【課題】低い電圧で変形（変位）することが可能な刺激応答性化合物およびそれを用いたアクチュエータを提供すること、また、刺激応答性化合物の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の刺激応答性化合物は、一対のアルキル鎖と一対のアルキル鎖の間を架橋する架橋部と一対のアルキル鎖の少なくとも一方に結合した液晶性官能基とを有し、架橋部は回転軸として機能する結合を有し、かつ、該結合の一端に位置する第１の基と結合の他端に位置する第２の基とを有するユニットＡと、第１の基の第１の結合部位に配置された第１のユニットＢと、第２の基の第１の結合部位に配置された第２のユニットＢとを有し、架橋部は第１の基の第２の結合部位において一方のアルキル鎖と結合し、第２の基の第２の結合部位において他方のアルキル鎖と結合しており、第１のユニットＢと第２のユニットＢとが酸化還元反応によって結合することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高屈折率で透明性に優れ、更に、耐熱性、耐光性も良好であり、光学材料として優れた性能を有する硬化性組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）：


（式中、Ｒ^１〜Ｒ^４及びＲ^１’〜Ｒ^４’は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子を示し、Ｒ^５は、炭素数２〜６のアルケニル基又はＲ^６−ＣＯ−で表されるジアリールスルホン化合物、及び該ジアリールスルホン化合物と共重合可能な化合物を、両者の合計量を１００重量％として、ジアリールスルホン化合物を５〜９０重量％と、ジアリールスルホン化合物と共重合可能な化合物を１０〜９５重量％含有する硬化性組成物、及び該硬化性組成物を共重合して得られる硬化物からなる光学材料。 （もっと読む）

【課題】ラフネスがより低減され、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】α位の炭素原子に水素原子以外の原子又は置換基が結合していてもよいアクリル酸エステルから誘導される、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ１）及び−ＳＯ_２−含有環式基を含む構成単位（ａ０）を有する樹脂成分（Ａ１）と、一般式（ｃ１）で表される化合物（Ｃ１）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物。一般式（ｃ１）中、Ｒは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基；Ｙ^１は２価の脂肪族炭化水素基；Ｒ^１は水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化アルキル基である。ｐは１〜１０の整数、Ａ^＋は有機カチオンを表す。
［化１］
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【課題】線幅感度が高く、直線性、および耐熱性に優れるポストベーク後の輝度低下が小さいパターンを形成しうる着色感光性樹脂組成物（好ましくは、カラーフィルタの着色画素などの形成に好適な紫外光レーザー露光用着色感光性樹脂組成物）、並びにそれを用いたパターン形成方法、およびカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、表示装置を提供する。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）分子内に少なくとも（B-1）下記一般式（Ｉ）で表される構造単位と、（B-2）酸性基を有する構造単位とを有するバインダー樹脂、（Ｃ）重合性化合物、（Ｄ）オキシム系光重合開始剤、及び（Ｅ）溶剤を含有する着色感光性樹脂組成物。
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【課題】得られる硬化物が、高屈折率でかつ高光線透過率を有し、低吸水率である活性エネルギー線硬化型光学材料用組成物の提供。
【解決手段】式（１）で表されるジ（メタ）アクリレート（Ａ）及びビフェニルモノアクリレート（Ｂ）からなる活性エネルギー線硬化型光学材料用組成物。当該組成物を、所定の形状を有する型枠に塗布するか又は流し込んだ後、活性エネルギー線を照射する光学材料の製造方法。


〔Ｒ₁及びＲ₃は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ₂及びＲ₄は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基又はエチル基を表わし、Ｒ₅〜Ｒ₈は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基又は臭素原子を表し、ｌ及びｍは、それぞれ独立して、１〜６の整数を表す。〕 （もっと読む）

【課題】撥水性と滑水性に優れ、現像欠陥が少なく、現像後のレジストパターン形状が良好な液浸リソグラフィー用レジスト保護膜材料、更にはこの材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】少なくとも、側鎖にヘキサフルオロヒドロキシプロピル基を有する（メタ）アクリレート単位、側鎖にフッ素含有環状エーテル構造含有基を有する（メタ）アクリレート単位、及び側鎖にスルホン酸基を有するビニルモノマー単位を含有し、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲内である高分子化合物を含むものであることを特徴とするレジスト保護膜材料。 （もっと読む）

【課題】パターンを形成する際のマスクエラーファクター（ＭＥＦ）及びフォーカスマージン（ＤＯＦ）に優れるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される基及び式（ＩＩ）で表される基を有し、酸に不安定な基を有さない重合体と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸との作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。［Ｒ^１は、炭素数１〜６のフッ化アルキル基を表す。Ｒ^２は、炭素数１〜６のフッ化アルキル基を表す。Ｒ^３は、水素原子又は炭素数１〜６のフッ化アルキル基を表す。＊は結合手を表す。］
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【課題】パターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体上に、第一のポジ型レジスト組成物を塗布して第一のレジスト膜を形成し、第一のレジスト膜を露光し、露光後ベークを行い、アルカリ現像して第一のレジストパターンを形成する工程（１）と、第一のレジストパターンが形成された支持体上に、第一のレジスト膜を溶解しない有機溶剤を含有する第二の膜形成用組成物を塗布して第二の膜を形成し、アルカリ現像することによりレジストパターンを形成する工程（２）とを有し、第一のポジ型レジスト組成物は、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分及び露光により酸を発生する酸発生剤成分）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分が酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する樹脂成分を含有することを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】鉛フリーはんだでのリフロー工程に耐える高耐熱性を有し、ハンドリング性の良い、樹脂製高屈折率レンズに好適な重合性組成物、およびその硬化物を提供する。
【解決手段】以下の成分Ａおよび成分Ｂを含み、成分Ａと成分Ｂの質量比が７０：３０〜９５：５である、重合性組成物。
成分Ａ：下記（Ｉ）式で表される硫黄含有（メタ）アクリレート


（式中、Ｒ^１及びＲ^４はそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれ独立して酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい炭素数１〜１０の２価の炭化水素基を表し、Ｘ^１及びＸ^２はそれぞれ独立してハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を表し、Ｚは−ＳＯ_２−又は−Ｓ−を表し、ｍ及びｎはそれぞれ独立して１〜３の整数を表し、ｐ及びｑはそれぞれ独立して０〜４の整数を表す。）
成分Ｂ：アクリル当量が１７０以下である多官能（メタ）アクリレート （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネスの低減、温度変化に対しての線幅変動低減、また高解像性の化学増幅ポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】芳香環を側鎖に有する特定の繰り返し単位と、窒素原子を側鎖に有する特定の繰り返し単位を含む高分子化合物（ＰＢ）、及び、スルホン酸のスルホニウム塩を側鎖に有する特定の繰り返し単位と、酸分解性保護基で保護された酸性側鎖を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物（ＰＡ）を含有する化学増幅ポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）