【課題】配向処理した支持基板に塗工することにより、均一なホメオトロピック配向が形成可能な重合性液晶組成物を提供する。
【解決手段】トリプチセン−１，４−ジイルを含む下式（１−１）、（２−１）で代表される化合物、硫黄を含む化合物、ＣＮを含む化合物および縮合環を含む化合物からなる重合性化合物の混合物とアミン系シランカップリング剤とを含有する組成物であって、これを支持基板上に塗布することによってホメオトロピック配向の重合性液晶層を形成することができる重合性液晶組成物。


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【課題】硬質表面のバイオフィルムの生成を抑制する方法を提供する。
【解決手段】（Ａ） 分子中に、アミノ基及び４級アンモニウム基から選ばれる基を１種以上有する構成単位（ａ）とアニオン性基を有するビニル系モノマーに由来する構成単位（ｂ）とを有する高分子化合物を、硬質表面に適用することを特徴とする、硬質表面における微生物によるバイオフィルムの生成を抑制する方法。 （もっと読む）

【課題】優れたリソグラフィー特性および耐熱性を有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、側鎖にオキソカルボニル基を有する（メタ）アクリレート単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を含む（メタ）アクリレート単位（ａ１）と、側鎖に１−アダマンチル基を有する（メタ）アクリレート単位（ａ３）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、該高分子化合物（Ａ１）を構成する全構成単位の合計に対する前記構成単位（ａ３）の割合が、１〜３０モル％の範囲内であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

本発明は、ランダムラジカルコポリマーの製造方法であって、以下のステップ:(a)(a)少なくとも1種の式(I)[式中、nは0〜10であり; XはOまたはNR⁵であり; R¹は水素またはメチルであり; R²、R³は、独立して、水素またはC₁〜C₆アルキルであり、およびR⁵は、水素、アルキル、アリール、アルキルアリール、アリールアルキル、アルコキシアルキル、アリールオキシアルキル、アルコキシアリール、ヒドロキシアルキル、(ジ)アルキルアミノアルキル、(ジ)アルキルアミノアリール、(ジ)アリールアミノアルキル、アルキルアリールアミノアルキルまたはアルキルアリールアミノアリールであり、ここにアリール基は一置換または多置換であってよい]のオレフィン性不飽和スルホン酸、その塩または酸および塩の混合物ならびに(b)少なくとも2種の構造的に異なる式(II)[式中、YはOまたはNR⁷であり; R⁵は水素またはメチルであり; R⁶は、アルキル、ヒドロキシアルキル、(ジ)アルキルアミノアルキルまたは(ジ)アルキルアミノアリールであり、およびR⁷は、水素、アルキル、アリール、アルキルアリール、アリールアルキル、アルコキシアルキル、アリールオキシアルキル、アルコキシアリール、ヒドロキシアルキル、(ジ)アルキルアミノアルキル、(ジ)アルキルアミノアリール、(ジ)アリールアミノアルキル、アルキルアリールアミノアルキルまたはアルキルアリールアミノアリールである]のオレフィン性不飽和モノマー、ならびに(c)場合により、成分(a)および(b)と構造的に異なりうる1種以上のオレフィン性不飽和モノマー、および少なくとも1種の開始剤を、(i)水および、140℃未満の沸点を有し、水に可溶性の溶媒を含む溶媒混合物、または(ii)1種以上の純粋なアルコールに加熱によって溶解するステップ、および該混合物を溶液中で重合させ、形成されるコポリマーも溶解したままであるステップによって特徴付けられる、上記方法に関する。上記方法にしたがって得ることができるコポリマーは農芸化学的活性成分組成物中の製剤補助剤として好適である。
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【課題】解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、パターン倒れ耐性に優れ、且つ、欠陥性にも優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物およびこの感放射線性樹脂組成物に樹脂成分として使用できる重合体を提供する。
【解決手段】樹脂（Ａ）と、感放射線性酸発生剤（Ｂ）とを含有する感放射線性樹脂組成物。樹脂（Ａ）が、ノルボルナンラクトンを末端に有するオキシアルキレン基で置換された(メタ)アクリル酸エステルに由来する特定の繰り返し単位（ａ−１）と、スルホンアミド基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する特定の繰り返し単位（ａ−２）と、酸解離性基を有する繰り返し単位（ａ−３）とを含む重合体である。 （もっと読む）

【課題】高透過率、高屈折率、低アッベ数、高２次分散特性、且つ低吸水率を有する光学材料を提供する。
【解決手段】下式の硫黄含有化合物と、エネルギー重合開始剤を含有する樹脂組成物からなり、硫黄含有化合物の含有量が１０重量％以上６０重量％以下であり、且つ前記樹脂組成物の重合体のアッベ数νｄが１８＜νｄ＜２３の範囲であり、２次分散特性θｇ，Ｆが０．６８＜θｇ，Ｆ＜０．６９の範囲である光学材料。
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【課題】金属イオンのうち銅（II）イオンのみを選択的に吸着し、脱離して回収することができる光応答性銅イオン吸着材料を提供する。
【解決手段】金属イオン溶液中で金属イオンの吸着及び脱離の転移を光照射の有無により可逆的に示す光応答性化合物と、
四級化アミン化合物と
を含む単量体成分を共重合させてなる共重合体を含む光応答性銅イオン吸着材料であり、前記共重合体は、塩素イオン、ナトリウムイオンおよび銅（II）イオンを含む金属イオン溶液から、暗所下で銅（II）イオンを選択的に吸着する。 （もっと読む）

【課題】セメント凝結への影響が小さく、セメント組成物に対する高い初期流動性能と流動保持性の両方を兼ね備えたセメント用添加剤を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示される単量体（ａ）及び一般式（２）で示される単量体（ｂ）を必須構成単量体とする水溶性ビニル共重合体（Ａ）を含有するセメント用添加剤。


［Ｒ¹とＲ²はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基；ａは０または１；Ａ¹Ｏは炭素数２〜４のオキシアルキレン基；ｎはＡ¹Ｏの平均付加モル数で１〜３００の数。］
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光酸発生剤を含むレジスト用共重合体及びその製造方法を提供する。ＡＦＭリソグラフィー用レジストまたは電子線リソグラフィー用レジストとして使うことができる共重合体及びその製造方法であって、有機溶媒に対する溶解性と塗布性とに優れ、リソグラフィー工程でさらに向上したパターン形成が可能なフルオロアルキルスルホ二ウム塩の光酸発生剤を含む共重合体及びその製造方法である。
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独立して、式（Ｉ）


又は式（ＩＩ）により表される第１の二価単位と、


四級アンモニウム基を含む第２の二価単位と、を有するフッ素化ポリマー。フッ素化ポリマー及び溶媒を含有する組成物、これらの組成物を用いて炭化水素含有地層を処理する方法、及びフッ素化ポリマーで処理された物品を開示する。フッ素化ポリマーを含有する組成物の作製方法も開示する。
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