【課題】リソグラフィー用途に好適で新規なポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）は、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ１）と、塩基解離性基を含む構成単位（ａ５）と、アミノスルホニルオキシアダマンチルメタクリレート構成単位（ａ６）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有するポジ型レジスト組成物。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、
前記樹脂成分（Ａ）は、
酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ１）と、
塩基解離性基を含む構成単位（ａ５）と、
下記一般式（ａ６−１）で表される構成単位（ａ６）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
【化１】

［式中、Ｒは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基を表し、Ｒ^２およびＲ^３はそれぞれ独立に水素原子又は任意の位置に酸素原子を含んでいてもよいアルキル基を表すか、又は両者が結合してアルキレン基を形成し、Ｗは任意の位置に酸素原子を含んでいてもよい環状のアルキレン基を表す。］
【請求項２】
前記構成単位（ａ５）が、下記一般式（ａ５−０１−１）で表される構成単位および下記一般式（ａ５−０１−２）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも一種の構成単位である請求項１記載のポジ型レジスト組成物。
【化２】

［式中、Ｒはそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基であり、Ｒ^１はそれぞれ独立にフッ素原子を有する有機基である。式（ａ５−０１−１）中、Ｘは二価の連結基である。式（ａ５−０１−２）中、Ａ_ａｒｙｌは置換基を有していてもよい二価の芳香族環式基であり、Ｘ_０１は単結合又は二価の連結基である。ただし、前記Ｘ、Ａ_ａｒｙｌ、Ｘ_０１はいずれもフッ素原子を有さないものとする。］
【請求項３】
前記構成単位（ａ１）が、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位である請求項１又は２記載のポジ型レジスト組成物。
【請求項４】
さらに、含窒素有機化合物成分（Ｄ）（ただし、前記高分子化合物（Ａ１）を除く）を含有する請求項１〜３のいずれか一項に記載のポジ型レジスト組成物。
【請求項５】
支持体上に、請求項１〜４のいずれか一項に記載のポジ型レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、および前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。

【図１】

【図２】

【公開番号】特開２０１１−１０７１９３（Ｐ２０１１−１０７１９３Ａ）
【公開日】平成２３年６月２日（２０１１．６．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２５９０２９（Ｐ２００９−２５９０２９）
【出願日】平成２１年１１月１２日（２００９．１１．１２）
【出願人】（０００２２０２３９）東京応化工業株式会社 (1,407)
【Ｆターム（参考）】