【課題】現像時の膨潤が小さい高分子化合物の原料として有用なアクリル酸誘導体、該アクリル酸誘導体を含有する原料を重合して得られる高分子化合物、該高分子化合物を含有するＬＷＲが改善されたフォトレジスト組成物、並びに前アクリル酸エステルの製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式で示されるアクリル酸エステル誘導体。
【化１】


（式中、Ｒ^１は、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表す。Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィプロセスにおいて使用されうる感放射線性ポリマーおよび組成物が提供される。このポリマーおよび組成物は活性化放射線に対して向上した感受性を提供する。
【解決手段】第１の形態に従って、ポリマーが提供される。ポリマーはポリマー骨格およびポリマー骨格に共有結合したモノマー系光酸発生剤を含む。光酸発生剤は、重合性スルホナートアニオンを有するスルホニウム塩またはヨードニウム塩の１種以上に由来する。 （もっと読む）

【課題】ＬＷＲが小さく、かつ、パターン形状に優れたレジストパターンを形成可能である感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のＳＯ_３⁻構造を有する繰り返し単位と、特定の酸解離性基を有する繰り返し単位とを有する重合体および
（Ｂ）感放射線性酸発生剤
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物と、特定のＳＯ_３⁻構造を有する繰り返し単位と、特定の酸解離性基を有する繰り返し単位とを有する重合体を提供する。 （もっと読む）

【課題】高屈折率の硬化物を形成できる新規な硬化性組成物を提供する。
【解決手段】フルオレン骨格を有するエチレン性不飽和化合物（１）と、脂肪族ポリチオ（メタ）アクリレート化合物などのチオ（メタ）アクリレート化合物（２）とで硬化性組成物を構成する。ポリチオ（メタ）アクリレート化合物は、通常、常温で液状の化合物で構成してもよい。このような液状の化合物（２）は、化合物（１）に対する相溶性に優れている場合が多く、液状の化合物（２）を使用すると、効率よく低粘度化して、ハンドリング性に優れた硬化性組成物を効率よく得ることができる。 （もっと読む）

【課題】低粘度で、高屈折率を有し、かつ、基材との密着性にも優れた硬化物を形成するのに有用な活性エネルギー線硬化性組成物を提供する。
【解決手段】成分（Ａ）及び成分（Ｂ）を含有してなることを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物。成分（Ａ）：


成分（Ｂ）：単官能（メタ）アクリレート系化合物 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大し、且つ、露光により酸を発生する基材成分（Ａ’）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ’）が、一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０−１）と、露光により酸を発生する構成単位（ａ０−２）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物［式中、Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基であり、Ｒ^２は２価の連結基であり、Ｒ^３は、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基である。］
。
［化１］
（もっと読む）

【課題】優れた解像度、フォーカスマージン及び露光マージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物用の樹脂を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位及び式（ＩＩ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂。


［式中、Ｒ^１及びＲ^３１は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいアルキル基；Ｘ^１は複素環基を表し、該複素環基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、水酸基、炭化水素基、アルコキシ基、アシル基等で置換されていてもよく、該複素環基に含まれる−ＣＨ_２−は−ＣＯ−又は−Ｏ−で置き換わっていてもよい；Ｚ^１は２価飽和炭化水素基を表し；Ｔは、骨格に−ＳＯ_２−を含む複素環基を表し、該複素環基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基等で置換されていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】優れた解像度及び露光マージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物用の樹脂を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位及び式（ＩＩ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂を含むフォトレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１及びＲ^３１は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいアルキル基；Ｘ^１は複素環基を表し、該複素環基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、水酸基、炭化水素基等で置換されていてもよい；Ｔは骨格に−ＳＯ_２−を含む複素環基を表し、該複素環基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基等で置換されていてもよい；複素環基に含まれる−ＣＨ_２−は−ＣＯ−、−Ｏ−等で置き換わっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】優れた露光マージン及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）及び式（ＩＩ）で表される化合物に由来する繰り返し単位を有する樹脂を含むフォトレジスト組成物。［Ｒ^１及びＲ^３１は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいＣ_１−６アルキル基を表す。Ｚ^１は、単結合又は＊−［ＣＨ₂］_ｓ３−ＣＯ−Ｌ^４−基を表す。Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^３及びＬ^４は、それぞれ独立に、−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。Ｚ²は、２価のＣ_１−１７飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−又は−Ｎ（Ｒ^３２）−で置き換わっていてもよい。Ｔは、骨格に−ＳＯ_２−を含む複素環基を表す。］
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【課題】リソグラフィー特性やパターン形状に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、露光により酸を発生する含フッ素高分子化合物（Ｃ’）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する樹脂成分であり、含フッ素高分子化合物（Ｃ’）が、露光により酸を発生する構成単位と、含フッ素アクリル酸エステル構成単位とを有する。 （もっと読む）