【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）で、欠陥の発生数も少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、式（ＩＩ）で表される化合物に由来する構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。
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【課題】 ホウ素含有排水の処理方法に関し、良好なフロックを生成させて沈澱処理することが可能で、かかる処理により確実に排水中のホウ素濃度を低減させることが可能な排水処理方法を提供する。
【解決手段】 ホウ素を含有する排水と、アルミニウム化合物、カルシウム化合物及び硫酸化合物を混合し、かつ高ｐＨ領域で処理した排水に特定の三元重合体を混合することで、良好なフロックを生成させ、ろ過性の良い沈澱として凝集沈降させてホウ素を除去する。 （もっと読む）

【課題】経時の影響による寸法変動が抑制されると共に、リソグラフィー特性とレジストパターン形状に優れたレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式（ｇ１）又は（ｇ２）で表される一価の基を有する化合物（Ｇ）と、一般式（ｈ１）又は（ｈ２）で表される一価の基を有する化合物（Ｈ）とを含有するレジスト組成物。
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【課題】セメント分散性やスランプ保持性等の性能をより高いレベルで発揮することができ、各種用途、特にセメント混和剤用途に有用なポリアルキレングリコール系重合体、それを用いたセメント混和剤及びセメント組成物を提供する。
【解決手段】ポリアルキレングリコール鎖の末端の少なくとも１つにおける末端酸素原子が、ビニル系単量体成分由来の構成単位を含む重合体の主鎖末端と直接又は有機残基を介して結合した構造を有するポリアルキレングリコール系重合体であって、特定の構造を有し、該ビニル系単量体成分は、スルホン酸基を有する単量体を必須に含むポリアルキレングリコール系重合体。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂及び式（Ｂ１）で表される塩を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基；Ｒ^２は、ヒドロキシ基又はアルキル基；Ａ¹は、単結合等；ｌは０〜３の整数；Ｑ¹及びＱ²は、それぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^b1は２価の飽和炭化水素基；Ｙは、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基又は置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基；Ｚ⁺は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】レジスト組成物から製造されるレジストパターンの側壁部に凹凸が発生する現象、すなわち、パターンのラインエッジラフネス（ＬＥＲ）の点で、従来の塩を酸発生剤として含有するレジスト組成物は必ずしも十分に満足できるものではなかった。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、それぞれ独立に、フッ素原子等を表す。ｎは、０又は１を表す。Ｌ^１は、単結合、炭素数１〜１０のアルカンジイル基等を表す。環Ｗは、炭素数３〜３６の脂肪族環等を表す。Ｒ^１は、保護基により保護されたヒドロキシ基、又はヒドロキシ基を表す。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】高感度で、良好な形状のパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により極性が増大する構成を有する（メタ）アクリル酸エステル単位と、−ＳＯ_２−含有環式基を含む（メタ）アクリル酸エステル単位及び、一般式（ａ５−１）で表される（メタ）アクリル酸エステル単位とを有する高分子化合物（Ａ１）、及び露光により酸を発生する成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物。
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【課題】レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、式（ａ０−１１）〜（ａ０−１３）のいずれかの構成単位（ａ０−１）、露光により酸を発生する構成単位（ａ０−２）及びアクリル酸エステルから誘導され、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有する［式中、ＲはＨ、アルキル基又はハロゲン化アルキル基であり、Ｘ^１は単結合又は２価の連結基であり、Ｗ^１、Ｗ^２、Ｗ^３は環状の飽和炭化水素基である。ただしＷ^２はＯＨ基を有する。Ｒ^１はＯＨ基含有飽和炭化水素基であり、ｐは１〜３であり、Ｘ^２、Ｘ^３は２価の連結基であり、Ｒ^２、Ｒ^３はＨ、アルキル基、ＯＨ基又はＯＨ基を有するアルキル基である。］
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【課題】被めっき層のプラズマエッチング処理を容易に実施することができ、パターン状金属膜間の絶縁性に優れた積層体を得ることができる、パターン状金属膜を有する積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】所定のユニットからなる二元共重合体を含む被めっき層形成用組成物を用いて基板上に被めっき層１２を形成する被めっき層形成工程と、被めっき層にめっき触媒またはその前駆体を付与する触媒付与工程と、めっき処理を行い、被めっき層上に金属膜１４を形成するめっき工程と、エッチング液を使用してパターン状金属膜を形成するパターン形成工程と、パターン状金属膜を有する基板と酸性溶液とを接触させる酸性溶液接触工程と、パターン状金属膜が形成されていない領域３０の被めっき層１２をプラズマエッチング処理により除去する被めっき層除去工程とを備える、パターン状金属膜１６を有する積層体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】感度等基本特性を満足し、ＭＥＥＦ及びＬＷＲに優れる感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体、及びトリフェニルスルホニウム塩系の感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。
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