【課題】パターン形成時にブリッジが発生しにくく、高い解像性を与えることができるネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、（Ａ）アルカリ可溶性であり、酸の作用によりアルカリ不溶性となるベースポリマー、（Ｂ）酸発生剤、（Ｃ）塩基性成分を含有するネガ型レジスト組成物であって、前記ベースポリマーは、少なくとも、フェノール性水酸基を側鎖に有するアクリレート単位及びエポキシシクロヘキシル基を有するアクリレートの繰り返し単位を含み、ポリマー間で酸架橋性を有する重量平均分子量が１，０００〜１０，０００である高分子化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】トリアリールアミン構造と電子輸送性構造を同一分子内に同時に含む電荷輸送性ポリマーにおいて、それぞれの構造に由来する発光よりも低いエネルギーの発光を抑制した電荷輸送性ポリマーを提供し、それを用いた有機発光素子の発光効率を高めること。
【解決手段】一対の電極および、発光層を含む一層以上の有機化合物層を有し、前記一対の電極間に電圧を印加することにより発光する有機発光素子であって、前記発光層が電荷輸送性ポリマーと発光性化合物を含み、前記電荷輸送性ポリマーが複数の特定の繰り返し単位および組成比からなることを特徴とする有機発光素子。 （もっと読む）

【課題】長期間に亘って十分な変換光強度を維持することが可能な緑色および赤色変換膜および長期にわたって安定した発光特性を示す多色発光有機ＥＬデバイスを提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される繰り返し単位の一種類以上及び一般式（２）、（６）または（７）で表される繰り返し単位の一種類以上を有し、（１）：（２）、（６）または（７）のモル比をｍ：ｎとしたとき、ｎ／（ｍ＋ｎ）＝１／１００〜１００／１００であることを特徴とするペンダント型高分子化合物、該高分子化合物を含有してなるフィルム、該高分子化合物を含有してなる色変換膜、該高分子化合物と低分子色素化合物を含有することを特徴とする色変換膜、有機ＥＬ素子と、前記色変換膜とを含むことを特徴とする色変換発光デバイス。 （もっと読む）

【課題】アクリル樹脂本来の高い透明性、耐候安定性を損ねることなく耐熱性と成形加工性を付与したアクリル系樹脂組成物、及びその成形体を提供する。
【解決手段】下記共重合体（ａ）９９〜１重量部と共重合体（ｂ）１〜９９重量部からなるアクリル系樹脂組成物、及びその成形体。
共重合体（ａ）：（ｉ）メタクリレート単量体由来の繰り返し単位、（ｉｉ）ビニル芳香族単量体由来の繰り返し単位、及び（ｉｉｉ）酸無水物繰り返し単位からなる共重合体。
共重合体（ｂ）：メタクリル酸エステル単量体、他の共重合性のビニル単量体からなる共重合体。 （もっと読む）

【課題】ディフェクトの発生が抑制されたレジストパターンを良好なリソグラフィー特性で形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、下記一般式（ｃ１−１）で表される構成単位（ｃ１）および下記一般式（ｃ２−１）で表される構成単位（ｃ２）を有し、前記構成単位の（ｃ２）の割合が２０〜６０モル％である含フッ素共重合体からなる添加剤成分（Ｃ）と、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
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【課題】感度、残膜率、保存安定性に優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法であって、硬化させることにより耐熱性、密着性、透過率などに優れる硬化膜が得られる、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法を提供すること。
【解決手段】解離性基が解離することで、カルボキシル基を生じる特定のスチレン系構成単位とカルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物、及び、波長３００ｎｍ以上の活性光線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】優れたドライグリップ性能とウェットグリップ性能とを発揮し得るゴム組成物、空気入りタイヤの提供。
【解決手段】ジエン系ゴム成分１００質量部に対し、無機充填剤を５〜３５０質量部の量で含む充填剤を総量で１０〜３５０質量部の量で配合し、かつ充填剤の総量に対し、軟化剤と下記式（Ｉ）で表されるモノマー（Ｉ）および下記式（II）で表されるモノマー（II）を共重合させて得られる樹脂とを総量で５０質量％以上の量となるよう配合する。
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【解決手段】ラクトンを密着性基として有する繰り返し単位と、酸不安定基含有繰り返し単位とを共重合した高分子化合物を含む第１ポジ型レジスト材料で基板上に第１レジスト膜を形成する工程、第１レジスト膜を露光後、加熱処理し、現像して第１レジストパターンを形成する工程、第１レジストパターンにアミン化合物又はオキサゾリン化合物を適用し、C3〜8のアルコール、又はC3〜8のアルコール及びC6〜12のエーテルを含み、前記第１のレジストパターンを溶解しない溶剤を溶媒とする第２ポジ型レジスト材料を塗布し、第２レジスト膜を形成する工程、第２レジスト膜を露光、ＰＥＢ後、現像して第２レジストパターンを形成する工程を含むパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第１レジストパターンのパターンが未形成の部分に第２パターンを形成し、パターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行い、一度のドライエッチングで基板を加工できる。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンに生じるラフネスを低減して良好な形状を有するパターン形成方法を実現できるようにする。
【解決手段】基板１０１の上に、ラクトンがフェノールにおけるＯＨ基の水素と置換された基と酸脱離基とを含むポリマーを有する化学増幅型レジスト材料からレジスト膜１０２を形成する。続いて、レジスト膜１０２に露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う。その後、パターン露光が行われたレジスト膜１０２を加熱し、加熱されたレジスト膜１０２に対して現像を行って、レジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを形成する。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、低複屈折性、及び耐レーザー性が高度にバランスした脂環式炭化水素ランダム共重合体とその製造方法を提供する。
【解決手段】脂環式構造の繰り返し単位と鎖状構造の繰り返し単位を含有する脂環式炭化水素ランダム共重合体であって、脂環式構造の繰り返し単位が特定の脂環式構造を持つ繰り返し単位であり、鎖状構造の繰り返し単位が特定の繰り返し単位（２）と他の繰り返し単位を有する鎖状構造を持つ繰り返し単位であり、各繰り返し単位の合計含有量が９０重量％以上、鎖状構造の繰り返し単位の含有量が１〜１５重量％、鎖状構造の繰り返し単位中での繰り返し単位（２）の含有量が４０モル％未満、重量平均分子量が１０，０００〜３００，０００である脂環式炭化水素ランダム共重合体。
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