【課題】解像度及びレジスト剥離特性の向上に十分効果のある感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の構造を有するバインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤、を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度及び密着性の全てを従来よりも十分に満足するレジストパターンを形成する感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】
上記目的を達成する本発明は、（Ａ）特定のスチレン及びその誘導体から得られる２価の基１０〜６５質量部と、特定の（メタ）アクリル酸エステル及びその誘導体から得られる２価の基５〜５５質量部と、（メタ）アクリル酸から得られる２価の基１５〜５０質量部とを有する１００質量部のバインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明により、通常露光及び液浸露光によるラインエッジラフネスが改善され、液浸露光時に於ける水追随性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）で表される酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素および珪素を含有せず、所定の構造を有する繰り返し単位を有する樹脂、および（Ｄ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。式（Ｉ）中、各記号は所定の基等を表す。
【化１】
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【課題】レジストパターンを熱処理することにより微細パターンを形成するに際し、該レジストパターン上に塗布され、熱処理により、レジストパターンを円滑により安定して収縮させることができると共に、その後のアルカリ水溶液処理により容易に除去し得る樹脂組成物、およびこれを用いて効率よく微細レジストパターンを形成できる。
【解決手段】樹脂と、この樹脂を架橋させる架橋成分と、溶媒とを含み、樹脂が式（１）で表される繰り返し単位（Ｉ）を含有する。
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【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における、高解像性、高感度、パターン形成後の現像欠陥を低減させることで、歩留まりを向上させることが可能なレジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の繰り返し単位を含有する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、並びに（Ｃ）溶剤を含有するレジスト組成物において、（Ｃ）溶剤として（Ｃ１）プロピレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート及び、（Ｃ２）プロピレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキル、酢酸エステル、アルコキシプロピオン酸アルキル、鎖状ケトン及び、環状ケトンから選ばれる少なくとも１種を含有することを特徴とするレジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 光学用途で用いられるフィルムに要求されている透明性、光学等方性に優れ、実用的な耐熱性と機械強度を併せ持つ延伸フィルムを提供することを目的とする。
【解決手段】 少なくとも１種の（メタ）アクリル酸エステルモノマーと少なくとも１種の芳香族ビニルモノマーとを含むモノマー組成物を重合して得られ、かつ、芳香族ビニルモノマー由来の構成単位（Ｂモル）に対する（メタ）アクリル酸エステルモノマー由来の構成単位（Ａモル）のモル比（Ａ／Ｂ）が０．２５〜４である共重合体の芳香族二重結合の７０％以上を水素化して得られる熱可塑性透明樹脂からなる延伸フィルム。
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【課題】感度のバラツキもなく、支持体との密着性や耐キズ性に優れ、バンディング現象もなく、高耐刷性を有し、更にオーバーコート層を必要としない感光性組成物および平版印刷原版を提供する。
【解決手段】スチレン単位と桂皮酸ビニル又はフェニルブタジエン酸ビニル単位との共重合体単位を有するアルカリ可溶性共重合体（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、重合開始剤（Ｃ）、及び、赤外線吸収剤（Ｄ）を含有することを特徴とする感光性組成物である。 （もっと読む）

【課題】ポリビニルアルコールを使用しなくても、水溶性ポリマーのみでレジストパターンを微細化することができ、さらに水溶性、被膜強度、平滑性などに優れた被膜形成用樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】式（I）：


(式中、Ｒ^１は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基、Ｘは酸素原子、ＮＨ基または硫黄原子、Ｒ^２は水酸基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキレン基、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立して炭素数１〜４のアルキル基を示す)
で表されるアミノ基含有モノマー２０〜８０重量％および式（II）:


（式中、Ｒ^１は前記と同じ。Ｒ^５はカルボン酸エステル基、芳香族基、複素環含有基またはカプロラクタム基を示す）
で表されるビニル基含有化合物２０〜８０重量％を含有するモノマー組成物を重合させてなる被膜形成用樹脂組成物。 （もっと読む）

要約
本発明は３次元物体の製造方法に関し、３次元構造が、可視光及び／又は紫外線で固体高分子材料へと硬化できる組成物の層群の、個々の層の紫外及び／又は可視光線への一連の曝露による、一連の選択的硬化によって製造され、その後このようにして形成された３次元構造を用いることにより３次元物体を製造し、続いて３次元構造を３次元物体から除去することを含む方法において、３次元構造を除去することが、高分子材料を化学的に切断することに加えて、同時又は続いて材料を溶媒又は混合溶媒中で溶解すること及び／又は材料を融解することによって達成されることを特徴とする方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 偏光子フィルムとの接着性が改善され、優れた光学特性、低透湿性を備えた偏光子保護フィルムを提供する
【解決手段】 （メタ）アクリル酸エステルまたは（メタ）アクリル酸構成成分およびグルタルイミド単位、芳香族ビニル単位を含有することを特徴とする熱可塑性樹脂からなる偏光子保護フィルムであり、偏光子フィルムと対向する側の面上に易接着層を有する偏光子保護フィルムを提供した。これにより、偏光子フィルムとの接着性が大幅に改善され、光学特性や耐久性に優れた偏光板を得ることができる。 （もっと読む）