【課題】治療方法ならびにサポゲニン、関連化合物およびそれらの誘導体の提供。
【解決手段】本発明は、非認知的な神経変性、非認知的な神経筋変性、運動−感覚神経変性、認知的な神経および神経筋の障害がない場合の受容体の機能障害または損失の治療における、治療方法ならびにステロイドサポゲニン、関連化合物、およびそれらの誘導体の使用を開示する。 （もっと読む）

【課題】優れた非侵襲性を有し、疾患部位へ効率よく移行できる金属サレン錯体化合物、この金属サレン錯体化合物を有する局所麻酔薬剤、及びこの金属サレン錯体化合物を有する抗悪性腫瘍薬剤を提供する。
【解決手段】金属サレン錯体又は当該金属サレン錯体の誘導体の２分子がそれぞれの金属原子の部分で水を介して２量体化されており、基剤に混合されて軟膏となる金属サレン錯体化合物である。 （もっと読む）

【課題】ナス属の植物からの水溶性抽出物を含有する、炎症及び皮膚の光損傷を予防及び治療するための医薬組成物を提供すること。
【解決手段】本発明は、ナス属の植物からの水溶性抽出物を含有する、炎症及び皮膚の光損傷を予防及び治療するための医薬組成物に関する。組成物は光防護効果も有し、化粧用組成物として用いることもできる。 （もっと読む）

【課題】ドーパオキシダーゼ活性抑制剤及び美白剤を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物を有効成分として含有するドーパオキシダーゼ活性抑制剤、及び当該化合物を有効成分として含有する美白剤。


（式中、Ｒ^１〜Ｒ^３は、それぞれ独立に水素原子、ヒドロキシル基又は炭素数１〜１２のアシルオキシ基を表す。Ｒ^４はヒドロキシル基又は炭素数１〜１２のアシルオキシ基を表す。ただし、Ｒ^４がヒドロキシル基の場合、Ｒ^３はヒドロキシル基である。） （もっと読む）

【課題】セラミド産生促進剤、保湿剤及び皮膚外用剤の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物を有効成分として含有するセラミド産生促進剤、保湿剤及び皮膚外用剤。


（式中、Ｒ^１〜Ｒ^３は、それぞれ独立に水素、ヒドロキシル基又はアシルオキシ基を表す。Ｒ^４はヒドロキシル基又はアシルオキシ基を表す。Ｒ^４がヒドロキシル基の場合、Ｒ^５は水素を表し、ＸはＣ＝Ｏを表す。Ｒ^４がアシルオキシ基の場合、Ｒ^５は水素、ヒドロキシル基又はアルコキシ基を表し、ＸはＣ＝Ｏ、又はＣＲ^６Ｒ^７を表す。） （もっと読む）

【課題】 本発明は、複数のウィザノイド化合物を特定の割合で組み合わせることで、正常細胞への毒性はなく、しかも癌細胞に対する細胞増殖抑制効果の高い抗癌剤を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、ウィザノイド化合物のうち、ウィザノンとウィザフェリンＡとを有効成分として２：１(重量比)の割合で含む（WiNA-21）抗癌剤を提供する。WiNA-21及びWiNA-201は、正常細胞への細胞毒性がなく、しかも、癌細胞に対する細胞増殖抑制能が強力であるという画期的な効果が奏せられる。 （もっと読む）

【課題】血管内皮細胞増殖因子（ＶＥＧＦ）産生促進作用を有し、医薬品、化粧品若しくは食品、又はそれらの素材となり得る、ＶＥＧＦ産生促進剤、髪質改善剤、及び皮膚外用剤の提供。
【解決手段】ユリ科ナギイカダ属植物由来のアクレオシドＡ（スピロスタ-５，２５（２７）-ジエン-１β、３β、２３α、２４α-テトロール-１-Ｏ‐［２，３，４‐トリ-Ｏ‐アセチル‐α‐Ｌ‐ラムノピラノシル‐（１→４）-α‐Ｌ‐アラビノピラノシル］‐２４‐Ｏ-６−デオキシ-Ｄ-グリセロ-Ｌ-スレオ-４-ヘキスロピラノシド）を有効成分とするＶＥＧＦ産生促進剤、髪質改善剤、皮膚外用剤。 （もっと読む）

【課題】
安全性が高く、優れた脳機能改善効果を有する脳機能改善剤および該脳機能改善剤を含有する飲食品あるいは医薬品を提供する。
【解決手段】
エルゴステロールペルオキシドを含有する脳機能改善剤及び前記脳機能改善剤を含有する飲食品あるいは医薬品とすることにより、脳機能の改善を促進して、例えば、空間的学習障害の改善などに有効であり、脳機能改善などを目的とする各種の飲食品あるいは医薬品などに利用することができる。 （もっと読む）

本明細書に記載の通り、本発明は、神経変性障害を治療するかまたはその重症度を低減するのに有用な化合物を提供する。本発明はまた、本発明の化合物またはその組成物を患者に投与するステップを含む、かかる障害を治療するかまたはその重症度を低減する方法を提供する。前記方法は、例えばアルツハイマー病を治療するかまたはその重症度を低減するのに有用である。本発明はまた、前記患者のアミロイド−ベータ（１−４２）ペプチドレベルを選択的に低減するための方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、ＡｒＦレーザー、Ｆ2レーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、高解像性を達成すると共に、マスク被覆率依存性を低減し、更には液浸露光にも適用可能な化学増幅型レジスト材料に好適に用いられる新規な含窒素有機化合物の提供。
【解決手段】ベヘン酸［２−（１Ｈ−イミダゾール−１−イル）−１−メチルエチル］、ベヘン酸（２−モルホリノエチル）、デヒドロコール酸［２−（１Ｈ−ベンズイミダゾール−１−イル）エチル］、コール酸トリホルマート（２−モルホリノエチル）エステル、１−［２−（コレスタニルオキシメトキシ）エチル］イミダゾール、２−（２−フェニル−１Ｈ−ベンズイミダゾール−１−イル）酢酸コレステリルエステル、サルササポゲニン［３−（チオモルホリノ）プロピオナート］等。 （もっと読む）