【課題】電子デバイスなどの層間絶縁膜に用いられる低い誘電率と優れた機械強度を有する層間絶縁膜を形成できる絶縁膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも下記一般式（１）で表される化合物と下記一般式（２）で表される化合物とを酸触媒により脱水縮合して得られるポリマーを含有することを特徴とする。
【化１】


（Ｒ_１〜Ｒ_４のうち、少なくとも２つはヒドロキシル基、メトキシ基等から選ばれ、残りはメチル基、エチル基等から選ばれる。Ａはカゴ型構造を有する構造を表し、Ｙ_１〜Ｙ_４のうち少なくとも２つはヒドロキシル基であり、残りは水素、メチル基、エチル基等から選ばれる。） （もっと読む）

フッ素化エーテル基及びシラン基を有するカチオン性化合物を含む、組成物が提供され、その化合物は下記の式を有する。

（もっと読む）

（Ａ）１分子あたり平均して少なくとも１．４個のアルケニル基を有する有機ポリマー１００重量部；（Ｂ）組成物を硬化するのに十分な量の、１分子あたり平均して少なくとも１．４個のＳｉ−Ｈ基を有する架橋剤；（Ｃ）組成物の硬化を生じさせるのに十分な量の白金族金属含有触媒；（Ｄ）（Ａ）１００重量部あたり０．１〜２０重量部の、２００〜５，０００の数平均分子量を有し、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、イソブチレンとイソプレンとのコポリマー、イソプレンとブタジエンとのコポリマー、イソプレンとスチレンとのコポリマー、ブタジエンとスチレンとのコポリマー、イソプレンとブタジエンとスチレンとのコポリマー、およびポリイソプレン、ポリブタジエン、イソプレンとスチレンとのコポリマー、ブタジエンとスチレンとのコポリマーまたはイソプレンとブタジエンとスチレンとのコポリマーを水素化して得られるポリオレフィンポリマーの群から選ばれるポリマー骨格を有するアルコキシシリル置換有機オリゴマー；ならびに任意でＴｉ−Ｏ−Ｃ結合を有するチタン化合物を含むヒドロシリル化硬化性組成物。この組成物は基材に対し改善された接着性を与える。 （もっと読む）

加水分解性ポリマーを作製するための改善されたプロセスであって、当該プロセスは、とりわけ、特定のシリルオルガノハライド化合物とシアン酸の塩とを活性水素含有ポリマーの存在下において反応させることを含む。 （もっと読む）

【課題】高屈折率で可視光透過率が高く、熱負荷後のクラック耐性に優れた硬化膜を形成しうるシロキサン系樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アルミニウム、スズ、チタンおよびジルコニウムからの少なくとも１種の金属化合物粒子の存在下、アルコキシシラン化合物を、溶媒中、酸触媒により加水分解し、縮合反応させた反応生成物と、一般式（１）または（３）の熱架橋性化合物を含有する。
（もっと読む）

【課題】半田耐熱性に優れ、かつ成形時における離型性、連続成形性、樹脂硬化物表面の外観、金型汚れ性等とのバランスに優れるエポキシ樹脂組成物及び半導体装置を提供すること。
【解決手段】（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）フェノール樹脂系硬化剤、（Ｃ）ポリカプロラクトン基を有するオルガノポリシロキサン（ｃ１）、及び／又は、ポリカプロラクトン基を有するオルガノポリシロキサン（ｃ１）とエポキシ樹脂との反応生成物（ｃ２）、並びに（Ｄ）一般式（１）で表されるオルガノポリシロキサンを含むことを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 （もっと読む）

本発明の主題は、
ａ）コア−オルガノポリシロキサンポリマーＡ、コポリマーの全質量に対して１０〜９５質量％、
ｂ）式
（Ｒ₃ＳｉＯ_1/2）_w（Ｒ₂ＳｉＯ_2/2）_x・（Ｒ₁ＳｉＯ_3/2）_y・（ＳｉＯ_4/2）_z
［式中、ｗ＝０〜２０Ｍｏｌ％、ｘ＝０〜９９．５Ｍｏｌ％、ｙ＝０．５〜１００Ｍｏｌ％、ｚ＝０〜５０Ｍｏｌ％である］
の単位からなるポリジアルキルシロキサンシェルＢ、コポリマーの全質量に対して０．５〜３０質量％、
ｃ） モノオレフィン系不飽和モノマー又はポリオレフィン系不飽和モノマーのオルガノポリマーからなるシェルＣ、コポリマーの全質量に対して０〜８９．４５質量％及び
ｃ） モノオレフィン系不飽和モノマーのオルガノポリマーからなるシェルＤ、コポリマーの全質量に対して０．０５〜８９．５質量％
から構成され、
上記式中、Ｒは、請求項１に記載した意味合いを有し、かつ、この粒子は、１０〜３００ｎｍの平均粒径及び単峰性の粒径分布を有し、
但し、ポリジアルキルシロキサンシェルＢ中で少なくとも５％の残基Ｒは、アルケニル残基、アシルオキシアルキル残基及びメルカプトアルキル残基から選択される意味合いを有する、との条件付きである、
エラストマーの粒子形状のコア−シェルコポリマー及びその製造方法である。 （もっと読む）

【課題】高純度のシリコーン変性オレフィン系ワックス、およびこのシリコーン変性オレフィン系ワックスを含有する化粧料を提供すること。
【解決手段】本発明に係るオレフィン系ワックス（Ａ）は、（i）エチレンと少なくとも
１種のジエンとを共重合して得られる共重合体（Ａ１）、またはエチレンと炭素数３〜１２のα−オレフィンから選ばれる少なくとも１種のオレフィンと少なくとも１種のジエンとを共重合して得られる共重合体（Ａ２）であり、（ii）１分子あたりの不飽和基含有量が０．５〜３．０個であり、（iii）密度が８７０〜９８０ｋｇ／ｍ³であり、（iv）融点が７０〜１３０℃であり、（v）数平均分子量が４００〜５，０００であり、（vi）重量
平均分子量と数平均分子量との比（Ｍｗ／Ｍｎ）が４．０以下である。このオレフィン系ワックス（Ａ）とハイドロジェンシリコーンとを反応させることにより高純度のシリコーン変性オレフィン系ワックスが得られる。 （もっと読む）

【課題】階層状に異なる有機基で修飾されたメソ細孔を有し、同一粒子内における細孔の部位によって異なる性質を発揮させることが可能なコアシェル型球状シリカ系メソ多孔体を提供すること。
【解決手段】スルホン酸基、カルボン酸基及びアミノ基からなる群から選択される少なくとも１種の官能基を有する第一の有機基が導入された第一のシリカからなるコア粒子と、
脂肪族化合物系有機基及び環式化合物系有機基からなる群から選択される少なくとも１種の第二の有機基が導入された第二のシリカからなり、前記コア粒子の外側に積層されているシェル層と、
を備えることを特徴とするコアシェル型球状シリカ系メソ多孔体。 （もっと読む）

（ａ）アルデヒドベースのレドックス開始剤を供給する工程；及び（ｂ）前記レドックス開始剤と、複数の水素化物末端キャップ成分を有するシロキサンとを反応させて、複数の末端アルデヒド成分を有するシロキサンポリマーを生成させる工程；を含むシロキサンポリマーの製造方法。 （もっと読む）