＬＷＲ性能等のリソグラフィー性能に優れ、かつパターン倒れ耐性にも優れる感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】[Ａ］酸分解性基を有する構造単位から成る重合体、［Ｂ］放射線の照射により、スルホン酸、カルボン酸又はスルホンアミドを発生し、このスルホン酸、カルボン酸及びスルホンアミドがα位の炭素原子に結合する少なくとも１個のフッ素原子又はパーフルオロアルキル基を有する化合物、並びに［Ｃ］放射線の照射により、スルホン酸、カルボン酸又はスルホンアミドを発生し、このスルホン酸、カルボン酸及びスルホンアミドがα位の炭素原子に結合するフッ素原子及びパーフルオロアルキル基をいずれも有さない化合物を含有する感放射線性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶリソグラフィー又は電子線リソグラフィーに用いられる高感度のレジスト組成物を提供する。
【解決手段】以下の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｄ）及び（Ｅ）を含むレジスト組成物の提供
（Ａ）特定の構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂
（Ｂ）酸発生剤
（Ｄ）溶剤
（Ｅ）式（ａ）で示される化合物


［Ｒ^３は、炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基などを示し、Ｒ^４は、水素原子、脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】低温度下の反応条件でも高収率で目的物が得られる芳香族ヒドロキシカルボン酸の製造方法を提供すること。
【解決手段】媒体中で、芳香族ヒドロキシ化合物のアルカリ金属塩と二酸化炭素とを反応させる工程を含む芳香族ヒドロキシカルボン酸を製造する方法において、芳香族ヒドロキシ化合物のアルカリ金属塩１モルに対して、０．０１〜１．０モルの配位子を単独または金属錯体として存在させて反応を行う工程を含むことを特徴とする、芳香族ヒドロキシカルボン酸の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】焦点深度、ＬＷＲ、ＭＥＥＦに優れるとともに、現像欠陥にも優れた化学増幅型レジストである感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の二種の繰り返し単位を含有する重合体、（Ｂ）感放射線性酸発生剤および（Ｃ）特定のアンモニウム構造を有する化合物を含有する、感放射線性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

本発明は、式（ＩＩＩ）：［Ｙ−ＣＯ［Ｏ−Ａ−ＣＯ］_ｎ−Ｚ−Ｒ^＋］_ｍｐＸ^ｑ−（式中、Ｙは、水素又は任意に置換されたヒドロカルビル基であり、Ａは、二価の任意に置換されたヒドロカルビル基であり、ｎは１〜１００、好ましくは１〜１０であり、ｍは１〜４であり、ｑは１〜４であり、ｐは、ｐｑ＝ｍであるような整数であり、Ｚは、窒素原子を介してカルボニル基に結合している、任意に置換された二価の架橋基であり、Ｒ^＋はアンモニウム基であり、Ｘ^ｑ−は、硫黄を含有しないアニオンである）を有するポリ（ヒドロキシカルボン酸）アミド塩誘導体を提供する。更に、本発明は、ポリ（ヒドロキシカルボン酸）アミド塩誘導体を含有する潤滑組成物及び燃料組成物並びに流体のリン揮発度を低下させるためのポリ（ヒドロキシカルボン酸）アミド塩誘導体の使用を提供する。 （もっと読む）

【課題】良好な臭気結合特性及び良好な性能を有する吸水性組成物を提供すること。
【解決手段】吸水性ポリマー構造体と、下記構造Ｉを有する化合物と、を含む吸水性組成物に関する。また、その製造方法、その方法によって得られる吸水性組成物、複合体、複合体の製造方法、その方法によって得られる複合体、衛生用品等の化学製品、吸水性組成物又は複合体の使用並びに構造Ｉを有する化合物の使用に関する。
【化１】


構造Ｉ
（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、同一又は異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数が１〜４の炭化水素基又は水酸基を示し、Ｒ^５は、水素原子、炭素数が１〜４の炭化水素基又はアセチル基を示し、ｎは、１、２及び３からなる群から選択される整数を示し、Ｍ^ｎ＋は、ｎ価の金属カチオン又はＨ^＋カチオンを示す。） （もっと読む）

【課題】従来、芳香族ヒドロキシカルボン酸を製造する場合、原料となる芳香族ヒドロキシ化合物をナトリウムなどのアルカリ金属塩にし、反応を行うのが一般的であった。しかし、このような製造方法では、原料をアルカリ金属塩としているため、反応終了後、アルカリ金属と芳香族ヒドロキシカルボン酸との分離操作が必要となる。
【解決手段】そこで、本件発明は上記課題に鑑み、次の芳香族ヒドロキシカルボン酸の製造方法を提供する。すなわち、芳香族ヒドロキシ化合物と炭酸カルシウムなどの塩基性触媒とを超臨界流体状態の二酸化炭素と反応させることで、溶剤やアルカリ金属を用いずに芳香族ヒドロキシカルボン酸を製造する。これにより、生成物のアルカリ金属や溶剤からの分離操作を極力抑えることが可能となる。 （もっと読む）