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国際特許分類[C08F2/50]の内容

国際特許分類[C08F2/50]に分類される特許

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【課題】パターン加工性に優れ、UV硬化および熱硬化により高硬度、高透明、高耐熱であり、下地金属の腐食を抑える高い耐湿熱性を備える硬化膜を与える、アルカリ現像可能なネガ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(A)カルボキシル基含有アクリル樹脂、(B)光重合開始剤、(C)多官能モノマー、(D)芳香環を4つ以上有しかつ芳香環との結合が3つ以上ある4級炭素を有する多官能エポキシ化合物を含有するネガ型感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】成膜性に優れた光学フィルム製造用の組成物及び該組成物から形成される光学フィルムの提供。
【解決手段】以下の(A)、(B)及び(C)を含む組成物、及び該組成物から形成される光学フィルム。(A)式(A)で表される化合物


[式中、Yは芳香族複素環式基などを表す。D及びDは、−C(=O)−O−などを表す。G及びGは脂環式炭化水素基などを表す。L及びLのうち少なくとも一方が、重合性基を有する有機基である。](B)メルカプト基を有する化合物。(C)光重合開始剤。 (もっと読む)


【課題】レーザ光以外の活性光線を直接描画法に適用して、優れた形状のレジストパターンを形成可能なレジストパターンの形成方法の提供。
【解決手段】基板上に、バインダーポリマー、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、及び一般式(1)で表される光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物層を形成する工程と、層の少なくとも一部の領域に、各種光源とする光のうち、波長350nm以下の光の少なくとも一部が除去された活性光線を、パターン状に直接描画して光硬化部を形成する露光工程と、光硬化部以外の領域を除去する現像工程とを備えるレジストパターンの形成方法。
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【課題】有機溶剤現像によるネガ型パターン形成において、現像後のパターン倒れ及びブリッジ欠陥の発生を抑え、残膜率も大きい感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】下記一般式(I)で表される繰り返し単位(a)を有する樹脂(P)、
特定の一般式(B−1)〜(B−3)のいずれかで表される化合物(B)、及び溶剤
を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。


上記一般式(I)中、Rは、水素原子又はメチル基を表す。
、R及びRは、各々独立に、直鎖状又は分岐状のアルキル基を表す。 (もっと読む)


【課題】良好な現像時間依存性を以って、超微細の孔径を有し、かつ、真円性に優れるホールパターンの提供。
【解決手段】(P)下記一般式(I)で表される繰り返し単位(a)を有する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により有機酸を発生する化合物、及び、(C)活性光線又は放射線の照射により塩基性が低下する、塩基性化合物又はアンモニウム塩化合物を含有する組成物であって、前記化合物(C)の前記化合物(B)に対するモル比率[C]/[B]が0.4以上である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。


上記一般式(I)中、Rは、水素原子又はメチル基を表す。R、R及びRは、各々独立に、直鎖状又は分岐状のアルキル基を表す。 (もっと読む)


【課題】フォトリソグラフィー法によるパターン加工性を有し、透明性に優れ、熱処理や薬品処理後、高温高湿条件下等においても無機材料表面との接着性に優れ、高硬度である硬化膜を得ることができる感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】(A)光重合性モノマー、(B)透明樹脂、(C)光重合開始剤及び(D)溶剤を含有する感光性組成物であって、前記(B)透明樹脂に、不飽和二重結合及びアルコキシシランを有する化合物とアルコキシシランを有しない不飽和二重結合を有する化合物との共重合体Aと、不飽和二重結合及びカルボン酸を有する化合物とカルボン酸を有しない不飽和二重結合を有する化合物との共重合体Bとの混合物を用いることを特徴とする感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】コントラスト向上層に隣接してネオン光吸収層を設けても、ネオン光吸収機能がコントラスト向上層中の光重合開始剤の残渣で劣化しないPDP用コントラスト向上フィルタを提供する。
【解決手段】PDP用コントラスト向上フィルタ10は、光吸収部2bの、ネオン光吸収層3が配置される側の面は、凹状の窪み2cが形成されており、前記光吸収部2bの窪み部分2cは、コントラスト向上層2のネオン光吸収層3と接する面が面一となるように、光透過部2a形成用組成物と同じ成分からなる硬化物からなり、光吸収部2b形成用組成物に含まれる光重合開始剤、および前記光透過部2a形成用組成物に含まれる光重合開始剤が、モノ−またはビ−アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤、オキシフェニル酢酸エステル系光重合開始剤、およびアルキルフェノン系光重合開始剤からなる群から選択される少なくとも1種以上を含んでなる。 (もっと読む)


【課題】塗膜の高密着性及び高透明性を損なうことなく、優れた表面保護機能を発現する硬化膜を与える感光性組成物を提供する。
【解決手段】エチレン性不飽和結合含有基(x)を有するフタル酸エステル、トリメリット酸エステル及びピロメリット酸エステルからなる群から選ばれる少なくとも1種のエステル化合物(A)、重合開始剤(C)、並びに必要により、ウレタン基及び/又はウレア基を有する(メタ)アクリレート(B)と活性エネルギー線により酸を発生する酸発生剤(D)の少なくとも一方を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化型感光性組成物。前記エチレン性不飽和結合含有基(x)は、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、1−プロペニル基及びアリル基からなる群から選ばれる少なくとも1種の置換基であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 本発明の課題は、長期保管後の感光性低下が無く保存安定性に優れ、微細加工性、現像性、低温硬化性、硬化膜の柔軟性、電気絶縁信頼性、ハンダ耐熱性、耐有機溶剤性、難燃性等に優れ、硬化後の基板の反りが小さい感光性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】 少なくとも、A剤およびB剤の少なくとも2剤以上含んでなる感光性樹脂組成物作製キットであって、当該A剤は(a1)芳香環を有し感光性基を有さない化合物を含有し、当該B剤は(b1)エポキシ樹脂、(b2)オキシムエステル系光重合開始剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物作製キットを用いることで上記課題を解決しうる。 (もっと読む)


【課題】ノンハロゲン組成で環境負荷が少ないと共に難燃性及び保存安定性が共に優れ、可撓性に富む硬化皮膜を形成できる難燃性光硬化性樹脂組成物、そのドライフィルム及び硬化物、並びにこれらによりソルダーレジスト等の難燃性硬化皮膜が形成されてなるプリント配線板を提供する。
【解決手段】難燃性光硬化性樹脂組成物は、(A)カルボキシル基含有ウレタン樹脂、(B)上記カルボキシル基含有ウレタン樹脂(A)又はそのワニスに5wt%以上可溶である可溶性ホスファゼン化合物、及び(C)光重合開始剤を含有する。好適にはさらに(D)光重合性モノマーを含有し、あるいはさらに(E)熱硬化性樹脂を含有する。このような難燃性光硬化性樹脂組成物、特に熱硬化性樹脂(E)を含有する光硬化性・熱硬化性樹脂組成物は、ソルダーレジストとして好適に用いることができる。 (もっと読む)


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