【課題】優れた露光マージン及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する繰り返し単位及び式（ＩＩ）で表される化合物に由来する繰り返し単位を有する樹脂を含むフォトレジスト組成物。［Ｒ^１及びＲ^３１は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいＣ_１−６アルキル基を表す。Ｚ^１は、単結合又は＊−［ＣＨ₂］_ｓ３−ＣＯ−Ｌ^４−基を表す。Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^３及びＬ^４は、それぞれ独立に、−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。Ｔは、骨格に−ＳＯ_２−を含む複素環基を表す。］
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【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、少なくとも特定の２つの構成単位を有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

(i)少なくとも２個のアクリルアミド基を含む架橋剤２．５〜５０重量％と、(ii)エチレン性不飽和基と陰イオン基とを含む硬化性イオン化合物２０〜６５重量％と、(iii)溶媒１５〜４５重量％と、(iv)フリーラジカル開始剤０〜１０重量％とを含む硬化性組成物であって、(i)の(ii)に対するモル比が０．１〜１．５である。かかる組成物は、イオン交換膜を製造するのに有用である。 （もっと読む）

【課題】焦点深度幅（ＤＯＦ）特性に優れたポジ型レジスト組成物。
【解決手段】基材成分（Ａ）と光酸発生剤成分（Ｂ）とを含有し、（Ａ）は、一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステル構成単位（ａ１）とを有する樹脂成分（Ａ１）、（Ｂ）は、酸発生剤（Ｂ１）と弱い酸を発生する酸発生剤（Ｂ２）とを含有するポジ型レジスト組成物。
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【課題】リソグラフィー特性やパターン形状に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する樹脂成分（Ａ１）を含有し、（Ｂ）は一般式（ｂ０）で表される化合物（Ｂ１）を含有する。
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【課題】焦点深度幅（ＤＯＦ）特性に優れたポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】側鎖にスルホンアミド基を有する(メタ)アクリル酸エステル構成単位と酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位とを有する樹脂成分（Ａ１）と下記一般式（１）〜（３）のいずれかで表される化合物からなる群から選ばれる酸発生剤（Ｂ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
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【課題】リソグラフィー用途に好適で新規なポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、塩基解離性基を含む構成単位（ｆ１）およびスルファモイルオキシアダマンチルメタクリレート構成単位（ｆ２）を有する高分子化合物（Ｆ１）とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー用途に好適で新規なポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）は、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ１）と、塩基解離性基を含む構成単位（ａ５）と、アミノスルホニルオキシアダマンチルメタクリレート構成単位（ａ６）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像性、良好なパターン形状及び良好なラインエッジラフネスを同時に満足させる、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いたパターン形成方法及び該組成物に用いられる樹脂の精製方法を提供する。
【解決手段】活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する構造部位（Ｘ）を有する繰り返し単位（Ａ）を有する樹脂（Ｐ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、前記組成物中の、前記樹脂（Ｐ）中に含まれる繰り返し単位（Ａ）を構成する単量体（ａ）の存在量が、前記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の質量に対して０．０５質量％以下であることを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いたパターン形成方法及び該組成物に用いられる樹脂の精製方法。 （もっと読む）

【課題】微細パターンの形成に有用なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、第一の化学増幅型ポジ型レジスト組成物を塗布して第一のレジスト膜を形成し、露光し、ＰＥＢを行い、アルカリ現像して第一のレジストパターンを形成する工程（１）と、第一のレジストパターンが形成された支持体上に、第二の膜形成用材料を塗布して第二の膜を形成し、第一のレジストパターンが形成された位置を含む領域を露光し、ＰＥＢを行い、アルカリ現像する工程（２）と、を有し、第二の膜形成用材料として、第一のレジスト膜を溶解しない有機溶剤を含有し、且つ第一の化学増幅型ポジ型レジスト組成物と同じかそれよりも少ないエネルギー量ではアルカリ現像液に対する溶解性が増大しないものを使用し、工程（２）にて、露光した領域内の第一のレジストパターンのみがアルカリ現像により除去されるように露光量およびＰＥＢ温度を設定するパターン形成方法。 （もっと読む）