【課題】表面処理剤として要求される性能、例えば、撥水撥油性、防汚性、離型性、基材に対する密着性、防蝕性、風合い、耐水性、耐油性、これら性能の耐久性を有する含フッ素組成物を提供する。
【解決手段】 （ａ）式：
CH₂=C(-X)-C(=O)-Y-Z-Rf
［式中、Ｘは、水素原子、一価の有機基またはハロゲン原子であり、
Y は、-O- または -NH-であり、
Ｚは、直接結合または二価の有機基であり、
Ｒｆは、第１含フッ素単量体（ａ１）において炭素数1〜6のフルオロアルキル基であり、第２含フッ素単量体（ａ２）において炭素数12以上のフルオロアルキル基である。］
で示される第１含フッ素単量体（ａ１）と第２含フッ素単量体（ａ２）から誘導された繰り返し単位を有してなる含フッ素重合体を含んでなる含フッ素組成物。 （もっと読む）

【課題】繊維製品などの基材に優れた撥水撥油性を付与し、その加工処理において、ロールへのポリマー付着性防止に優れる撥水撥油剤組成物を提供する。
【解決手段】第１単量体から形成されている第1重合体と、第２単量体から形成されている第2重合体を含んでなる含フッ素重合体であって、第１重合体の存在下で、第２単量体が重合されており、第１単量体および第２単量体の少なくとも一方は、含フッ素単量体（ａ）を含み、第２単量体は、ハロゲン化オレフィン単量体（ｂ）を含む含フッ素重合体。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、形成されるレジストパターンの耐パターン倒れ性やドライエッチング時におけるレジストパターンに対する高いエッチング選択性を維持しつつ、高い屈折率及び吸光係数を有するレジスト下層膜を形成可能なレジスト下層膜形成用組成物、パターン形成方法並びに重合体を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］電子求引性基が結合する芳香族構造を有する構造単位（Ｉ）と、ラクトン構造を有する構造単位、環状カーボネート構造を有する構造単位及び環状イミド構造を有する構造単位からなる群より選択される少なくとも１種の構造単位（ＩＩ）とを含む重合体を含有するレジスト下層膜形成用組成物である。 （もっと読む）

【課題】繊維織物等の基材に対して、洗濯耐久性を維持しながら、優れた撥油性、防汚性および汚れ脱離性を付与する。
【解決手段】(a) フルオロアルキル基を有する含フッ素単量体、
(b) ポリアルキレングリコール（メタ）アクリレート、
(c) アセトアセチル基を有する単量体、および
(d) カチオン供与基を有する単量体
を必須成分とする含フッ素共重合体。
単量体(a)が、次式のものであることが好ましい。
CH₂=C(−X)−C(=O)−Y−Z−Rf (１)
［式中、Ｘは、水素原子、炭素数１〜２１の直鎖状または分岐状のアルキル基、フッ素原子、塩素原子などであり； Ｙは、−Ｏ−または−ＮＨ−であり； Ｚは、炭素数１〜１０の脂肪族基、炭素数６〜１０の芳香族基または環状脂肪族基などであり； Ｒｆは、炭素数１〜２１の直鎖状または分岐状のフルオロアルキル基である。] （もっと読む）

【課題】微量吐出法のみにより、高い撥液性を有する硬化膜を基材上に形成でき、並びに、隣接するパターンが硬化前に接触しても、混じり合わずにパターン形状が維持される撥液剤を提供する。
【解決手段】（ａ１）炭素数１〜８のフルオロアルキル基（炭素原子間にエーテル性酸素原子を有してもよい）を有するα位置換アクリレート１００重量部、（ａ２）エポキシ基含有モノマー５〜６０重量部および（ａ３）−(Ｒ^１Ｏ）_ｎＲ^２で示されるアルキレンオキサイド基を含有するモノマー１０〜１００重量部を繰返し単位とするフッ素系ポリマー（Ａ）を含有する硬化性インク組成物用撥液剤。 （もっと読む）

【課題】優れらマスクエラーファクターのレジストパターンを製造することができ、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位（ａａ）と、式（ａｂ）で表される構造単位（ａｂ）とを有する樹脂及びこれを用いたレジスト組成物。


［式中、Ｒ^aa2は、水素原子又はフッ化アルキル基；Ｒ^aa３はフッ化アルキル基；Ｒ^aa４は、酸により、酸素原子との間の結合〔Ｏ−Ｒ^aa４〕が切断される１価の基 （もっと読む）

【課題】回路基板のような感応性基材を保護するためのバリヤコーティングとして、及び潤滑剤の移行を防ぐための抗移行コーティングとして有用な樹脂組成物、併せて組成物の硬化物としての膜を提供する。
【解決手段】フルオロアルキル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸コポリマーを含むコーティング組成物が開示されており、ここでは前記コポリマーは５重量％以下の（メタ）アクリル酸を含み、そして前記フルオロアルキル基は６以下の炭素原子を有する。 （もっと読む）

【課題】優れた撥インク性、その持続性、インク転落性、その持続性及び現像性を奏する含フッ素樹脂の提供する。
【解決手段】下記式で表されるポリフルオロエーテル構造からなるＲｆ基（ａ）と、酸性基（ｂ）とを有し、酸価が１〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇであり、フッ素原子の含有量が５〜４０％であり、かつアルカリ水溶液に対して溶解性を有することを特徴とする含フッ素樹脂。−（Ｘ−Ｏ）_ｎ−Ｙ式中、Ｘは、炭素数１〜１０の２価飽和炭化水素基又は炭素数１〜１０のフルオロ化された２価飽和炭化水素基であって、ｎで括られた単位毎に同一の基又は異なる基を示し、Ｙは、水素原子（Ｙに隣接する酸素原子に隣接する炭素原子にフッ素原子が結合していない場合に限る）、炭素数１〜２０の１価飽和炭化水素基又は炭素数１〜２０のフルオロ化された１価飽和炭化水素基を示し、ｎは２〜５０の整数を示す。ただし、式におけるフッ素原子の総数は２以上である。 （もっと読む）

【課題】屈折率が向上して反射防止膜としての効果に優れ、コーティング膜の親水性と疏水性を調節することにより、レジストとの互換性に優れた有機反射防止膜用共重合体、単量体、及びそれを含む有機反射防止膜組成物を提供する。
【解決手段】本発明による有機反射防止膜用共重合体、単量体、及びそれを含む有機反射防止膜組成物は、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含むことを特徴とする。
【化１】



（式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ａ、ｍ及びｎに関する定義は発明の詳細な説明に記載した通りである。） （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有し、且つ欠陥が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、（Ｂ）酸発生剤及び（Ｄ）式（ＩＩ）で表される化合物を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；Ａ¹は、−（ＣＨ_２）_ｍ１−、−（ＣＨ_２）_ｍ２−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ３−又は−（ＣＨ_２）_ｍ４−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ５−、ｍ１〜ｍ５は、それぞれ１〜６の整数；Ｒ²はフッ素原子を有する炭化水素基。］ （もっと読む）