【課題】耐刷性、耐汚れ性および経時後の耐汚れ性に優れる平版印刷版及び平版印刷版の製造方法の提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に設けられた感光層と、前記支持体と前記感光層との間に任意に設けられてもよいその他の層を含み；前記支持体と接する前記感光層または前記その他の層が、（Ａ）共重合体を含み、前記（Ａ）共重合体が、（ａ１）下記式で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位と、（ａ２）式（ａ２−１）〜（ａ２−６）で表される構造の少なくとも１つを側鎖に有する繰り返し単位とを有する平版印刷版原版（Ｌ¹は単結合、炭素数６〜１４の２価の芳香族基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、または−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ²−；Ｚ¹は２価の連結基；Ｒ¹は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、スルホ基、アルキルスルホニル基およびアリールスルホニル基；Ｒ²¹、Ｒ²²およびＲ²³は水素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜８のアルキル基）。
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【課題】感度、解像性、ＬＷＲ及び耐エッチング性に優れるレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物並びにこの感放射線性樹脂組成物を用いたレジストパターンの形成方法の提供。
【解決手段】式（１）で表される構造単位、式（２）で表される構造単位及び酸解離性基を有する構造単位を含む重合体、並びに酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。
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【解決手段】高エネルギー線照射により発生する酸を触媒として、架橋剤及び／又はレジストポリマー中の架橋性官能基を有する繰り返し単位により、レジストポリマー間に架橋が形成され、アルカリ性現像液に対して不溶化する機構を有する化学増幅ネガ型レジスト組成物において、レジストポリマーが、（１）側鎖に酸発生基を有する（メタ）アクリル酸エステル類単位、（２）側鎖に縮合芳香環を有する（メタ）アクリル酸エステル類単位、（３）アセナフチレン単位、（４）インデン単位の繰り返し単位を含有し、（１）の繰り返し単位は０．５〜１０モル％、かつ、他の繰り返し単位を合計した量の割合は５０〜９９．５モル％を占める。
【効果】本発明によれば、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）の改善に加え、ネガ型レジスト組成物特有のアンダーカットの度合いが小さいレジストプロファイルの形成を可能とし、かつ高解像性を与える。 （もっと読む）

【解決手段】高エネルギー線照射で発生する酸を触媒として、架橋剤及び／又はレジストポリマー中の架橋性官能基を有する繰り返し単位により、レジストポリマー間に架橋が形成され、アルカリ性現像液に対して不溶化する機構を有する化学増幅ネガ型レジスト組成物において、レジストポリマーが、（１）側鎖に酸発生基を有する（メタ）アクリル酸エステル類単位、（２）側鎖に縮合芳香環を有する（メタ）アクリル酸エステル類単位、（３）アセナフチレン類単位、（４）インデン類単位の繰り返し単位を含有する。
【効果】本発明によれば、酸発生能化合物のレジスト膜中の微細な分布及び拡散をより均一にすることができ、有効な感度を有利に確保できると共に、ＬＥＲの改善、更には酸の基板界面の失活が抑制でき、ネガ型レジスト組成物特有のアンダーカットの度合いが小さいレジストプロファイルの形成を可能とする。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、下記一般式（Ｉ）［式中、Ｒ^１は直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基であり、Ｒ^ｆは炭素数１〜４のフッ素化アルキレン基であり、Ｑ^＋は有機カチオンである。］で表される基を含む構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】パターン倒れを防止しつつ、より微細な線幅のラインアンドスペースパターンを
製造し得るレジスト組成物及び該レジスト組成物に有用な樹脂を提供する。
【解決手段】以下の〔１〕及び〔２〕の提供。
〔１〕式（ａａ）で表される構造単位を有する樹脂。


［式（ａａ）中、
Ｔ^１は置換基を有していてもよい炭素数４〜３４のスルトン環基を表す。
Ｚ^１は、炭素数１〜６のアルカンジイル基などを表す。］
〔２〕前記樹脂と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】微細パターンの形状を矩形にすると共に、パターン倒れ耐性を向上させる高分子化合物、これを含むポジ型レジスト材料、これを用いるパターン形成方法の提供。
【解決手段】紫外線等の高エネルギー線に感応して酸を発生する一般式（１ａ）及び／又は（１ｂ）で示される構造の繰り返し単位と、特定の構造のラクトン環を有する繰り返し単位及び特定の構造の酸不安定単位を有する繰り返し単位とを含み、いずれの繰り返し単位も水酸基を含まない高分子化合物。
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【課題】レジスト溶剤への溶解性が高い、スルホニウム塩含有高分子化合物を提供する。
【解決手段】一般式（１ａ）、（２）及び（３）で示される繰り返し単位を含有する高分子化合物。


（Ｒ¹はＨ、Ｆ、ＣＨ₃又はＣＦ₃を示す。Ｒ²〜Ｒ⁴は、いずれか１つ以上は４−フルオロフェニル基である特定の置換基。Ｒ⁸はＨ、又はアルキル基を示す。ｐは０又は１、Ｂは単結合又は２価の有機基を示す。ａは０〜３の整数、ｂは１〜３の整数、Ｘは酸不安定基を示す。） （もっと読む）

【課題】軟化点が高く、感度が高いレジスト膜を作製できる高分子化合物の提供。
【解決手段】基材成分が、酸の作用により極性が増大するアクリル酸エステルからなる構成単位と、露光により酸を発生する構成単位（ａ３−０）とを有する高分子化合物を含有するレジスト組成物。
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【課題】特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、高解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】カチオンを有するカチオン性繰り返し単位（Ａ）、
前記カチオンとイオン対を形成するアニオンを有し、かつ活性光線又は放射線の照射により前記カチオンから解離して酸を発生するアニオン性繰り返し単位（Ｂ）、及び
酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する繰り返し単位（Ｃ）を有する樹脂（Ｐ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）