【課題】残存フルフリルアルコール濃度が低く、低粘度のフルフリルアルコール−ホルムアルデヒド共重合体組成物を提供する。
【解決手段】フルフリルアルコール−ホルムアルデヒド共重合体を含み、２，５−Ｂｉｓ（ｈｙｄｒｏｘｙｍｅｔｈｙｌ）ｆｕｒａｎ濃度が１０重量％以上、フルフリルアルコール濃度が１重量％以下、水分が１０重量％以下、粘度２０００ｍＰａｓ・ｓｅｃ以下であることを特徴とするフルフリルアルコール−ホルムアルデヒド共重合体組成物、ならびに、アルデヒド類をフルフリルアルコールに加え、アルカリ性条件下でアルデヒド類をフルフリルアルコールに溶解させた後、得られた溶液に酸解離定数ｐＫａが３．5以上の酸触媒を加えて重合させるフルフリルアルコール−ホルムアルデヒド共重合体組成物の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】導電性、耐溶剤性、耐熱性、耐久性などに優れる有機半導体を形成するのに有用な架橋性組成物（例えば、コーティング組成物）を提供する。
【解決手段】架橋性組成物は、１又は複数のホルミル基を有する芳香族アルデヒド化合物と、複素環のヘテロ原子に隣接する複数の未修飾のα−炭素位を有する芳香族複素環化合物と、酸発生剤（光酸発生剤など）を含んでいる。この組成物を基材に塗布し、熱処理することにより、三次元的架橋構造を有する有機半導体を形成する。塗布した後、パターン露光して熱処理し、現像すると、所定のパターンで有機半導体を形成できる。 （もっと読む）

【課題】水、有機溶媒等の溶媒を用いることなく、ホルムアルデヒド源としてパラホルムアルデヒドを用い、フルフリルアルコール−ホルムアルデヒド共重合体を製造する方法、また、さらに加えて、残存ホルムアルデヒドが少ない、フルフリルアルコール−ホルムアルデヒド共重合体を製造する方法を提供する。
【解決手段】上記製造方法を、パラホルムアルデヒドをフルフリルアルコールに加え、アルカリ性条件下、１００℃を超えない加熱温度で撹拌してパラホルムアルデヒドをフルフリルアルコールに溶解させた後、得られた溶液に酸触媒を加えて重合させるもの、また、このような重合後ホルムアルデヒド捕捉剤を添加することで残存ホルムアルデヒドの含有量を低減させるものとする。 （もっと読む）

【課題】 水分含有量が少ないにもかかわらず粘度が低く、積層体のマトリックス樹脂として使用した場合に含浸性が良好であり、しかも、硬化後の寸法収縮が小さい熱硬化性フラン樹脂組成物及びこれを用いたフラン樹脂積層体の提供。
【解決手段】 フラン樹脂（Ａ）と硬化触媒（Ｂ）とからなる熱硬化性フラン樹脂組成物において、フラン樹脂（Ａ）は、フルフリルアルコールとホルムアルデヒドとの共縮合物（ａ１）と、反応性希釈剤（ａ２）とからなることを特徴とする熱硬化性フラン樹脂組成物及びこれを用いたフラン樹脂積層体による。 （もっと読む）

【課題】アリルエーテル化フェノール類の二量体を主成分とするノボラック型フェノール樹脂を高収率で得ることができる製造方法、及び該製造方法により得られるアリルエーテル化ノボラック型フェノール樹脂を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表されるアリルーテル化フェノール類を、酸触媒の存在下、アルデヒド類と反応させることによりアリルエーテル化ノボラック型フェノール樹脂の製造方法。


（式中、Ｒ_１がアルキル基、アルケニル基、アリール基、ハロゲンを示すか、またはＲ_２およびフェノールのベンゼン環と一緒になっての縮合環を形成してもよく、Ｒ_２、Ｒ_３は、独立して、アルキル基、アルケニル基、アリール基、または水素元素を示す。ただし、Ｒ_２はＲ_１およびフェノールのベンゼン環と一緒になっての縮合環を形成してもよい。） （もっと読む）

【課題】ジベンゾチオフェン骨格を有する化合物を使用して物品の屈折率を付与する際に、当該にジベンゾチオフェン骨格を有する化合物による屈折率向上効果を増大又は調整する方法を提供すること。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表されるジベンゾチオフェン骨格を有する化合物を使用して物品の屈折率を付与する方法において、前記式（Ｉ）におけるＡ環及び／又はＢ環に芳香環を縮合させることにより、前記化合物による屈折率付与効果を増大させる方法を使用する。
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【課題】超音波を照射する特別な装置を用いることなく、また、リン成分を含有することのない、平均粒子径が１μｍ以下の微細な球状のフラン−アルデヒド樹脂粒子を製造する方法を提供すること。
【解決手段】フルフリルアルコールとアルデヒド類とを、保護コロイドの存在下、炭素数が８以上のアルキル基を有するアルキルベンゼンスルホン酸からなる有機酸触媒を用いて、反応せしめることにより、平均粒子径が１μｍ以下の球状のフラン−アルデヒド樹脂粒子を得た。 （もっと読む）

【課題】無置換又はアルキル置換ベンズアルデヒドとビニルエーテル化合物との新規な交互共重合体を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される繰り返し構造単位を有する交互共重合体。


（式中、Ｒ¹はアルキル基、Ｒ²は２価の炭化水素基、Ｘは電子吸引性基を示す。ｎは０〜５の整数を示す。）この交互共重合体は、添加塩基とルイス酸を含む開始剤との存在下、ベンズアルデヒド類と、ビニルエーテルとを共重合させることにより製造できる。 （もっと読む）

【解決手段】スルホ基又はそのアミン塩で置換された炭素数６〜３０の芳香族炭化水素基を有するノボラック樹脂を含有することを特徴とするフォトレジスト下層膜形成材料。
【効果】本発明のフォトレジスト下層膜形成材料は、必要により反射防止効果のある中間層と組み合わせることによって、２００ｎｍ以上の膜厚で十分な反射防止効果を発揮できるだけの吸光係数を有し、基板加工に用いられるＣＦ₄／ＣＨＦ₃系ガス及びＣｌ₂／ＢＣｌ₃系ガスエッチングの速度も通常のｍ−クレゾールノボラック樹脂よりも強固であり、高いエッチング耐性を有する。また、塩基性物質を吸着したポーラス低誘電率膜からの汚染に対する耐性（ポイゾニング耐性）に優れ、パターニング後のレジスト形状も良好である。 （もっと読む）

【課題】、硬化物における強度、柔軟性、及び淡色性に優れたレゾール型フェノール樹脂を提供する。
【解決手段】レゾール型フェノール樹脂であって、該レゾール型フェノール樹脂構造中に、フェノール性水酸基を炭素原子数が２又は３の脂肪族炭化水素基でエーテル化した構造を有するフェニルアルキレンエーテル構造部位（Ｉ）を該レゾール型フェノール樹脂構造中の芳香核数１００モルに対して２〜１０モルとなる割合で含有しており、かつ、該レゾール型フェノール樹脂の水溶液におけるｐＨが６〜８の範囲にある。 （もっと読む）