【課題】 高いレターデーション発現性を有するセルロースアシレートフィルムを提供する。
【解決手段】 熱特性が一定条件を満たす特定の置換度を有するセルロースアシレートを用いることにより、溶融製膜したフィルムのレターデーション発現性が飛躍的に向上する。 （もっと読む）

【課題】コーナームラが低減された、優れた表示特性および視野角特性を有する液晶表示装置の提供。
【解決手段】棒状化合物からなるレターデーション発現剤を含むセルロースアシレートフィルム。前記フィルムの正面レターデーションＲｅは５０〜１００ｎｍの範囲であり、膜厚方向のレターデーションＲｔｈが１３０〜２５０ｎｍの範囲であり、膜厚が４０〜９０μｍの範囲である。偏光膜と、該偏光膜を挟持する一対の保護膜とを有する偏光板。前記保護膜の少なくとも一枚が前記セルロースアシレートフィルムである。前記セルロースアシレートフィルムまたは前記偏光板を有する液晶表示装置。液晶セルと該液晶セルの両側に配置された一対の偏光板を有する液晶表示装置。前記偏光板が前述の偏光板であることを特徴とするＯＣＢまたはＶＡモード液晶表示装置。前記偏光板をバックライト側に用いたＶＡモード液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】 黄色味が小さくて、ダイラインがないセルロースアシレートフィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】 構造が規定されたフェノール系劣化防止剤をセルロースアシレートに添加して溶融製膜する。 （もっと読む）

【課題】 膜厚方向のレターデーション値（Ｒｔｈ）が負である光学用途に適したセルロースアシレートフィルムを提供すること。
【解決手段】 リンタ由来で下記式（Ｉ）〜（III）を満足するセルロースアシレートからなり、且つ膜厚方向のレターデーション値が０ｎｍ未満であるセルロースアシレートフィルム。
（Ｉ） ２．８７≦ＳＡ＋ＳＰ≦３
（II） ０≦ＳＡ≦１．７
（III) １．３≦ＳＰ≦２．９
（ＳＡはセルロースの水酸基に置換されているアセチル基の置換度、ＳＰはセルロースの水酸基に置換されているプロピオニル基の置換度を表す。） （もっと読む）

【課題】 表面硬度、耐擦傷性、耐摩耗性および密着性に優れ、低硬化収縮性でカールが少ない硬化被膜を得ることができる硬化性組成物、及びその硬化被膜を有する被覆物品を提供する。
【解決手段】 イソシアヌレート骨格を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）、無機微粒子（ｂ１）および有機シラン化合物の加水分解生成物（ｂ２）を縮合反応して得られる有機被覆無機微粒子（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、溶剤（Ｄ）を含んでなる光学用活性エネルギー線硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】 ＲｅとＲｔｈの発現領域が広くて湿度による変化が小さく、且つ偏光膜と貼り
合わせる際に優れたケン化適性と偏光膜に対する接着性を示すセルロースアシレートフィ
ルムを提供すること。
【解決手段】 組成が異なる複数のセルロースアシレート溶融物を共溶融流延することに
より形成した組成が異なる複数の層を有することを特徴とするセルロースアシレートフィ
ルム。 （もっと読む）

【課題】 液晶表示装置に組み込んだときに発生する表示むらを改善することができるセルロースアシレートフィルムを提供すること。
【解決手段】 厚み方向の変動幅がフィルム厚の０．１〜１０％であり且つ面内の幅が１〜２０ｍｍであるＶ字状の厚みむらの数が、フィルムの長手方向１００ｍあたり０箇所〜１０箇所であるセルロースアシレートフィルム。 （もっと読む）

アセテートフィルムの保存による劣化から生じる表面及び内部の酸成分を除去する方法が提供される。かかる方法は、劣化アセテートフィルムの表面、及び内部から酸成分を抽出して除去することを特徴とし、該抽出には、溶媒抽出処理、および減圧（加熱）処理が含まれる。この方法によりアセテートフィルムの保存による劣化促進が抑制される。
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【課題】点欠陥のない面状の良好な偏光板の偏光板保護フィルムとして好適なセルロースアシレートフィルムを与える鹸化処理方法を提供する。
【解決手段】水酸化物イオン濃度とイオン強度が下記式（Ａ）及び（Ｂ）を満たすアルカリ水溶液で処理するセルロースアシレートフィルムの鹸化方法。
０．０５mol/Ｌ≦水酸化物イオン濃度≦５mol/Ｌ （Ａ）
１．０５≦イオン強度/水酸化物イオン濃度≦５．００ （Ｂ） （もっと読む）

【課題】表面の親水化により優れた密着性が付与される高分子フィルム表面の親水化処理方法およびそれにより得られる高分子フィルムを提供する。
【解決手段】大気圧プラズマ発生装置内の、対向する高圧電極１と低圧電極２の間に高分子フィルムＧを配置させ、その装置内で発生した大気圧プラズマにより、上記高分子フィルムＧ表面を親水化処理する方法である。このとき、Ｆ₂ ガスを必須成分として含有する雰囲気ガス中で大気圧プラズマによる処理を行う。 （もっと読む）