国際特許分類[C08G65/34]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物 (33,999) | 高分子の主鎖にエーテル連結基を形成する反応により得られる高分子化合物 (2,463) | ヒドロキシ化合物またはその金属誘導体からの (756)
国際特許分類[C08G65/34]の下位に属する分類
フルフリルアルコール (4)
フェノールから誘導されるもの (386)
重合後の処理,例.回収,精製,乾燥 (40)
化学的後処理により変性された重合体 (209)
国際特許分類[C08G65/34]に分類される特許
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ジオキサン−を基礎とするジ(ケテンアセタ−ル)由来の生物侵食性ポリ(オルトエステル)およびそれらを含有するブロック共重合体
ジオキサン−骨格を有するジ(ケテンアセタ−ル)類由来の、整形外科用埋設物、または医療用剤、化粧用剤および農業用剤の持続性送達用送達媒体として有用な、生物侵食性ポリ(オルトエステル)類。これらの生物侵食性ポリ(オルトエステル)類を含有するブロック共重合体。これらのブロック共重合体は、親水性ブロックおよび疎水性ブロックの両方を有する。これらは水性溶液中でミセルを形成するので、疎水性または水−不溶性材料の封じ込めまたは可溶化に適しており;さらにそれらは、活性成分の持続性放出のための生物侵食性マトリックスも形成する。 (もっと読む)
リソグラフィー用反射防止膜形成組成物
半導体装置の製造に用いられる波長の光に良好な光吸収性を示し、高い反射光防止効果を持ち、フォトレジスト層と比較して大きなドライエッチング速度を有する反射防止膜のための反射防止膜形成組成物を提供する。具体的には、窒素原子上の置換基としてヒドロキシアルキル構造を有するトリアジントリオン化合物、オリゴマー化合物又は高分子化合物、を含むことを特徴とする反射防止膜形成組成物である。 (もっと読む)
ポリエーテルイミド製造における環状物の形成を低減する新規方法
ポリエーテルイミドの製造における不要環状オリゴマー副産物の量を低減する方法が開示されている。得られるポリエーテルイミドは高まった熱機械特性を有している。 (もっと読む)
生化学的に誘導された1,3−プロパンジオールからの優れた品質のポリトリメチレンエーテルグリコール
1,3−プロパンジオールの重量を基準にして約10マイクロg/g以下の過酸化物化合物を含む、1,3−プロパンジオールを好適な重合触媒と接触させてポリトリメチレンエーテルグリコールを製造する工程を含む方法が提供される。 (もっと読む)
ポリトリメチレンエーテルグリコールの水素化
色を有するPO3Gを水素化触媒の存在下で水素と接触させる工程を含む方法であって、PO3Gが、水素化後に、約50未満のAPHA色を有する方法。 (もっと読む)
新規電荷輸送性ポリマー、その製造法およびそれを用いた有機電子デバイス
【課題】 溶解性、成膜性、機械的強度、正孔移動度に優れ、繰り返し安定性に優れた新規電荷輸送性ポリマー、その製造方法、およびそれを用いた電子写真感光体などの有機電子デバイスを提供する。
【解決手段】 下記一般式(I)で示される電荷輸送性ポリマー。
【化1】
〔式中、R1 およびR2 は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシル基、置換アミノ基、ハロゲン原子、または置換もしくは未置換のアリール基を表し、Xは置換または未置換の2価の芳香族基を表し、yは0または1の整数を表し、mは0または1の整数を表し、nは1〜5の整数を表し、pは5〜5000の整数を表し、末端基Rは水素原子、アルキル基、アシル基または、−CONH−R′(ただし、R′はアルキル基または置換もしくは未置換のアリール基を表す。)を表す。〕
(もっと読む)
高分子化合物及びそれよりなる光学成形品
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