【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できる、ネガ型レジスト組成物、当該ネガ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、および当該ネガ型レジスト組成物に用いる樹脂成分として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）および架橋剤成分（Ｃ）を含有するネガ型レジスト組成物であって、前記アルカリ可溶性樹脂成分（Ａ）は、塩基解離性基を含む構成単位（ｆ１）と架橋性基含有基を含む構成単位（ｆ２）とを有する高分子化合物（Ｆ）を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】熱処理によりレジストパターンを円滑に収縮させることができる重合体の提供。
【解決手段】下記式(1)〜(3)で表される単量体を重合して得られ、ＧＰＣ法により測定されるポリスチレン換算重量平均分子量が1,000〜30,000である重合体。
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【課題】
本発明は、耐熱性、色調、流動性などの物性バランスに優れ、且つ、成形加工時の金型汚れの原因となるブリード量を減らし、操業性や生産性に優れた熱可塑性共重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】
（イ）芳香族系ビニル単量体（ａ１）、シアン化ビニル単量体（ａ２）、Ｎ−置換マレイミド単量体（ａ３）を含む単量体混合液（ａ）を完全混合型の反応器に連続的に供給し、さらに、
（ロ）前記完全混合型反応器に直列に配置された静的混合用構造部を有する管状反応器を用いて、芳香族系ビニル単量体（ａ１）、シアン化ビニル単量体（ａ２）、Ｎ−置換マレイミド単量体（ａ３）からなる共重合体（Ａ）を製造する熱可塑性共重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高耐熱性、高透明性の特性を有し、かつ耐薬品性が良好な硬化膜を得ることができるポジ型感光性組成物、および該ポジ型感光性組成物から形成されたＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、コアやクラッド材などの硬化膜、およびその硬化膜を有する表示素子、半導体素子、光導波路などの素子を提供する。
【解決手段】（ａ）下記一般式（１）で表される構造単位を含むカルボキシル基含有アクリル樹脂、（ｂ）ナフトキノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤を含有するポジ型感光性組成物。
【化１】


（Ｒ^１は水素原子またはメチル基、Ｒ^２は炭素数２から１５の２価の有機基を表す。） （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、反射防止膜を用いず、高反射基板をそのまま用いたとしても、定在波の発生が抑制され、矩形なプロファイルが得られ、かつ高感度、高解像性の化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される構造を有し２４８ｎｍの波長に吸収を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】硬化後において高誘電率、低誘電正接、高耐熱性を示し、かつ優れた機械特性、接着性、加工性等を備え、さらにコンデンサを形成した際、温度上昇によるコンデンサの静電容量変化を小さくすることができ、誘電材料、耐熱材料に用いることができる硬化性樹脂組成物、硬化物又はこれを含む材料を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分：溶剤可溶性の多官能ビニル芳香族共重合体と（Ｂ）成分：最大粒径２０μｍ以下、かつ平均粒径５μｍ以下であり、かつキュリー温度が−５０℃以下の第２族〜第６族の金属酸化物、又は第２族〜第６族の金属酸化物の塩のいずれか1種以上の誘電体粉末からなる硬化性樹脂組成物であって、（Ｂ）成分の配合量が５０〜９０ｗｔ％である硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】熱可塑性樹脂の透明性、耐熱性、及び機械強度、等を損なうことなく、その溶融流動性（成形加工性）を向上させることができる流動性改質剤、およびこれを用いた樹脂組成物、並びにこれを用いた成形品を提供すること。
【解決手段】芳香族ビニル単量体単位（ａ１）０．５〜９９．５質量％と、末端に炭素‐水素結合を有し且つフッ素を含有したアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル単量体単位（ａ２）０．５〜９９．５質量％とを含有する、アクリル樹脂用流動性改質剤。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法であって、感度、解像度、ラフネス、パターン形状及びアウトガス特性に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物である特定のスルフォニウム化合物、及び、特定の繰り返し単位を有するポリヒドロキシスチレン樹脂を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】
安価に製造できる樹脂を用い、耐熱性に優れ、吸水性が低く、高い透明性および屈折率を有するレンズシートを提供する。
【解決手段】
本発明のレンズシートは、スチレン誘導体単位および共役ジエン誘導体単位を含有する共重合体（Ａ）が環化されてなり、前記スチレン誘導体単位および共役ジエン誘導体単位の少なくとも一部が水素添加されていてもよく、ガラス転移温度が１０５℃〜２００℃である重合体環化物、を含む透明基板を有し、前記透明基板の少なくとも片面に、少なくとも１つのレンズ部が形成されている。 （もっと読む）

【課題】解像度及びレジスト剥離特性の向上に十分効果のある感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の構造を有するバインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤、を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）