【課題】高解像度、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好でラインエッジラフネスが小さいレジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）で示される、酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位ａ、スルホニウム塩を有する繰り返し単位ｂ１及びｂ２のいずれか１つ以上、アミノ基を有する繰り返し単位ｃを有する高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。
【化１】
（もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、且つ前記基材成分（Ａ）の分子量分散度（Ｍｗ/Ｍｎ）が１．０１〜１．５０であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 光学系用途としての十分に高い透明性及び屈折率を有し、マイクロレンズアレイを形成する際のレンズ形成能に十分に優れる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 所定の構造を有する硫黄含有化合物と不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物とをモノマー単位として含む重合体、（Ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び（Ｃ）活性光線により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ＬＷＲが小さく、かつ、パターン形状に優れたレジストパターンを形成可能である感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のスルホンアミド基を側鎖に有する重合体および
（Ｂ）感放射線性酸発生剤
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】溶解安定性、リソグラフィー特性に優れており、評価の容易なレジスト組成物および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、−ＳＯ_２−を含む環式基が側鎖に存在する構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、有機溶剤（Ｓ）が５〜７員環を有する環式ケトン若しくは一般式：［式中、Ｒ^４は炭素数１〜５のアルキル基、Ｒ^５は炭素数１〜３のアルキル基、ｎは０〜２の整数である。］で表されるエーテルを含有する。
［化１］
（もっと読む）

【課題】解像性およびＭＥＦなどのリソグラフィー特性に優れるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、および該ポジ型レジスト組成物用として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、窒素原子を側鎖に含む構成単位（ａ_Ｎ）と、側鎖に、酸解離性基を有するエステル結合を連結基を介して有する（メタ）アクリレート単位（ａ０）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂にしていることを特徴とするポジ型レジスト材料。


（式中、Ｘは−ＮＨ−又は−Ｓ−である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とラインエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制できる。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】従来の反射防止膜として種々の要求性能は維持しつつ、膜形成時（焼成時）に昇華物の発生を抑制できる、新たな下層膜形成組成物、並びに該層膜形成組成物を用いるフォトレジストパターン形成法を提供する。
【解決手段】下記式（ａ）で表される構造単位を有するポリマー、架橋剤、並びに溶媒を含む、リソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物。
（もっと読む）

【課題】現像性に優れ、高感度であり、しかも高耐刷かつ耐汚れ性（経時後の耐汚れ性も含む）が良好な平版印刷版を提供できる平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に一層以上の層を有する平版印刷版原版であって、
前記一層以上の層の一つは、（Ａ）開始剤化合物、（Ｂ）重合性化合物及び（Ｃ）バインダーポリマーを含有する感光層であり、
前記一層以上の層のうちの前記支持体と接する層が、（Ｄ）（ａ１）双性イオン構造を有する繰り返し単位と、（ａ２）前記支持体の表面と相互作用する構造を有する繰り返し単位、とを有する共重合体を含有することを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含むアクリル酸エステル構成単位及び／又はメタクリル酸エステル構成単位と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）及び／又は酸解離性溶解抑制基を含むメタクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１’）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、高分子化合物（Ａ１）中の、該アクリル酸エステルから誘導される構成単位の割合が１５〜８０モル％であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）